专利名称：真空镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空镀膜装置，尤其涉及一种在给反光镜片镀膜时具有修正板的真空镀膜装置。
背景技术：
反光镜片在镀膜生产时，需要在反光镜片的基片上镀上光学薄膜，而膜层的均匀性的好坏，则直接影响着膜系的特性及反光镜片的质量。而反光镜片常用的镀膜装置如图I所示，包括镀膜室I、承载架2及镀膜源3。在镀膜室I的顶部配置有旋转马达(图中未示出)，承载架2通过连接轴与旋转马达相连，并悬挂在镀膜室I的中央位置；镀膜源3设置在镀膜室I的底部。镀膜时，将反光镜片8基片放置在镀膜室内承载架的夹具上，承载架通过旋转马达的带动，按一定转速旋转，同时，在镀膜源上施加电流，使其散发蒸气，从而对反光镜片进行镀膜。但是由于系统配置及蒸发源蒸发特性的原因，夹具上不同位置处淀积到薄膜的厚度是不完全相同的，由于镀膜源与承载架上各夹具位置不均衡，使得在镀膜过程中，反光镜片不能有很好的膜层均匀性，镜片左右两边的膜厚分布不均匀，从而使得制得的反光镜质量较差，在使用时，照射出来的光是五颜六色的。为了提高产业化镀膜效率，仅仅利用系统的自然均匀性是不行的。因此，如何提高镀膜室内光学薄膜厚度分布的均匀性，从而提高光学薄膜元件的质量和成品率，是本实用新型要研究的内容。
发明内容本实用新型提供一种真空镀膜装置，其目的是解决现有技术中镀膜室内的光学薄膜厚度分布的不均匀的问题，从而提高光学薄膜元件的质量和成品率。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室、承载架及镀膜源，所述真空镀膜室的顶部设有旋转马达，承载架与旋转马达相连，并悬挂在真空镀膜室的中央位置；所述镀膜源设置在镀膜室的底部；所述承载架上连接设有至少两个行星工件盘；还包括一修正板，该修正板固设于镀膜源和行星工件盘的之间。上述技术方案中的有关内容解释如下I、上述方案中，所述至少两个的行星工件盘绕真空镀膜室的周向上均布。2、上述方案中，所述每个行星工件盘设有至少三个的待镀元件装夹位。3、上述方案中，所述真空镀膜室的底部固设一支撑杆，该支撑杆的顶部与修正板固定连接。4、上述方案中，所述修正板为弧形。本实用新型的原理是光学薄膜元件赋予光学元件各种使用性能，对光学仪器的质量起着重要的作用，其中，光学薄膜的厚度均匀性便是最为突出的一个。光学薄膜厚度均匀性是指光学薄膜的厚度随着夹具表面位置的变化而变化的一种性质。在实际的镀膜生产中，就要求在镀膜装置的夹具上尽可能多地放置基片，并镀制的光学薄膜同时达到质量要求。本实用新型修正板的作用就是采用截流蒸气云静止挡板技术，来消除真空镀膜室内膜厚分布的不均匀性。将特定形状的静止修正板，置于镀膜源和行星工件盘(被镀光学元件) 之间，以改变真空镀膜室中膜厚分布，使行星工件盘各个位置上的膜厚达到均匀的要求。由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点I、由于本实用新型使用，消除了真空镀膜室内膜厚分布的不均匀性。将特定形状的静止修正板，置于镀膜源和行星工件盘(被镀光学元件)之间，以改变真空镀膜室中膜厚分布，使行星工件盘各个位置上的膜厚达到均匀的要求。本实用新型工艺简单、方便可靠。
附图I为现有技术结构示意图；附图2为本实用新型结构示意图。以上附图中1、真空镀膜室；2、承载架；3、镀膜源；4、修正板；5、行星工件盘；6、 待镀元件装夹位；7、支撑杆；8反光镜片。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述实施例如图2所示，一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室I、承载架2及镀膜源3，所述真空镀膜室I的顶部设有旋转马达，承载架2与旋转马达相连，并悬挂在真空镀膜室I的中央位置；所述镀膜源3设置在镀膜室的底部；所述承载架2上连接设有至少两个行星工件盘 5 ;这至少两个的行星工件盘5绕真空镀膜室I的周向上均布。所述每个行星工件盘5设有至少三个的待镀元件装夹位6。还包括一修正板4，该修正板4为弧形，并固设于镀膜源3和行星工件盘5的之间。 所述真空镀膜室I的底部固设一支撑杆7，该支撑杆7的顶部与修正板4固定连接。在镀膜时镀膜时，将反光镜片8基片装夹在行星工件盘5的待镀元件装夹位6上， 启动旋转马达(图中未示出)，带动承载架2按一定转速旋转，同时，在镀膜源3上施加电流，使其散发蒸气，靠近修正板4位置的蒸汽会被修正板4吸收掉一部分，从而使得整个真空镀膜室I内的膜厚分布均匀，使行星工件盘5各个位置上的待镀元件装夹位6膜厚达到均匀的要求，完成对反光镜片的镀膜。上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。 凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室(I)、承载架(2)及镀膜源(3)，所述真空镀膜室(I)的顶部设有旋转马达，承载架(2)与旋转马达相连，并悬挂在真空镀膜室(I)的中央位置；所述镀膜源(3)设置在镀膜室的底部；其特征在于所述承载架(2)上连接设有至少两个行星工件盘(5);还包括一修正板(4)，该修正板(4)固设于镀膜源(3)和行星工件盘(5)的之间。
2.根据权利要求I所述的真空镀膜装置，其特征在于所述至少两个的行星工件盘(5) 绕真空镀膜室(I)的周向上均布。
3.根据权利要求I所述的真空镀膜装置，其特征在于所述每个行星工件盘(5)设有至少三个的待镀元件装夹位(6)。
4.根据权利要求I所述的真空镀膜装置，其特征在于所述真空镀膜室(I)的底部固设一支撑杆(7)，该支撑杆(7)的顶部与修正板(4)固定连接。
5.根据权利要求I所述的真空镀膜装置，其特征在于所述修正板(4)为弧形。
专利摘要一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室、承载架及镀膜源，所述真空镀膜室的顶部设有旋转马达，承载架与旋转马达相连，并悬挂在真空镀膜室的中央位置；所述镀膜源设置在镀膜室的底部；所述承载架上连接设有至少两个行星工件盘；还包括一修正板，该修正板固设于镀膜源和行星工件盘的之间。本方案解决了现有技术中镀膜室内的光学薄膜厚度分布的不均匀的问题，从而提高光学薄膜元件的质量和成品率。
文档编号C23C14/24GK202347082SQ20112041698
公开日2012年7月25日 申请日期2011年10月28日 优先权日2011年10月28日
发明者朱文斌 申请人:苏州灵菱照明镀膜科技有限公司