蒸镀坩埚及其蒸镀方法与流程

文档序号:12415626阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:坩埚锅体、坩埚盖及加热组件,所述坩埚锅体用于储存蒸镀材料,所述坩埚盖盖合于所述坩埚锅体上,所述坩埚盖具有若干喷孔,所述喷孔用于使汽化后的蒸镀材料分子飞出,所述加热组件设于所述坩埚盖上,且所述加热组件不覆盖所述喷孔,所述加热组件独立地对所述坩埚盖进行加热。

2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚盖包括:盖本体以及由所述盖本体的侧端弯折形成的卡沿,所述盖本体的侧端设于所述坩埚锅体上,所述卡沿设于所述坩埚锅体的外壁上,所述喷孔贯通所述盖本体的内外表面。

3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀坩埚还包括:温度传感器,所述温度传感器设于所述盖本体的内表面上,且所述温度传感器不覆盖所述喷孔,所述温度传感器用于检测所述加热组件的温度,并将检测到的温度转换为输出电信号。

4.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀坩埚还包括:隔热环,所述隔热环设于所述盖本体的侧端与所述坩埚锅体以及所述卡沿与所述坩埚锅体之间,所述隔热环用于减少所述坩埚盖和所述坩埚锅体之间发生热传递。

5.根据权利要求1至4任一项所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述加热组件由条状电阻丝以螺旋环绕的方式在同一水平面上形成至少一个回圈构成。

6.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚,其特征在于,每个回圈以内具有若干所述喷孔。

7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,每个回圈以内的若干所述喷孔沿着圆周均匀分布。

8.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述盖本体呈圆饼状。

9.根据权利要求2或8所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚锅体呈一端开口被封闭的圆筒状。

10.一种权利要求1至9任一项所述的蒸镀坩埚的蒸镀方法,其特征在于,包括步骤:

对坩埚锅体和坩埚盖分别独立地进行加热,使坩埚锅体和坩埚盖以同样的升温速率进行升温,在坩埚锅体和坩埚盖被分别加热到材料的蒸发温度时,坩埚锅体内的蒸镀材料被蒸发汽化,蒸发汽化后的蒸镀材料分子从喷孔飞出;

对坩埚锅体和坩埚盖继续分别独立地进行加热,在蒸镀材料的蒸发速率达到设定速率之后,坩埚锅体和坩埚盖被加热到预定温度,保持坩埚锅体和坩埚盖的温度预定时间,使蒸镀材料继续蒸发;

在蒸镀材料蒸发结束之后,蒸镀材料的蒸发速率由所述设定速率开始下降,并且坩埚锅体由其被加热到的预定温度开始下降,所述坩埚盖保持其被加热到的预定温度;

当蒸镀材料的蒸发速率由所述设定速率下降到0时,所述坩埚盖由其被加热到的预定温度开始下降。

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