专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及对半导体晶片及液晶显示装置用的玻璃基板 (以下简称为基板)实施清洗、干燥等规定处理的基板处理装置及其 控制装置，特别涉及在执行处理之前预先生成时序表的技术。
背景技术：
当前，作为这种装置，可以举出下述装置，即，在由具有用于 对基板实施处理的多个处理部的基板处理装置对多个批次进行处理 时，控制部根据包括多个处理工序在内的工艺处方，为了由各处理部 依次处理各个批次而确定各批次的处理顺序(例如参照专利文献1)。这种基板处理装置，由于在实际开始对批次的处理之前，已经 确定了用哪个处理部在哪个时刻处理哪个批次，因而可以高效地配置 批次，提高基板处理装置的运转率。然而，在基板处理装置具有由调整到高温的药液处理基板的处 理部的情况下，由于如果在该处理部中从最开始进行药液的调温，则 从常温达到规定温度会需要很长时间，因而设置并不直接参与基板处 理的"预备单元"，预先在此进行调温等准备处理。专利文献l:特开2002 — 341923号公报 发明内容然而，在具有这种构成的现有例的情况下，存在下述问题。 也就是说，现有的装置并不对预备单元生成时序表，具体而言， 在按照预先生成的时序表执行处理时，将由使用高温药液的处理部中 的处理的前一阶段的处理部进行处理作为事件，开始由预备单元进行 的调温。因此，尽管希望通过在预先生成时序表后开始处理来提高运 转率，但在使用使用了高温药液的处理部的情况下，由于涉及事件驱4动的动作，因而存在运转率往往提高不大的问题。本实用新型正是鉴于这种问题而提出的，目的在于提供一种基 板处理装置，其通过将预备单元中的准备处理纳入时序表，使得在进 行处理液的准备处理的情况下，也可以提高装置的运转率。 本实用新型为了实现上述目的，采用下述结构。艮口，技术方案1所述的实用新型是一种基板处理装置，其具有 多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中 使用的处理液的准备；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有 时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表； 以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排 部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中 的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。根据技术方案1所述的实用新型，控制部使预备单元中用于进 行处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需的时间与各批次中 使用的前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在处理部 中使用处理液时，预备单元中的准备处理已经结束，可以防止因预备 单元的准备处理等待造成时序表的延迟，能够提高装置的运转率。此外，在本实用新型中，优选前述处理部具有药液处理部，其 利用加热到规定高温的药液处理基板，前述预备单元具有药液处理 部，其将药液预先调整到规定高温。(技术方案2)。即使将常温的 药液调整到规定的高温需要很长时间，使其稳定在规定温度也需要很 长时间，通过不由处理部进行从常温开始的调温，而是委托给预备单 元进行，可以高效进行调温。此外，在本实用新型中，优选具有多个前述预备单元，各预备 单元中的准备处理在时间上一部分重叠。(技术方案3)。在存在多个 预备单元的情况下，通过允许在时序表上重叠配置，可以高度灵活地 配置时序表中的预备单元的准备处理，因而，可以更有效地进行处理。此外，技术方案4所述的实用新型是一种基板处理装置，具有 第l处理部；与前述第l处理部不同的第2处理部，其可以实施与前 述第1处理部相同的处理；存储部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及控制部，其与前述存储部连接，其特征在于，前述第2 处理部具有药液处理部，其进行前述第1处理部中使用的处理液的准备，前述控制部具有第l处理部时序安排部，其根据前述存储部中 的包括多个处理工序的工艺处方，生成第1处理部的时序表；以及第 2处理部时序安排部，其与前述第1处理部时序安排部连接，参照前 述第1处理部时序安排部生成的时序表，生成前述第2处理部的时序表，以使前述第2处理部中的准备处理所需时间与前述第1处理部的使用定时配合而提前进行配置。根据技术方案4所述的实用新型，控制部使在具有预备单元功 能的第2处理部中用于进行第l处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需的时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在第1处理部中使用处理液时，第2处理部(预备单元)中的准 备处理已经结束，可以防止因第2处理部(预备单元)的准备处理等 待造成的时序表延迟，能够提高装置的运转率。