一种有机电致发光器件及其制备方法
【专利摘要】本发明属于有机半导体材料领域，其公开了一种有机电致发光器件及其制备方法；该器件包括依次层叠的阳极基底、散射层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层；散射层包括四氯化钛薄膜层以及层叠在该四氯化钛薄膜层表面的二氧化钛薄膜层。本发明提供的有机电致发光器件，散射层包括四氯化钛薄膜层和二氧化钛薄膜层，四氯化钛材质的薄膜层中，钛离子可以锚定在锐钛型二氧化钛薄膜层表面，增加导电性的同时可使阳极基底与散射层之间连接更紧密，锐钛型二氧化钛材质的薄膜层，其比表面积较大，对光具有强烈的散射，可以提高出光效率生。
【专利说明】一种有机电致发光器件及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及有机半导体材料领域，尤其涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。
【背景技术】
[0002]1987年，美国Eastman Kodak公司的C.ff.Tang和VanSlyke报道了有机电致发光研究中的突破性进展。利用超薄薄膜技术制备出了高亮度，高效率的双层有机电致发光器件(0LED)。在该双层结构的器件中，IOV下亮度达到lOOOcd/m2，其发光效率为1.51 lm/W、寿命大于100小时。
[0003]OLED的发光原理是基于在外加电场的作用下，电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道(LUM0)，而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道(HOMO)。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子，激子在电场作用下迁移，将能量传递给发光材料，并激发电子从基态跃迁到激发态，激发态能量通过辐射失活，产生光子，释放光能。
[0004]在传统的发光器件中，器件内部的光只有18%左右是可以发射到外部去的，而其他的部分会以其他形式消耗在器件外部，界面之间存在折射率的差(如玻璃与ITO之间的折射率之差，玻璃折射率为1.5，ITO为1.8，光从ITO到达玻璃，就会发生全反射)，引起了全反射的损失，使得器件整体出光性能较低。
【发明内容】
[0005]本发明所要解决的问题在于提供一种出光效率较高的有机电致发光器件。
[0006]本发明的技术方案如下:
[0007]—种有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极基底、散射层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层；所述散射层二氧化钛薄膜层以及层叠在该二氧化钛薄膜层表面的四氯化钛薄膜层，且二氧化钛薄膜层层叠在阳极基底表面；二氧化钛薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛。
[0008]所述的有机电致发光器件，其中，所述阳极基底为铟锡氧化物玻璃、铝锌氧化物玻璃或铟锌氧化物玻璃。
[0009]所述的有机电致发光器件，其中，所述空穴注入层的材质为三氧化钥、三氧化钨、
或五氧化二钒。
[0010]所述的有机电致发光器件，其中，所述空穴传输层的材质为I，1- 二 [4- [N，N' -二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷、4，4’，4〃-三(咔唑-9-基)三苯胺或N，N，- (1-萘基)-N，N’ - 二苯基-4，4’ -联苯二胺。
[0011]所述的有机电致发光器件，其中，所述发光层的材质为4- (二腈甲基)-2_ 丁基-6-( I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9，IOd-亚萘基蒽、4，4’ -双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1，I’-联苯或8-羟基喹啉铝。
[0012]所述的有机电致发光器件，其中，所述电子传输层的材质为4，7-二苯基-1，10-菲罗啉、1，2，4-三唑衍生物或N-芳基苯并咪唑。
[0013]所述的有机电致发光器件，其中，所述阴极层的材质为金属银、铝、钼或金。
[0014]本发明还提供上述有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤:
[0015]S1、清洗阳极基底；
[0016]S2、制备散射层:
[0017]首先，将二氧化钛颗粒加入浓度为2(T60mM的四氯化钛水溶液中，于5(Tl00°C下保温20?60分钟；
[0018]其次，取出四氯化钛浸泡过的二氧化钛颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于40(T60(TC下煅烧处理2(T40分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛样品；
[0019]最后，将锐钛型二氧化钛样品和阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述阳极基底表面蒸镀制得散射层，该散射层包括二氧化钛薄膜层以及层叠在该二氧化钛薄膜层表面的四氯化钛薄膜层，且二氧化钛薄膜层层叠在阳极基底表面，所述二氧化钛薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛；
