1.自分散SiNWs粉体的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
先称取一定量的Ni(NO3)2于40mL烧杯中，缓慢加入蒸馏水至Ni(NO3)2完全溶解；再加入与Ni(NO3)2摩尔比为1∶1的 Si粉，并放置于磁力搅拌器上进行搅拌烘干，恒温65℃，时间约1h，以上过程均在通风厨中进行；将烘干粉体装入氧化铝陶瓷管，并一同放入石英管，在管式炉中进行硝酸镍分解-氢还原反应，其中硝酸镍分解温度300℃，保温20min；氢还原反应温度700℃，还原性气体为含5％ H2 的Ar，保温30min，冷却后得到Ni包Si结构粉体；
将上述Ni包Si结构粉体在管式炉中进行共晶析出反应，温度为980℃，保温时间120min；加热前，通入Ar 气去除装置中的氧气，流量为20mL/min，时间20min；然后开始升温，升温速度5℃/min，到达温度后进入保温阶段，将纯氩气换为5％ H2 ＋95％ Ar混合气体，流量调整为60mL/min，反应完成后产物随炉冷却，得到SiNWs粉体。