此外，优选技术方案1中的前述控制部还具有处理执行指示部，其与前述时序安排部和前述预备单元时序安排部连接，根据前述 时序安排部生成的时序表以及前述预备单元时序安排部生成的时序 表，发出处理指令。根据技术方案5所述的实用新型，控制装置使预备单元中用于进行在处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需时间与前述处 理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在处理部中使用处理液 时，预备单元中的准备处理已经结束，可以防止因预备单元的准备处 理等待造成时序表延迟，能够提高装置的运转率。实用新型的效果根据本实用新型涉及的基板处理装置及控制装置，使预备单元 中用于进行处理部中使用的处理液的准备的准备处理所需时间与各 批次中使用的前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。因此，在 处理部中使用处理液时，预备单元中的准备处理已经结束，可以防止 因预备单元的准备处理等待造成时序表延迟，能够提高装置的运转率。
图1是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的平面图。图2是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的框图。图3是表示基板处理装置的动作的流程图。图4是表示时序表化状态的一个例子的时序图。图5是表示将预备单元时序表化的一个例子的时序图。图6是表示将多个预备单元时序表化的一个例子的时序图。图7是表示将预备单元时序表化的情况下的另一个例子的时序图。
具体实施方式
下面参照附图说明本实用新型的一个实施例。图1是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的平面图， 图2是表示实施例涉及的基板处理装置的简要构成的框图。该基板处理装置例如是用于对基板W进行药液处理的装置。多 片基板W (例如25片)层叠收容在盒子l内。层叠收容了未处理的 基板W的盒子1承载在送入部3上。送入部3具有两个承载盒子1 的载物台5。在基板处理装置的大致隔着中央部的送入部3的相反侧， 配置取出部7。取出部7将处理完成的基板W收容于盒子1中，以 盒子l为单位向装置外取出。取出部7与送入部3相同地，具有两个 用于承载盒子1的载物台9。在沿着送入部3和取出部7的位置上，设置以可以在二者间移 动的方式构成的第1传送机构11。该第1传送机构11以盒子1为单 位将承载于送入部3上的多片基板W传送给第2传送机构13。第2传送机构13将收容的全部基板W从盒子中取出之后，将 全部基板W传送给第3传送机构15。此外，从第3传送机构15取 得处理完成的基板W之后，将基板W收容到盒子1中，传送给第1 传送机构11。第3传送机构15以可以在基板处理装置的长度方向上移动的方 式构成，在其移动方向的最前侧配置干燥处理部17，其用于将多片 基板W收容到容器内并使其干燥。在第3传送机构15进行移动的方向上与干燥处理部17相邻的 位置上，配置第1处理部19，在与该第1处理部19相邻的后侧位置 上，配置第2处理部21，在与该第2处理部21相邻的后侧，配置第 3处理部23。第1处理部19具有用于对多片基板W进行纯水清洗处理的纯 水清洗处理部19a，同时具有用于对多片基板W进行药液处理的药 液处理部19b。在隔着纯水清洗处理部19a和药液处理部19b的第3 传送机构15相反侧的位置上，具有辅助传送机构19c，其用于仅在 纯水清洗处理部19a和药液处理部19b之间传送多片基板W。第2处理部21具有与上述第1处理部19相同的结构。g卩，具 有纯水清洗处理部21a、药液处理部21b、辅助传送机构21c。第3处理部23具有与上述第1处理部19相同的结构，但在本 实施例装置中，作为"预备单元"使用。也就是说，虽然具有纯水清洗处理部23a、药液处理部23b、辅 助传送机构23c，但仅使用药液处理部23b，其余结构并不使用。该 药液处理部23b进行在药液处理部19b和药液处理部21b中使用的处 理液的准备。例如，在药液处理部19b和药液处理部21b利用加热到 规定高温(例如160°C)的含磷酸的处理液对基板W进行处理的情 况下，药液处理部23b被供给常温的磷酸，预先进行加热到规定温度 的调温的准备处理。此外，还进行在处理液中适当地添加纯水，对含 磷酸的处理液的磷酸浓度进行调整的处理。并且，在这样的准备处理 在规定的定时开始及完成的情况下，与被药液处理部19b、 21b使用 的定时配合，由药液处理部23b供给已调整到高温的磷酸，然后在药 液处理部19b、 21b中调整到规定温度。在与上述第2传送机构13相邻的位置上，配置盒子清洗部24。 该盒子清洗部24具有在上述第2传送机构13取出全部基板W后， 清洗成为空出状态的盒子1的功能。上述第l传送机构11、第2传送机构13、第3传送机构15、干燥处理部17、第1处理部19(纯水清洗处理部19a和药液处理部19b)、 第2处理部21 (纯水清洗处理部21a和药液处理部21b)相当于本实 用新型中的处理部。