一种真空离子镀膜用的送气装置的制造方法
【专利摘要】一种真空离子镀膜用的送气装置，包括混气室，所述混气室左端连接有若干进气装置，所述进气装置包括第一气瓶和第二气瓶，所述第一气瓶和第二气瓶均通过进气管与混气室相连通，所述第一气瓶与进气管的连接处设有第一电磁阀，第二气瓶与进气管的连接处设有第二电磁阀，第一电磁阀和第二电磁阀的内部均设置有压力传感器，第一电磁阀和第二电磁阀均电连接控制装置；所述混气室内设有套筒，所述套筒的左端与混气室的左端相连通，套筒的右端口敞开。本实用新型的有益效果是通过第一气瓶和第二气瓶的自动切换，保证了真空镀膜设备用气的稳定性，避免了由于气瓶内气体容量或气压过低而对镀膜质量带来的不利影响。
【专利说明】
一种真空离子镀膜用的送气装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种真空离子镀膜用的送气装置。
【背景技术】
[0002]真空离子镀膜是一种利用物理气相沉积的方法，通过等离子体促进化学合成反应，在产品表面做改性的技术。随着真空离子镀膜产品的精度、镜面级别、颜色Lab值的要求越来越高甚至苛刻，除了离化源、电源、真空抽气系统、自动控制外，送气系统也同样严重的影响了产品的稳定性和均匀性。真空镀膜装置中设置有气管，用以输送工作气体和反应气体于镀膜室中，现有技术中对于气体的输送大多采用单独的阀门和管道进行控制，使得其没有进行预混和，导致其作用效果较差;此外，当单个气瓶内的气体耗尽或气体压力低于供气标准时，就需要人工更换气瓶，更换过程中会影响整个镀膜的稳定性。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种真空离子镀膜用的送气装置，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0005]—种真空离子镀膜用的送气装置，包括混气室，所述混气室左端连接有若干进气装置，所述进气装置包括第一气瓶和第二气瓶，所述第一气瓶和第二气瓶均通过进气管与混气室相连通，所述第一气瓶与进气管的连接处设有第一电磁阀，第二气瓶与进气管的连接处设有第二电磁阀，第一电磁阀和第二电磁阀的内部均设置有压力传感器，第一电磁阀和第二电磁阀均电连接控制装置;所述混气室内设有套筒，所述套筒的左端与混气室的左端相连通，套筒的右端口敞开，在套筒的外部套设有螺旋混合管道，螺旋混合管道的左端与套筒左端相连通，螺旋混合管道的右端与位于混气室的右端的出气口相连通。
[0006]作为本实用新型进一步的方案:所述出气口处设有若干出气管，所述出气管上设有出气控制阀。
[0007]作为本实用新型再进一步的方案:所述出气控制阀与控制装置电连接。
[0008]作为本实用新型再进一步的方案:所述出气管设有四根。
[0009]本实用新型的有益效果是通过第一气瓶和第二气瓶的自动切换，保证了真空镀膜设备用气的稳定性，避免了由于气瓶内气体容量或气压过低而对镀膜质量带来的不利影响;混气室与螺旋混合管道的配合使得气体混合充分均匀。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]图中:1_混气室、2-进气管、3-第一电磁阀、4-第一气瓶、5-第二电磁阀、6-第二气瓶、7-套筒、8-螺旋混合管道、9-出气口、I O-出气管、11 -出气控制阀。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0013]请参阅图1，本实用新型实施例中，一种真空离子镀膜用的送气装置，包括混气室I，所述混气室I左端连接有若干进气装置，所述进气装置包括第一气瓶4和第二气瓶6，所述第一气瓶4和第二气瓶6均通过进气管2与混气室I相连通，所述第一气瓶4与进气管2的连接处设有第一电磁阀3，第二气瓶6与进气管2的连接处设有第二电磁阀5，第一电磁阀3和第二电磁阀5的内部均设置有压力传感器，第一电磁阀3和第二电磁阀5均电连接控制装置，工作时，设置第一电磁阀3先开启，第一气瓶4向真空镀膜设备供气，工作一段时间后，当第一电磁阀3内的压力传感器检测到第一气瓶4内气体不足，气压偏低时，控制装置发出指令，关闭第一电磁阀3，开启第二电磁阀5，供气装置自动切换到第二气瓶6供气，而后一段时间操作工人可将第一气瓶3更换为充满气体的新气瓶，从而有效地保证了一定工作时间内用气的稳定，有利于提尚链I旲质量；
[0014]所述混气室I内设有套筒7，所述套筒7的左端与混气室I的左端相连通，套筒7的右端口敞开，在套筒7的外部套设有螺旋混合管道8，螺旋混合管道8的左端与套筒7左端相连通，螺旋混合管道8的右端与位于混气室I的右端的出气口 9相连通，通过进气装置将气体送入到混气室I内，气体开始扩散混合，再通过套筒7右端的开口进入到套筒7内部，再从套筒7底部进入到螺旋混合管道8内进行混合；
[0015]所述出气口9处设有若干出气管10，所述出气管10上设有出气控制阀11，所述出气控制阀11与控制装置电连接。
[0016]所述出气管10设有四根。
[0017]本实用新型的工作过程是:工作时，设置第一电磁阀3先开启，第一气瓶4向真空镀膜设备供气，工作一段时间后，当第一电磁阀3内的压力传感器检测到第一气瓶4内气体不足，气压偏低时，控制装置发出指令，关闭第一电磁阀3，开启第二电磁阀5，供气装置自动切换到第二气瓶6供气，而后一段时间操作工人可将第一气瓶3更换为充满气体的新气瓶，从而有效地保证了一定工作时间内用气的稳定，有利于提高镀膜质量;通过进气装置将气体送入到混气室I内，气体开始扩散混合，再通过套筒7右端的开口进入到套筒7内部，再从套筒7底部进入到螺旋混合管道8内进行混合;混合好的气体再由出气管10流出。
[0018]对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0019]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种真空离子镀膜用的送气装置，包括混气室，其特征在于，所述混气室左端连接有若干进气装置，所述进气装置包括第一气瓶和第二气瓶，所述第一气瓶和第二气瓶均通过进气管与混气室相连通，所述第一气瓶与进气管的连接处设有第一电磁阀，第二气瓶与进气管的连接处设有第二电磁阀，第一电磁阀和第二电磁阀的内部均设置有压力传感器，第一电磁阀和第二电磁阀均电连接控制装置;所述混气室内设有套筒，所述套筒的左端与混气室的左端相连通，套筒的右端口敞开，在套筒的外部套设有螺旋混合管道，螺旋混合管道的左端与套筒左端相连通，螺旋混合管道的右端与位于混气室的右端的出气口相连通。2.根据权利要求1所述的一种真空离子镀膜用的送气装置，其特征在于，所述出气口处设有若干出气管，所述出气管上设有出气控制阀。3.根据权利要求2所述的一种真空离子镀膜用的送气装置，其特征在于，所述出气控制阀与控制装置电连接。4.根据权利要求2或3所述的一种真空离子镀膜用的送气装置，其特征在于，所述出气管设有四根。
【文档编号】C23C14/32GK205501407SQ201620047366
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年1月19日
【发明人】刘玉杰
【申请人】天津涂冠科技有限公司