专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及基板处理技术，特别涉及一种基板处理装置。
背景技术：
在液晶基板的制造过程中，通常包括对基板进行临时放置、干燥、冷却等多个步 骤，在具体实施中可以采用基板处理装置放置被处理基板、对被处理基板进行干燥，或者用 于其它处理工序。例如，当采用基板处理装置进行被处理基板的干燥时，一般是在光阻膜的 形成工序中，对被处理基板上涂覆的光阻胶体进行减压干燥处理，在低压状态下挥发掉光 阻胶体中的部分溶剂成分，形成光阻膜，以利于后续在该光阻膜上通过光刻工序形成电路 图案。图1为现有技术基板处理装置实施例的结构示意图，如图1所示，该基板处理装置 通常可以包括下盖11和上盖12，该两盖的内部形成用于干燥基板的处理空间。在上述处 理空间内设置有用于承载被处理基板14的承载台13。在承载台13上设置有用于承载被 处理基板14的多个固定销15。当涂覆有光阻胶体的被处理基板14被搬入时，被处理基板 14隔着固定销15被承载在承载台13上。然后，上盖12紧贴下盖11，被处理基板14处于 气密状态下。接下来，减压单元可以将处理空间内的气体从排气口 16抽出，形成为规定的 减压气流。通过使这一减压状态维持规定的时间，使光阻胶体中的溶剂蒸发。但是，上述基板处理装置的结构存在以下技术问题采用固定销支承被处理基板， 容易使得固定销接触部的形状转印到被处理基板上。因此，目前可以采用在基板的图形区 域外设置固定销以避免销痕迹转印影响。然而，随着近年来电视屏幕和母板玻璃基板的大 型化，图形区域也越来越大。如果仍然采取使固定销避开图形区域的方法，则固定销之间的 距离将过远，被处理基板也会在此区域产生较大程度的弯曲。而基板弯曲后，其被处理表面 上的光阻胶体就会发生移动，可能使得基板上各处的光阻胶体的厚度不一致，从而造成最 后形成的光阻膜的厚度也不均勻，严重影响后续电路图案和基板的质量。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种基板处理装置，以使得被处理基板在减压干燥时不 会发生弯曲不良，且有效防止基板支撑件的痕迹转印到被处理基板上。本实用新型提供一种基板处理装置，包括壳体，所述壳体的内部形成用于处理被 处理基板的腔室；还包括数个支承件，设置于所述腔室内，两端分别固定于所述壳体上， 用于支承所述被处理基板并通过自身旋转带动所述被处理基板运动；驱动模块，与所述支 承件连接，用于驱动所述支承件旋转。如上所述的基板处理装置，所述支承件为支撑滚轴。如上所述的基板处理装置，所述壳体包括上盖和下盖，所述上盖通过密封垫圈与 所述下盖密合。如上所述的基板处理装置，还包括数个伸缩机构，与所述支承件连接，用于移动所述支承件。如上所述的基板处理装置，所述伸缩机构包括把手和拉伸臂，所述拉伸臂与所述 支撑件连接。如上所述的基板处理装置，还包括伸缩控制模块，与所述伸缩机构连接，以驱动所 述伸缩机构运动。如上所述的基板处理装置，所述驱动模块为马达。如上所述的基板处理装置，还包括基板传送模块，设置于所述腔室的外部，用于 将所述被处理基板传送至所述腔室中的支承件上。如上所述的基板处理装置，所述基板传送模块包括数个传送滚轮。如上所述的基板处理装置，所述驱动模块包括旋转控制单元，所述旋转控制单元 与所述支承件连接，用于驱动所述支承件正向和反向旋转，以带动所述被处理基板进行往 复运动。本实用新型的基板处理装置，通过支承被处理基板的支承滚轴的低速转动，使得 支承滚轴对被处理基板带来的影响平均化，有效消除了支承滚轴的痕迹转印到被处理基板 上的现象，降低了对光阻膜形成的不良影响。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是 本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提 下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术基板处理装置实施例的结构示意图；图2为本实用新型基板处理装置实施例一的结构示意图；图3为本实用新型基板处理装置实施例二的工作状态示意图一；图4为本实用新型基板处理装置实施例二的工作状态示意图二。附图标记说明11-下盖；12-上盖；13-承载台；[0024]14-被处理基板；15-固定销；16-排气口 ；[0025]17-密封垫圈；18-基板入口 ；19-基板出口[0026]20-气流通道；21-真空排气装置；22-支承滚轴[0027]23-外部传送滚轮；24-把手；25-拉伸臂；[0028]26-腔室。