具有上述结构的基板处理装置如图2的框图所示，由控制部25 (控制装置)统一控制。控制部25由CPU等构成，具有时序安排部27、预备单元时序 安排部28、处理执行指示部31。与控制部25连接的存储部33预先 存储下述内容工艺处方，其由该基板处理装置的用户预先制作，包括规定怎样处理基板W的多个处理工序；时序表生成程序；处理程 序，其执行生成的时序表；以及将预备单元的准备处理时序表化的预 备单元时序表生成程序等。此外，还存储由时序表生成程序生成的时 序表。时序安排部27将收容在盒子1中而承载于送入部3上的多片基板W作为一个批次处理，按照装置的操作者指示的、预先存储在存储部33中的工艺处方，在实际开始处理之前，生成时序表，以可以按照时间序列高效地配置每个批次的处理工序。预备单元时序安排部28将由相当于上述预备单元的药液处理部23b进行的准备处理附加于时序表中，以与各批次中被药液处理部 19b、 21b使用的定时配合，与准备处理所需要的时间相比提前进行 配置。处理执行指示部31根据时序安排部27生成并存储在存储部33 中的时序表，以适当的定时进行与各处理部等的处理相关的动作指 示。并且，预备单元时序安排部28还进行在时序表中附加的准备处 理的动作指示。在这里，说明具体的工艺处方。此外，为了使说明便于理解， 举出与实际工艺处方相比简单化的例子加以说明。例如，在按顺序处理第1批次Ll、第2批次L2、第3批次L3 的情况下，各批次的工艺处方完全相同，包括处理工序a、处理工序 b、处理工序c、处理工序b、处理工序d、处理工序b、处理工序e。处理工序a是批次的送入，是主要由第l传送机构11以及第2传送 机构13进行的处理，处理工序b是批次的传送，是主要由第3传送 机构15进行的处理。此外，处理工序c是由药液处理部19b进行的 处理，处理工序d是由纯水清洗处理部19a进行的处理，处理工序e 是由干燥处理部17进行的处理。此外，最后进行结束处理后的批次 的运出，关于该处理工序出于图示的原因进行省略。下面参照图3 图5，说明具有上述结构的基板处理装置的动作。 此外，图3是表示基板处理装置的动作的流程图，图4是说明时序表 化后状态的一个例子的时序图，图5是说明将预备单元时序表化的一 个例子的时序图。步骤S1 S4装置的操作者将收容了未处理的基板W的盒子1承载到送入部 3的载物台5上(步骤Sl)，同时由未图示的指示部指示上述工艺 处方(步骤S2)。于是，控制部25读入存储在存储部33中的工艺 处方的数据(步骤S3)，并进行处理工序的时间计算。并且，时序 安排部27根据处理工序所需要的时间生成时序表(步骤S4)。在这里， 从第1批次Ll到第3批次L3依次承载到载物台5上，由操作者指 定相同的工艺处方。时序安排部27参照存储部33，根据工艺处方生成时序表。该时 序安排方法有多种，例如如图4所示，按照时间序列配置包含在第1 批次Ll、第2批次L2、第3批次L3的工艺处方中的各处理工序(图 中表示为处理工序P1至P7)。各处理工序P1至P7，其中央部表示 实质的处理，其前部为前作业(使用处理部之前进行的准备)，其后 部附加后作业(使用了处理部之后进行的处理)。此外，因处理工序 的不同，有时候仅有前作业而没有后作业。由于本实用新型是在实际 开始处理之前预先生成时序表的方式，因而在批次实际移动来之前开 始下一个处理部的前作业，在批次移动到下一处理部之后，进行该批 次使用后的处理部的后作业。步骤S5预备单元时序安排部28参照时序安排部27生成的时序表，生成作为预备单元的药液处理部23b的时序表(步骤S5)。具体地说，如图5所示，对第1批次L1，为了在使用药液处理 部19b的处理工序P3的实质处理开始时刻U之前完成准备处理，在 准备时间Tl之前的t01时刻，配置准备处理PRl,以作为处理工序 f开始准备处理PR1。该准备时间Tl是将磷酸升温到规定温度所需 的最低限的时间。相同地，在第2批次L2的情况下，配置为从处理 开始时刻t2开始提前准备时间Tl的t02时刻开始处理，在第3批次 L3的情况下，配置为从处理开始时刻t3开始提前准备时间Tl的t03 时刻开始处理。 步骤6处理执行指示部31按照图5所示的时序表，按顺序指示对各处 理部的动作指令。这样，由各处理部处理第1批次Ll 第3批次L3 (步骤S6)如上所述，控制部25使作为预备单元的药液处理部23b的准备 处理PR1所需的时间Tl与第1批次L1 第3批次L3中使用的药液 处理部19b的定时配合而提前进行配置。因此，在药液处理部19b 中使用磷酸时，预备单元中的调温的准备处理RP1已经结束，可以 防止因作为预备单元的药液处理部23b的准备处理等待造成的时序 表延迟，以能够提高装置的运转率。此外，在本装置中，尽管将常温的磷酸调整到规定高温需要很 长时间，并且直到稳定在规定温度上也需要时间，但由于并不由药液 处理部19b进行从常温开始的调温，而是由作为预备单元的药液处理 部23b进行准备处理，因而可以高效地调温。特别是，在药液是含磷 酸的处理液的情况下，由于处理中可以使用的使用次数及使用时间被 确定，因此会频繁地产生处理液的更换处理。