[0020]S3、将步骤S2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层；
[0021 ] 上述工艺结束后，制得所述有机电致发光器件。
[0022]上述有机电致发光器件的制备方法的步骤S2中:
[0023]所述氧化锌颗粒的粒径为2(T200nm ；
[0024]所述煅烧处理是在马弗炉里进行的。
[0025]本发明提供的有机电致发光器件，散射层包括四氯化钛薄膜层和锐钛型二氧化钛薄膜层，四氯化钛材质的薄膜层中，钛离子可以锚定在锐钛型二氧化钛薄膜层表面，增加导电性的同时可使阳极基底与散射层之间连接更紧密，锐钛型二氧化钛材质的薄膜层，其比表面积较大，对光具有强烈的散射，可以提高出光效率；同时，四氯化钛薄膜层和锐钛型二氧化钛薄膜层都具有钛元素，这样可以大大提高层间的相容性和结合力，避免杂质产生。
【专利附图】
【附图说明】
[0026]图1为本发明制得的有机电致发光器件的结构示意图；
[0027]图2为实施例1和对比例I的有机电致发光器件的亮度与流明效率曲线图。
【具体实施方式】
[0028]本发明提供的有机电致发光器件，如图1所示，包括阳极基底1、散射层2、空穴注入层3、空穴传输层4、发光层5、电子传输层6和阴极层7,即阳极基底I/散射层2/空穴注入层3/空穴传输层4/发光层5/电子传输层6/阴极层7 ;该器件中，散射层2包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层；二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在阳极基底表面，二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛(TiO2)为锐钛型二氧化钛(T i O2)。
[0029]二氧化钛(TiO2)薄膜层的厚度为2-15 iim。
[0030]器件中，散射层2中的二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛，这种结构的二氧化钛，具有较大的比表面积，对光有强烈的散射，可有效提高器件的出光效率。
[0031]上述有机电致发光器件中，其它各功能层的材质及厚度如下:
[0032]所述阳极基底I为铟锡氧化物玻璃(IT0)、铝锌氧化物玻璃(AZO)或铟锌氧化物玻璃(IZ0)，优选为ITO ;其中，铟锡氧化物玻璃，简称ITO玻璃，玻璃为基底，ITO为阳极层，行业习惯上撰写为ITO ;掺铝的氧化锌玻璃和掺铟的氧化锌玻璃类似；因此，实际的器件中，四氯化钛(TiCl4)薄膜层是层叠在阳极基底I的阳极层表面，阳极层为IT0、AZ0或IZO层；
[0033]所述空穴注入层3的材质为三氧化钥(Mo03)、三氧化钨(WO3)或五氧化二钒(V2O5),优选为MoO3 ;所述空穴注入层3的厚度为20-80nm，优选厚度为60nm ；
[0034]所述空穴传输层4的材质为I, 1- 二 [4-[N, N' -二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷(TAPC)、4，4’，4〃-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)、N，N，- (1_萘基)州，^ -二苯基-4，4’ -联苯二胺(NPB)，优选为NPB ;所述空穴传输层4的厚度为20_60nm，优选厚度为60nm ；
[0035]所述发光层5的材质为4- (二腈甲基)-2-丁基-6- (1，1，7，7_四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB),9, 10- 二- 3 -亚萘基蒽(ADN)、4，4’ -双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1，I’-联苯(BCzVBi)或8-羟基喹啉铝(Alq3),优选为BCzVBi ;所述发光层5的厚度为5-40nm，优选厚度为30nm ；
[0036]所述电子传输层6的材质为4，7-二苯基-1，10-菲罗啉(Bphen)、l，2，4-三唑衍生物(如TAZ)或N-芳基苯并咪唑(TPBI)，优选为TPBI ;所述电子传输层6的厚度为40_80nm，优选厚度为45nm ；
[0037]所述阴极层7的材质为金属银(Ag)、铝(Al)、钼(Pt)或金(Au)，优选为Al ;所述阴极层7的厚度为80-250nm，优选厚`度为lOOnm。
[0038]本发明提供的有机电致发光器件，散射层包括四氯化钛薄膜层和锐钛型二氧化钛薄膜层，四氯化钛材质的薄膜层中，钛离子可以锚定在锐钛型二氧化钛薄膜层表面，增加导电性的同时可使阳极基底与散射层之间连接更紧密，锐钛型二氧化钛材质的薄膜层，其比表面积较大，对光具有强烈的散射，可以提高出光效率；同时，四氯化钛薄膜层和锐钛型二氧化钛薄膜层都具有钛元素，这样可以大大提高层间的相容性和结合力，避免杂质产生。
[0039]上述有机电致发光器件的制备方法，包括如下步骤:
[0040]S1、清洗阳极基底，即:先将阳极基底进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除阳极基底表面的有机污染物；
[0041]S2、制备散射层:
[0042]首先，将二氧化钛(TiO2)颗粒加入浓度为2(T60mM的四氯化钛(TiCl4)水溶液中，于5(Tl00°C下保温20~60分钟；
[0043]其次，取出四氯化钛(TiCl4)浸泡过的二氧化钛(TiO2)颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于40(T60(TC下煅烧处理2(T40分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐
