专利名称：用于真空镀膜设备的多功能基片架的制作方法
技术领域：
本发明属于真空镀膜设备附件制造技术领域，涉及一种基片架，具体涉及一种用于真空镀膜设备的多功能基片架。
背景技术：
真空镀膜设备中具有一个或多个基片安装架，用于固定需要镀膜的基片。光学薄膜是真空镀膜中的一种产品，镀制光学薄膜的设备较其他的真空镀膜设备相对较大，基片架的形状较大、个数较多。在镀制光学薄膜的过程中，需要根据基片的形状尺寸进行基片架的设计以满足镀膜要求，但是在实际的光学薄膜的研制和生产过程中，不同用户对最终光学薄膜基底的形状、厚度等尺寸的要求不尽相同，这就需要设计和加工不同的基片架，给镀膜前带来了麻烦，造成财力、人力以及时间的浪费。特别是对于时间要求比较短的产品研制来说，往往来不及加工一种新的基片架。上述问题不仅仅存在于光学薄膜的镀制过程，其他真空镀膜也存在同样的问题。
发明内容
为了克服上述现有技术中存在的问题，本发明的目的是提供一种用于真空镀膜设备的多功能基片架，能安装固定不同形状和尺寸的基片，节省财力、人力和时间。为实现上述目的，本发明所采用的技术方案是，一种用于真空镀膜设备的多功能基片架，包括安装盘和至少两根安装条，安装盘上平行设置有两条长条形的滑槽，安装条上加工有两个安装孔，两个安装孔的中心距与两条滑槽的中心距相等。安装条上、与安装孔轴线相平行的两个侧面上分别设置有一个凸出的台阶。安装条上、与安装孔轴线相平行的两个侧面中的一个侧面上设置有一个凸出的台阶。台阶的厚度为0. Imm 0. 2mm。本发明基片架的安装盘上加工有两条平行的滑槽，通过该两条滑槽安装多根安装条，在相邻的两根安装条之间放置多个形状尺寸相同的基片。该适合不同形状的基片，具有安装简单、便于清洗等特点。能够满足目前光学薄膜镀制设备对几乎全部的基片的镀膜要求。此外，该基片架完全可以应用到其他的真空镀膜设备上。
图1是本发明基片架的结构示意图。图2是图1的左视图。图3是本发明基片架中安装条的结构示意图。图4是图3的俯视图。图中，1.安装盘，2.滑槽，3.安装条，4.螺钉，5.螺母，6.本体，7.台阶，8.安装孔。
具体实施例方式下面结合附图和具体实施方式
对本发明进行详细说明。在表面工程技术领域，物理气相沉积是一种比较成熟的技术，主要包括磁控溅射、 离子束溅射、电弧离子镀以及电子枪蒸发等多种沉积方式，在这些方式的沉积设备中一般都需要有专门的沉积基底安装机构，在镀膜领域中，我们称之为基盘架。目前沉积设备上常见的基盘架主要为圆形的金属结构。为了满足不同形状的镀膜基片，在实际镀膜过程中往往在一定尺寸大小的不锈钢板上面加工一定数量的与基片尺寸一样的孔，然后，将需镀膜的基片放入不锈钢板上的孔中。这就造成了在镀制薄膜的前期需要花费很大的精力和财力来对基片架进行设计和加工，同时基片架的加工还需要一定的时间，对产片研制单位或人员来说一种时间和财力的极大浪费。为了克服上述现有技术中存在的问题，本发明主要结合光学薄膜镀膜过程中存在的基盘架设计加工浪费的问题，本着节约不同产品研制时间的目的，提供了一种适合镀制不同形状基片的基片架，该基片架不仅仅适合光学薄膜的镀制，它还可以广泛的应用的不同薄膜的镀制中，能够大大的减少不同产品的研制成本和研制周期。本发明基片架设计思路巧妙，在一定材料的薄板(根据要求可以选择不同的材料和形状)上面加工两个一定宽度的狭缝，同时加工具有固定功能的安装条，根据基片的尺寸，通过调整螺钉的位置，调整相邻两安装条之间的距离，用于安装固定不同形状和尺寸的基片。如图1和图2所示，本发明基片架的结构，包括安装盘1和至少两根安装条3 ；安装盘1上平行设置有两条长条形的滑槽2。