因此，如上所述，通过 使预备单元适时地进行准备处理，可以大幅度减少液体更换、调温所 伴随的等待时间。在这里，对于作为预备单元使用药液处理部21b和药液处理部 23b这两台的情况，参照图6进行说明。图6是说明将多个预备单元 时序表化的一个例子的时序图。11该情况下，由于可以使药液处理部21b和药液处理部23b分别 独立地实施准备处理，因而例如使奇数批次的准备处理RP1由药液 处理部21b进行，使偶数批次的准备处理PR1由药液处理部23b进 行。该情况下，由于可以分别独立地进行准备处理PR1，因而预备单 元时序安排部28允许各自的准备处理在时间上一部分重叠配置。具 体而言，用于第1批次Ll的处理工序c的准备处理PR1 (处理工序 fl)，为了在处理开始时刻tl之前完成准备处理，在准备时间之前 的t01时刻开始准备处理PR1，但用于第2批次L2的处理工序c的 准备处理PR2 (处理工序f2)，从处理开始时刻t2开始的准备时间 之前、且在第1批次L1的处理开始时刻tl之前的时刻t02起，开始 准备处理PR1。同样地，用于进行第3批次L3的处理工序c的准备 处理PR1，从处理开始时刻t3开始的准备时间之前、且在第2批次 L2的处理开始时刻t2之前的时刻t03起，开始准备处理。这样，由 于可以提高时序表中的预备单元的配置灵活性，因而可以更加有效地 进行处理。此外，优选预备单元时序安排部28考虑作为上述预备单元的一 台药液处理部23b将药液调温并达到稳定所需的时间，提前开始准备 处理的时间。参照图7说明该情况下的一个例子。图7是将预备单元 时序表化时的情况下的另一个例子的时序图。该情况下，例如考虑比图5及图6的准备时间Tl长的准备时间 T2，配置药液处理部23b的准备处理。具体而言，在比第1批次L1 的处理工序c的实质性处理开始时刻tl提前准备时间T2的时刻t001， 开始准备处理PR3。同样地，在比第2批次L2的处理工序c的开始 时刻t2提前准备时间T2的时刻t002、以及比第3批次L3的处理工 序c的开始时刻t3提前准备时间T2的时刻t003，开始准备处理PR3， 这样来生成时序表。在进行磷酸的调温的情况下，升温到规定温度后，直到该温度 稳定所需时间比升温时间还要长。因此，通过考虑该时间，如上所述 提前开始准备处理PR3的时间，可以縮短药液处理部19b中的调温 时间，高效地进行药液处理部19b中的处理。本实用新型并不限于上述实施例，也可以如下所述变形实施。(1) 在上述实施例中，例示同时处理3个批次的情况加以说明， 但在同时处理1 2个批次或4个及4个批次以上的情况下，同样可 以适用本实用新型。(2) 在上述实施例中，作为预备单元例示了进行药液的调温的 处理部，但对纯水进行调温的处理部等也可以适用本实用新型。(3) 在上述实施例中，作为处理液例示了含磷酸的处理液，但 含硫酸、过氧化氢液等的处理液等也可适用本实用新型。
权利要求1.一种基板处理装置，其具有多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。
2. 根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，前述处理部具有药液处理部，其利用加热到规定高温的药液处 理基板，前述预备单元具有药液处理部，其将药液预先调整到规定高温。
3. 根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于， 具有多个前述预备单元，各预备单元中的准备处理在时间上一部分重叠。
4. 一种基板处理装置，具有第l处理部；与前述第l处理部 不同的第2处理部，其可以实施与前述第1处理部相同的处理；存储 部，其存储包括多个处理工序的工艺处方；以及控制部，其与前述存 储部连接，其特征在于，前述第2处理部具有药液处理部，其进行前述第1处理部中使 用的处理液的准备，前述控制部具有第1处理部时序安排部，其根据前述存储部中的包括多个处理工序的工艺处方，生成第l处理部的时序表；以及第2处理部时序安排部，其与前述第1处理部时序安排部连接，参照前述第1处理部时序安排部生成的时序表，生成前述第2处理部 的时序表，以使前述第2处理部中的准备处理所需时间与前述第1 处理部的使用定时配合而提前进行配置。
5.根据权利要求1的基板处理装置，其特征在于，前述控制部还具有处理执行指示部，其与前述时序安排部和前述预备单元时序安 排部连接，根据前述时序安排部生成的时序表以及前述预备单元时序 安排部生成的时序表，发出处理指令。
专利摘要本实用新型的基板处理装置具有多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部。前述控制部具有时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。通过将预备单元的准备处理纳入时序表，在进行处理液的准备处理的情况下，也可以提高装置的运转率。
文档编号H01L21/67GK201171041SQ200720000398
公开日2008年12月24日 申请日期2007年3月28日 优先权日2006年3月28日
发明者山本真弘 申请人:大日本网目版制造株式会社