技术总结
本实用新型涉及镀膜机的清洗技术领域，特别涉及一种真空镀膜机的清洗机构，阳极靶源设置在真空反应室的内腔顶部；真空管的进风端与真空反应室的内腔相连通；进液体管上分别设置有抽液泵和进液截止阀；气缸的伸缩轴端伸入到真空反应室的内腔后与排液门的上表面相固定连接；排液门的下表面抵压在密封环的上表面。在使用本实用新型时，当需要对真空反应室的内腔进行清洁时，真空泵截止阀关闭，注入清洗剂，用电机进行搅拌，使清洗剂与真空反应室的内腔充分接触反应；通过排液泵把清洗剂排出，此过程不需要人体接触到真空反应室的内腔，清洁效率快，降低操作的危险性。本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。
技术研发人员：丁庆峰
受保护的技术使用者：浙江鼎梓塑胶科技有限公司
文档号码：201620564508
技术研发日：2016.06.13
技术公布日：2016.12.28