具体实施方式为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新 型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描 述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施 例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于 本实用新型保护的范围。
4[0030]本实用新型的主要技术方案为，提供了一种基板处理装置，该装置的腔室内设置 有数个用于支承被处理基板的支承件，该支承件的两端固定于装置的壳体上；该装置还包 括驱动模块，与支承件连接，用于驱动所述支承件旋转。由于被处理基板可以在驱动模块的 带动下不断旋转，不会出现如现有技术中的固定销所造成的固定痕迹，解决了痕迹转印的 问题，且通过该方法可以实现在被处理基板尺寸较大时也可以将支撑件间距缩小，不会出 现被处理基板的弯曲不良。下面通过附图和具体实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。实施例一图2为本实用新型基板处理装置实施例一的结构示意图，本实施例的装置以支承 件为支撑滚轴，驱动模块为马达为例进行说明。如图2所示，该基板处理装置可以包括壳体，该壳体具体可以包括下盖11、上盖 12，下盖11和上盖12可以通过密封垫圈17进行密合，其内部形成用于放置和处理被处理 基板14的腔室26。在该腔室26的两侧可以分别设置有用于供被处理基板14进出的基板 入口 18和基板出口 19。在下盖11上还可以设置供抽气减压的气流通道20，该气流通道20 可以与减压模块例如真空排气装置21连接，由真空排气装置21通过气流通道20对腔室26 进行抽气减压。本实施例的基板处理装置，在腔室26内设置有数个支承滚轴22，该数个支承滚轴 22可以并排排列在腔室26内，且两端分别固定于装置的壳体上，例如可以固定于下盖11的 侧壁上；且可以垂直于基板进入的方向并排排列。其可以用于支承被处理基板14并通过 自身旋转带动被处理基板14运动。并且，该装置还可以包括马达，其可以与支承滚轴22连 接，用于驱动支承滚轴22旋转。例如，如图2所示，马达可以驱动支承滚轴22顺时针或者 逆时针旋转。在具体实现中，马达可以通过齿轮传动方式与支承滚轴22连接。进一步的，上述的驱动模块即马达可以包括旋转控制单元，该旋转控制单元可以 与所述支承件连接，用于驱动支承件正向和反向旋转，以带动被处理基板进行往复运动。通 过马达能够带动支承滚轴正反向旋转，可以在达到防止产生支撑滚轴转印痕迹的同时，尽 量缩小该基板处理装置的腔室体积；而该腔室体积的缩小，则有利于减少排气时间，加快工 艺处理时间。以下对该基板处理装置的工作原理进行说明首先，被处理基板14可以由机械臂方式送入腔室26中；或者，也可以通过基板传 送模块例如外部传送滚轮23，通过基板入口 18传送进入腔室26中的支承滚轴22上。该基 板传送模块可以为装置外的单独部件，也可以为该装置的一部分。外部传送滚轮23设置在 腔室26的外部，其相对于传统的机械臂传送方式，可以避免上盖的反复打开，提高设备安 全性的同时也可以减少对设备的损耗和发尘问题。接着，被处理基板14在进入腔室26中后，被放置于数个支承滚轴22上。该支承 滚轴22可以在马达的驱动下进行旋转。具体的，在处理过程中，支承滚轴22可以按照顺时 针或者逆时针方向转动，同时带动被处理基板14前后低速水平移动。由于被处理基板14 一直在腔室26内反复地作前后移动，因此其与支承滚轴22并无固定的接触点，可以有效避 免支承滚轴22的接触部痕迹转印到被处理基板14上。真空排气装置21通过气流通道20对腔室26进行抽气减压，并对腔室26中的被处理基板14进行减压干燥，蒸发掉基板表面所涂布的光阻胶体中的溶剂成分，使得光阻胶 体形成光阻膜。之后，被处理基板14在完成处理后，可以从基板出口 19移出。本实施例的基板处理装置，通过支承被处理基板的支承滚轴的低速转动，使得支 承滚轴对被处理基板带来的影响平均化，有效消除了支承滚轴的痕迹转印到被处理基板上 的现象，降低了对光阻膜形成的不良影响。实施例二图3为本实用新型基板处理装置实施例二的工作状态示意图一，图4为本实用新 型基板处理装置实施例二的工作状态示意图二。本实施例的基板处理装置是在实施例一的 基础上，进一步增加设置了伸缩机构。该伸缩机构与支承件连接，用于移动所述支承件，并 进而带动位于支承件上的被处理基板进行位置变动。相应的，该装置可以包括伸缩控制模 块，该模块与上述的伸缩机构连接，以驱动伸缩机构运动。