钛型二氧化钛样品；
[0044]最后，将锐钛型二氧化钛样品和阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述阳极基底表面蒸镀制得散射层，该散射层包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层，且二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在阳极基底的阳极层表面，所述二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛(TiO2)；
[0045]S3、将步骤S2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层；
[0046]上述工艺结束后，制得所述有机电致发光器件。
[0047]上述有机电致发光器件的制备方法的步骤S2中:
[0048]所述氧化锌颗粒的粒径为2(T200nm ；
[0049]所述煅烧处理是在马弗炉里进行的。
[0050]上述有机电致发光器件的制备方法的步骤S2中，煅烧处理的作用是将二氧化钛转化成锐钛型二氧化钛，而经过煅烧处理的二氧化钛，其晶型转变程度较高，可充分转变为锐钛型晶型，这种结构构型规整均一，比表面积较大，粒径也较大，对光有明显的散射作用。
[0051]上述步骤S2中，二氧化钛刮涂在阳极基底的导电阳极层所对应的表面。
[0052]下面结合附图，对本发明的较佳实施例作进一步详细说明。
[0053]以下各实施例和对比例中，制备与测试所用的仪器为:高真空镀膜设备(沈阳科学仪器研制中心有限公司，压强〈IX 10_3Pa)、电流-电压测试仪(美国Keithly公司，型号:2602)、电致发光光谱测试仪(美国photo research公司，型号:PR650)以及屏幕亮度计(北京师范大学，型号:ST-86LA)。
[0054]实施例1
[0055]1、先将ITO玻璃进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除ITO玻璃表面的有机污染物；
[0056]2、制备散射层:
[0057]首先，将粒径为20nm的二氧化钛(TiO2)颗粒加入浓度为40mM的四氯化钛(TiCl4)水溶液中，于70°C下保温30分钟；
[0058]其次，取出四氯化钛(TiCl4)浸泡过的二氧化钛(TiO2)颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于马弗炉里450°C下煅烧处理30分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛(TiO2)样品；
[0059]最后，将锐钛型二氧化钛(TiO2)样品和ITO玻璃置入真空蒸镀设备的反应室中，在ITO玻璃表面蒸镀制得厚度为8 iim的散射层，该散射层包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层，表示为Ti02/TiCl4，且二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在ITO玻璃的ITO层表面，所述二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛(TiO2)为锐钛型二氧化钛(TiO2)；
[0060]3、将步骤2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀以下功能层:
[0061]空穴注入层:材料为MoO3,厚度为60nm ；
[0062]空穴传输层:材料为NPB，厚度为80nm ；
[0063]发光层:所选材料为BCzVBi，厚度为30nm ；
[0064]电子传输层:材料为TPBI，厚度为45nm ；
[0065]阴极层:材料为Al,厚度为IOOnm ；
[0066]上述工艺步骤完成后，得到所需要的有机电致发光器件，其结构为:玻璃/ITO/(TiO2AiCl4) /Mo03/NPB/BCz VB i /TPBI /Al。
[0067]实施例2
[0068]1、先将AZO玻璃进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除AZO玻璃表面的有机污染物；
[0069]2、制备散射层:
[0070]首先，将粒径为200nm的二氧化钛(TiO2)颗粒加入浓度为20mM的四氯化钛(TiCl4)水溶液中，100°C下保温20分钟；
[0071]其次，取出四氯化钛(TiCl4)浸泡过的二氧化钛(TiO2)颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于马弗炉里400°C下煅烧处理40分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛(TiO2)样品；
[0072]最后，将锐钛型二氧化钛(TiO2)样品和AZO玻璃置入真空蒸镀设备的反应室中，在ITO玻璃表面蒸镀制得厚度为2 iim的散射层，该散射层包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层，表示为Ti02/TiCl4，且二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在AZO玻璃的ITO层表面，所述二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛(TiO2)为锐钛型二氧化钛(TiO2)；