按照要求或者本着节约的原则，安装盘1的材料、形状和厚度可以不同。安装条3的结构，如图3和图4所示，包括本体6，本体6为长方体，本体6上加工有两个安装孔8，两个安装孔8的中心距与两条滑槽2的中心距相等；本体6上、与安装孔 8轴线相平行的两个侧面上分别设置有一个凸出的台阶7，该两个台阶7与本体6为一个整体，并形成“T”字形；台阶7也可以是一个，其与本体6形成“L”形。台阶7的厚度L为 0. 1 0. 2mm。台阶7的厚度为0. 1 0. 2mm,不能太厚，以防止造成镀膜阴影；台阶7的深度H 一般为几毫米，尽量接近基片的厚度，如果安装条3采用硬质材料制作，台阶7的深度选择 Imm就可以满足要求。为了便于安装基片架，可以在安装盘1上设置一个把手。安装条3—般选用不锈钢或金属铜制成，也可以按要求选择不同的材料制作而成，安装条3的长度无特殊要求，但不能超过安装盘1的边界。设计图如图2所示。安装基片时先清洗安装盘1，然后，将安装条3放置在安装盘1上，使安装条3上的台阶7朝向远离安装盘1的方向设置，在安装条3上的两个安装孔8中分别穿入螺钉4， 螺钉4穿过安装孔8进入滑槽2，并从滑槽2的另一端伸出，在螺钉4上套装螺母5 ；将需要镀膜的相同形状和尺寸的基片放置在相邻两安装条3之间的安装盘1上，基片需镀膜的面向上，移动该相邻的两安装条3，使两安装条3上相对的台阶7分别压在基片的两边，拧紧螺钉4使得两个安装条3紧紧压住基片，固定基片，同一安装盘1上可以设置多根安装条 3，可以同时安装数量很多的相同形状和尺寸的基片，也可以安装固定不同形状和尺寸的基片，实现批量生产不同产品的目的；将安装有基片的基片架放入真空镀膜设备中，对基片进行镀膜。基片在安装盘1上最终排列为几排，基片的安装总数决定于安装盘1的大小。
本发明基片架能够满足真空镀膜中光学薄膜以及其他真空镀膜设备中对不同尺寸和形状的基片的镀膜安装要求。通过本发明能够大大减少真空镀膜中基片架设计加工的浪费，缩短不同产品的研制周期等等，并能实现批量镀膜。
权利要求
1.一种用于真空镀膜设备的多功能基片架，其特征在于，该基片架包括安装盘(1)和至少两根安装条(3 )，安装盘(1)上平行设置有两条长条形的滑槽(2 )，安装条(3 )上加工有两个安装孔(8)，两个安装孔(8)的中心距与两条滑槽(2)的中心距相等。
2.根据权利要求1所述的多功能基片架，其特征在于，所述的安装条(3)上、与安装孔 (8)轴线相平行的两个侧面上分别设置有一个凸出的台阶(7)。
3.根据权利要求1所述的多功能基片架，其特征在于，所述的安装条(3)上、与安装孔 (8)轴线相平行的两个侧面中的一个侧面上设置有一个凸出的台阶(7)。
4.根据权利要求2或3所述的多功能基片架，其特征在于，所述台阶(7)的厚度为 0. Imm 0. 2mmο
全文摘要
本发明公开了一种用于真空镀膜设备的多功能基片架，包括安装盘和至少两根安装条，安装盘上平行设置有两条长条形的滑槽，安装条上加工有两个安装孔，两个安装孔的中心距与两条滑槽的中心距相等。本发明基片架能够满足真空镀膜中光学薄膜以及其他真空镀膜设备中对不同尺寸和形状的基片的镀膜安装要求。通过本发明能够大大减少真空镀膜中基片架设计加工的浪费，缩短不同产品的研制周期等等，并能实现批量镀膜。
文档编号C23C14/50GK102330065SQ201110283620
公开日2012年1月25日 申请日期2011年9月22日 优先权日2011年9月22日
发明者张玲, 李晨, 熊玉卿, 王多书, 王济洲, 王超, 董茂进, 陈焘 申请人:中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所