本发明涉及tft-lcd技术领域，具体涉及一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液。
背景技术：
平板液晶显示技术是21世纪发展最迅猛的高新技术领域之一。玻璃基板只占tft-lcd原材料成本比重的6％左右，但却是最重要的元件，对显示器的性能影响十分巨大，显示器的分辨率、透光率、重量及视角等关键指标都与玻璃基板密切相关。在使用tft-lcd平面显示技术的消费性it产品中，轻、薄是两大主要核心竞争要素。为了达到轻薄诉求，普遍采用缩减玻璃基板厚度，以同时达到减少厚度与重量的目的。
目前tft-lcd玻璃基板的减薄工艺主要有两种：一种是化学蚀刻，另一种是物理研磨。化学蚀刻需使用强酸，成本较高，若不进行有效合理的处理回收，则对环境的危害很大，而且薄化后基板表面质量较难控制，仍需后续抛光处理。由于tft-lcd玻璃基板表面质量和加工精度要求高，热稳定性高，耐化学腐蚀性好，表面和内部缺陷少，适宜的热膨胀系数，轻质高强度等，给表面的超精密加工提出了严峻的挑战，传统的硬脆晶元体基片超精密加工工艺无法满足tft-lcd玻璃基板表面的规模化生产要求。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液。
本发明提供如下技术方案：
一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈9-12份、溶胶14-22份、胺碱18-20份、六次甲基四胺10-15份、ph调节剂7-10份、表面活性剂11-14份、螯合剂6-9份、稳定剂8-14份、消泡剂3-5份、去离子水52-60份。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胺碱为羟乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氢氧化铵中的任一种。
所述溶胶是粒径15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化硅溶胶。
所述稳定剂为一水软铝石。
所述消泡剂为聚醚硅氧烷共聚物。
一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在负压涡流状态下逐渐加入氧化铈、胺碱和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入；
(3)在负压涡流状态下逐渐加入ph调节剂、表面活性剂，持续时间20-30min；
(4)在负压涡流状态下逐渐加入螯合剂、稳定剂、消泡剂，将纳米溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态，负压涡流状态下充分搅拌，搅拌时间为5-20min，均匀后进行灌装，得到的抛光液。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明抛光液利用率高，降低了生产成本，同时减小了抛光液废液对环境的污染；本发明抛光液抛光玻璃基板的材料去除率高，抛光后玻璃表面无明显划痕，表面粗糙度比抛光前有所降低，同时反应器使用透明的非金属材料，能够避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入到抛光液中，从而降低金属离子的浓度，避免硅溶胶凝聚现象的出现。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈9份、溶胶14份、胺碱18份、六次甲基四胺10份、ph调节剂7份、表面活性剂11份、螯合剂6份、稳定剂8份、消泡剂3份、去离子水52份。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胺碱为羟乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氢氧化铵中的任一种。
所述溶胶是粒径15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化硅溶胶。
所述稳定剂为一水软铝石。
所述消泡剂为聚醚硅氧烷共聚物。
一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在负压涡流状态下逐渐加入氧化铈、胺碱和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入；
(3)在负压涡流状态下逐渐加入ph调节剂、表面活性剂，持续时间20-30min；
(4)在负压涡流状态下逐渐加入螯合剂、稳定剂、消泡剂，将纳米溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态，负压涡流状态下充分搅拌，搅拌时间为5-20min，均匀后进行灌装，得到的抛光液。
实施例2一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈12份、溶胶22份、胺碱20份、六次甲基四胺15份、ph调节剂10份、表面活性剂14份、螯合剂9份、稳定剂14份、消泡剂3-5份、去离子水60份。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胺碱为羟乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氢氧化铵中的任一种。
所述溶胶是粒径15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化硅溶胶。
所述稳定剂为一水软铝石。
所述消泡剂为聚醚硅氧烷共聚物。
一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在负压涡流状态下逐渐加入氧化铈、胺碱和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入；
(3)在负压涡流状态下逐渐加入ph调节剂、表面活性剂，持续时间20-30min；
(4)在负压涡流状态下逐渐加入螯合剂、稳定剂、消泡剂，将纳米溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态，负压涡流状态下充分搅拌，搅拌时间为5-20min，均匀后进行灌装，得到的抛光液。
实施例3一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液，其是由如下重量份数的原料组成：氧化铈9-12份、溶胶14-22份、胺碱18-20份、六次甲基四胺10-15份、ph调节剂7-10份、表面活性剂11-14份、螯合剂6-9份、稳定剂8-14份、消泡剂3-5份、去离子水52-60份。
所述表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph调节剂为浓度为99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羟乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一种。
所述胺碱为羟乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氢氧化铵中的任一种。
所述溶胶是粒径15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化硅溶胶。
所述稳定剂为一水软铝石。
所述消泡剂为聚醚硅氧烷共聚物。
一种用于tft-lcd玻璃基板的高效抛光液的制备方法，包括以下步骤：
(1)将密闭反应器系统用去离子水负压涡流下清洗三遍；密闭反应器原材料选用无污染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在负压涡流状态下逐渐加入氧化铈、胺碱和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去离子水稀释后在负压涡流状态下逐渐吸入；
(3)在负压涡流状态下逐渐加入ph调节剂、表面活性剂，持续时间20-30min；
(4)在负压涡流状态下逐渐加入螯合剂、稳定剂、消泡剂，将纳米溶胶用负压吸入反应器内并呈涡流状态，负压涡流状态下充分搅拌，搅拌时间为5-20min，均匀后进行灌装，得到的抛光液。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。