[0073]3、将步骤2制得的含散射层的AZO玻璃底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀以下功能层:
[0074]空穴注入层:材料为MoO3,厚度为20nm ；
[0075]空穴传输层:材料为TCTA，厚度为60nm ；
[0076]发光层:所选材料为Alq3,厚度为40nm ；
[0077]电子传输层:材料为TAZ，厚度为75nm ；
[0078]阴极层:材料为Pt,厚度为80nm ；
[0079]上述工艺步骤完成后，得到所需要的有机电致发光器件，其结构为:玻璃/AZO/(TiO2AiCl4) /Mo03/TCTA/A I q3/TAZ/Pt。
[0080]实施例3
[0081]1、先将IZO玻璃进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除IZO玻璃表面的有机污染物；
[0082]2、制备散射层:
[0083]首先，将粒径为IOOnm的二氧化钛(TiO2)颗粒加入浓度为60mM的四氯化钛(TiCl4)水溶液中，于50°C下保温60分钟；
[0084]其次，取出四氯化钛(TiCl4)浸泡过的二氧化钛(TiO2)颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于马弗炉里600°C下煅烧处理20分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛(TiO2)样品；
[0085]最后，将锐钛型二氧化钛(TiO2)样品和IZO玻璃置入真空蒸镀设备的反应室中，在ITO玻璃表面蒸镀制得厚度为15 iim的散射层，该散射层包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层，表示为Ti02/TiCl4，且二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在IZO玻璃的ITO层表面，所述二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛(TiO2)为锐钛型二氧化钛(TiO2)；
[0086]3、将步骤2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀以下功能层:
[0087]空穴注入层:材料为V2O5,厚度为45nm ；
[0088]空穴传输层:材料为TAPC，厚度为45nm ；
[0089]发光层:所选材料为ADN，厚度为5nm ；
[0090]电子传输层:材料为Bphen,厚度为60nm ；
[0091]阴极层:材料为Ag,厚度为180nm ；
[0092]上述工艺步骤完成后，得到所需要的有机电致发光器件，其结构为:玻璃/IZO/(TiO2AiCl4) /V205/TAPC/ADN/Bphen/Ag。
[0093]实施例4
[0094]1、先将ITO玻璃进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除ITO玻璃表面的有机污染物；
[0095]2、制备散射层:
[0096]首先，将粒径为150nm的二氧化钛(TiO2)颗粒加入浓度为25mM的四氯化钛(TiCl4)水溶液中，于60°C下保温40分钟；
[0097]其次，取出四氯化钛(TiCl4)浸泡过的二氧化钛(TiO2)颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于马弗炉里500°C下煅烧处理25分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛(TiO2)样品；
[0098]最后，将锐钛型二氧化钛(TiO2)样品和ITO玻璃置入真空蒸镀设备的反应室中，在ITO玻璃表面蒸镀制得厚度为IOiim的散射层，该散射层包括二氧化钛(TiO2)薄膜层以及层叠在该二氧化钛(TiO2)薄膜层表面的四氯化钛(TiCl4)薄膜层，表示为Ti02/TiCl4，且二氧化钛(TiO2)薄膜层层叠在ITO玻璃的ITO层表面，所述二氧化钛(TiO2)薄膜层中的二氧化钛(TiO2)为锐钛型二氧化钛(TiO2)；
[0099]3、将步骤2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀以下功能层:
[0100]空穴注入层:材料为WO3,厚度为80nm ；
[0101]空穴传输层:材料为TCTA，厚度为60nm ；
[0102]发光层:所选材料为ADN，厚度为8nm ；
[0103]电子传输层:材料为TAZ，厚度为35nm ；
[0104]阴极层:材料为Au,厚度为250nm ；
[0105]上述工艺步骤完成后，得到所需要的有机电致发光器件，其结构为:玻璃/ITO/(TiO2AiCl4) /W03/TCTA/ADN/TAZ/Au。
[0106]对比例I
[0107]1、先将玻璃基底进行光刻处理，剪裁成所需要的大小，依次用洗洁精，去离子水，丙酮，乙醇，异丙醇各超声清洗15min，去除玻璃基底表面的有机污染物；
[0108]2、制备阳极层:
[0109]通过磁控溅射设备，在洗净干燥的玻璃表面制备一层阳极层，材质为IT0，获得ITO玻璃。
[0110]3、将ITO玻璃置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述阳极层表面依次层叠蒸镀以下功能层:[0111]空穴注入层:材料为MoO3，厚度为60nm ；
