阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板(TFT-1XD)具有显示质量高、功耗低、无辐射等优点，近几年发展十分迅速，并在各个领域得到了广泛的应用。
[0003]现有的液晶显示面板主要包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，其中，在阵列基板的制作工艺中，通常需要对制作的阵列基板的各方面性能进行检测，例如，在检测阵列基板的电学性能时，为减少测试垫的数目，通常利用Shorting Bar (短路布线)技术，然而，由于采用Shorting Bar (短路布线)技术的测试垫通常面积比较大，且高度较高，在进行后续的取向膜摩擦工艺时，这些测试垫容易对摩擦布造成损伤，从而导致摩擦不良。
【发明内容】
[0004](一 )要解决的技术问题
[0005]本发明要解决的技术问题是:如何减小现有技术中阵列基板的测试垫对摩擦布造成的损害。
[0006]( 二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供了一种阵列基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的测试垫和取向膜，所述测试垫的表面设置有沟槽，且所述沟槽的延伸方向与所述取向膜的摩擦取向方向一致。
[0008]优选地，所述测试垫包括设置在所述衬底基板上的第一导电层、绝缘层和第二导电层，所述第二导电层通过所述绝缘层上的过孔与所述第一导电层电连接。
[0009]优选地，所述第一导电层包括多条相互平行的条状金属，所述绝缘层与所述第二导电层厚度均匀从而在所述测试垫的表面形成所述沟槽。
[0010]优选地，所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域，所述阵列基板的显示区域包括设置在所述衬底基板上的栅线、第一保护层、像素电极，所述第一导电层与所述栅线为相同材料并同层设置，所述绝缘层与所述第一保护层为相同材料并同层设置，所述第二导电层与所述像素电极为相同材料并同层设置。
[0011]优选地，所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域，所述阵列基板的显示区域包括设置在所述衬底基板上的数据线、第二保护层、像素电极，所述第一导电层与所述数据线为相同材料并同层设置，所述绝缘层与所述第二保护层为相同材料并同层设置，所述第二导电层与所述像素电极为相同材料并同层设置。
[0012]优选地，所述衬底基板上还设置有短路布线，所述测试垫与所述短路布线相连。
[0013]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种显示面板，包括上述的阵列基板。
[0014]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
[0015]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种阵列基板的制作方法，包括:
[0016]在衬底基板上形成测试垫，所述测试垫的表面形成有沟槽；
[0017]在所述衬底基板上形成取向膜，所述取向膜的摩擦取向方向与所述沟槽的延伸方向一致。
[0018]优选地，所述在衬底基板上形成测试垫包括:
[0019]在所述衬底基板上形成第一导电层，所述第一导电层包括多条相互平行的条状金属；
[0020]在所述第一导电层上形成厚度均匀的绝缘层和厚度均匀的第二导电层，所述第二导电层通过所述绝缘层上的过孔与所述第一导电层电连接。
[0021]优选地，所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域，所述阵列基板的显示区域包括形成在所述衬底基板上的栅线、第一保护层、像素电极，所述第一导电层与所述栅线在一次构图工艺中同时形成，所述绝缘层与所述第一保护层在一次构图工艺中同时形成，所述第二导电层与所述像素电极在一次构图工艺中同时形成。
[0022]优选地，所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域，所述阵列基板的显示区域包括形成在所述衬底基板上的数据线、第二保护层、像素电极，所述第一导电层与所述数据线在一次构图工艺中同时形成，所述绝缘层与所述第二保护层在一次构图工艺中同时形成，所述第二导电层与所述像素电极在一次构图工艺中同时形成。
[0023](三)有益效果
[0024]本发明提供的阵列基板，通过在测试垫的表面形成沟槽，在对取向膜摩擦取向时，能够减小对摩擦布的损伤，进而减少摩擦不良，同时提高摩擦布的寿命。
【附图说明】
[0025]图1是本发明实施方式提供的一种阵列基板的示意图；
[0026]图2是图1中的测试垫的俯视图；
[0027]图3是本发明实施方式提供的另一种阵列基板的示意图；
[0028]图4是图3中的测试垫的俯视图。
【具体实施方式】
[0029]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0030]图1是本发明实施方式提供的一种阵列基板，该阵列基板包括衬底基板100以及形成在所述衬底基板100上的测试垫200和取向膜，其中，所述测试垫200的表面设置有沟槽210，且所述沟槽210的延伸方向与所述取向膜的摩擦取向方向一致；
[0031]参见图2，图2是图1中的测试垫的俯视图，在该测试垫的表面上设置有多个相互平行的条状凸起220，通过使条状凸起220的延伸方向与取向膜的摩擦方向相一致，从而使得相邻两个凸起220之间的沟槽的延伸方向与取向膜的摩擦方向相一致。
[0032]本发明实施方式提供的阵列基板，通过在测试垫的表面形成沟槽，在对取向膜摩擦取向时，能够减小对摩擦布的损伤，进而减少摩擦不良，同时提高摩擦布的寿命。
[0033]为形成上述形状的测试垫，可以首先在衬底基板上形成一层较厚的导电薄膜，再采用构图工艺对该导电薄膜部分区域上部分的厚度进行刻蚀，从而在其表面形成所需的沟槽，优选地，由于测试垫通常形成在阵列基板的非显示区域，为减少该阵列基板的构图工艺次数，上述测试垫可以在制作阵列基板显示区域上的层结构图案的同时制作得到。
[0034]参见图3，图3是本发明实施方式提供的另一种阵列基板的示意图，该阵列基板包括衬底基板100以及形成在衬底基板100上的测试垫和取向膜；
[0035]其中，该测试垫包括设置在衬底基板100上的第一导电层201、绝缘层202和第二导电层203，第二导电层203通过绝缘层202上的过孔与第一导电层201电连接；
[0036]如图4所示，第一导电层201包括多条相互平行的条状金属2011，绝缘层202上与条状金属2011对应的位置上开设有过孔2021，使得第二导电层203能够通过过孔2021与第一导电层201电连接；
[0037]在该测试垫中，由于条状金属2011的延伸方向与取向膜的摩擦方向相一致，且绝缘层202与第二导电层203在各处厚度均匀，从而能够在该测试垫的表面形成延伸方向与取向膜的摩擦方向一致的沟槽。
[0038]例如，对于TN模式的阵列基板，其显示区域包括设置在衬底基板上的栅极(与栅线同层)、第一保护层(即栅绝缘层)、有源层、源漏极(与数据线同层)、第二保护层(即钝化层)、像素电极；
[0039]当上述的测试垫用于测试阵列基板显示区域上的栅线时，该测试垫连接至对应