本实施例的装置中，伸缩机构可以包括把手24和拉伸臂25。在具体实施中，可以 通过设置在装置壳体侧壁上的穿孔，例如设置在下盖11的壳体上，将拉伸臂25与支承滚轴 22进行连接，把手24可以位于腔室26侧面即壳体侧壁的外部。可以通过手动方式拉动该 伸缩机构，也可以通过伸缩控制模块例如马达，以齿轮传动方式与该伸缩机构连接；马达在 驱动过程中可以对各个支承滚轴22进行单独驱动也可以进行整体驱动。如图3和4所示，分别为被处理基板14位于两个位置状态的示意图。在处理过程 中，马达可以带动拉伸臂25将支承滚轴22拉出或者顶入，使得支承滚轴22沿垂直于基板 传送的方向水平移动，并带动位于支承滚轴22上的被处理基板14进行水平移动，使得被处 理基板14可以连同支承滚轴22沿水平方向进行一定距离的调整。通过这种对被处理基板 14水平位置的调整，可以更好地平均化腔室26内的气流不均勻，使得基板上的光阻胶体中 的溶剂挥发程度较为均勻，提高所形成的光阻膜的性能。本实施例的基板处理装置，通过支承被处理基板的支承滚轴的低速转动，使得支 承滚轴对被处理基板带来的影响平均化，有效消除了支承滚轴的痕迹转印到被处理基板上 的现象，降低了对光阻膜形成的不良影响；且通过设置伸缩机构对被处理基板的水平位置 进行调整，可以更好地平均化腔室内的气流不均勻，提高了所形成的光阻膜的性能。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解: 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等 同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术 方案的精神和范围。
权利要求一种基板处理装置，包括壳体，所述壳体的内部形成用于处理被处理基板的腔室；其特征在于，还包括数个支承件，设置于所述腔室内，两端分别固定于所述壳体上，用于支承所述被处理基板并通过自身旋转带动所述被处理基板运动；驱动模块，与所述支承件连接，用于驱动所述支承件旋转。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述支承件为支撑滚轴。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述壳体包括上盖和下盖，所述 上盖通过密封垫圈与所述下盖密合。
4.根据权利要求1 3任一所述的基板处理装置，其特征在于，还包括数个伸缩机 构，与所述支承件连接，用于移动所述支承件。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述伸缩机构包括相连接的把 手和拉伸臂，所述拉伸臂与所述支撑件连接。
6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，还包括伸缩控制模块，与所述伸 缩机构连接，以驱动所述伸缩机构运动。
7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述驱动模块为马达。
8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还包括基板传送模块，设置于 所述腔室的外部，用于将所述被处理基板传送至所述腔室中的支承件上。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板传送模块包括数个传 送滚轮。
10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述驱动模块包括旋转控制单 元，所述旋转控制单元与所述支承件连接，用于驱动所述支承件正向和反向旋转，以带动所 述被处理基板进行往复运动。
专利摘要本实用新型提供一种基板处理装置，包括壳体，所述壳体的内部形成用于处理被处理基板的腔室；还包括数个支承件，设置于所述腔室内，两端分别固定于所述壳体上，用于支承所述被处理基板并通过自身旋转带动所述被处理基板运动；驱动模块，与所述支承件连接，用于驱动所述支承件旋转。本实用新型的基板处理装置，通过支承被处理基板的支承滚轴的低速转动，使得支承滚轴对被处理基板带来的影响平均化，有效消除了支承滚轴的痕迹转印到被处理基板上的现象，降低了对光阻膜形成的不良影响。
文档编号H01L21/00GK201698998SQ20102024838
公开日2011年1月5日 申请日期2010年6月24日 优先权日2010年6月24日
发明者徐华伟 申请人:京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司