[0112]空穴传输层:材料为NPB，厚度为80nm ；
[0113]发光层:所选材料为BCzVBi，厚度为30nm ；
[0114]电子传输层:材料为TPBI，厚度为45nm ；
[0115]阴极层:材料为Al,厚度为IOOnm ；
[0116]上述工艺步骤完成后，制得有机电致发光器件:玻璃/IT0/Mo03/NPB/BCzVBi/TPBi/Al。
[0117]图2为实施例1与对比例I制得的有机电致发光器的亮度与流明效率关系图。
[0118]从图2上可以看到，在不同亮度下，实施例1制得的有机电致发光器件的流明效率都比对比例I制得的有机电致发光器件的流明效率要大，最大的流明效率为32.71m/W，而对比例I的仅为16.51m/W，而且对比例I的流明效率随着亮度的增大而快速下降；这说明，四氯化钛薄膜层和锐钛型二氧化钛薄膜层层叠结构的散射层，四氯化钛薄膜层中的钛离子可以锚定在二氧化钛表面，增加了导电性，而锐钛型TiO2材质的薄膜层，其比表面积较大，对光具有强烈的散射，可以提高出光效率。
[0119]应当理解的是，上述针对本发明较佳实施例的表述较为详细，并不能因此而认为是对本发明专利保护范围的限制，本发明的专利保护范围应以所附权利要求为准。
【权利要求】
1.一种有机电致发光器件，其特征在于，包括依次层叠的阳极基底、散射层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层；所述散射层包括二氧化钛薄膜层以及层叠在该二氧化钛薄膜层表面的四氯化钛薄膜层，且二氧化钛薄膜层层叠在阳极基底表面，所述二氧化钛薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述阳极基底为铟锡氧化物玻璃、铝锌氧化物玻璃或铟锌氧化物玻璃。
3.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述空穴注入层的材质为三氧化钥、三氧化鹤、或五氧化二fL。
4.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述空穴传输层的材质为1，1- 二 [4-[N，N' - 二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷、4，4’，4〃-三(咔唑-9-基)三苯胺或N，N’ - (1-萘基)-N, N’ - 二苯基-4，4’ -联苯二胺。
5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述发光层的材质为4-(二腈甲基)-2_ 丁基-6- (I, I, 7，7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9，10- 二- P -亚萘基蒽、4，4’-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1，I’-联苯或8-羟基喹啉铝。
6.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述电子传输层的材质为4，7- 二苯基-1，10-菲罗啉、I, 2，4-三唑衍生物或N-芳基苯并咪唑。
7.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述阴极层的材质为金属银、招、钼或金。
8.如权利要求1所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤: 51、清洗阳极基底； 52、制备散射层: 首先，将二氧化钛颗粒加入浓度为2(T60mM的四氯化钛水溶液中，于5(Tl00°C下保温20?60分钟； 其次，取出四氯化钛浸泡过的二氧化钛颗粒，依次用水和乙醇清洗干净、烘干，然后置于40(T60(TC下煅烧处理2(T40分钟后，停止煅烧、冷却至室温，得到锐钛型二氧化钛样品； 最后，将锐钛型二氧化钛样品和阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述阳极基底表面蒸镀制得散射层，该散射层包括二氧化钛薄膜层以及层叠在该二氧化钛薄膜层表面的四氯化钛薄膜层，且二氧化钛薄膜层层叠在阳极基底表面，所述二氧化钛薄膜层中的二氧化钛为锐钛型二氧化钛； 53、将步骤S2制得的含散射层的阳极基底置入真空蒸镀设备的反应室中，在所述散射层表面依次层叠蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极层； 上述工艺结束后，制得所述有机电致发光器件。
9.根据权利要求7所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述氧化锌颗粒的粒径为2(T200nm。
10.根据权利要求7所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，步骤S2中，煅烧处理是在马弗炉里进行的。
【文档编号】H01L51/52GK103682136SQ201210325539
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2012年9月5日 优先权日:2012年9月5日
【发明者】周明杰, 王平, 黄辉, 张振华 申请人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技术有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司