集成电路结构的制作方法

文档序号:11592840阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种集成电路,包括一SRAM阵列。SRAM阵列包括具有第一多行以及多列的SRAM单元的一第一子阵列以及具有第二多行以及多列的SRAM单元的一第二子阵列。第一位元线以及第一互补位元线连接至第一子阵列中的一列的第一以及第二沟道栅极金属氧化物半导体装置。第二位元线以及第二互补位元线连接至第二子阵列中的一列的静态随机存取存储器单元的第一以及第二沟道栅极金属氧化物半导体装置。第一位元线以及第一互补位元线与第二位元线以及第二互补位元线断开。感测放大器电路电性耦接至并用以感测第一位元线、第一互补位元线、第二位元线以及第二互补位元线。

技术研发人员:廖忠志
受保护的技术使用者:台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日:2016.08.08
技术公布日:2017.08.08
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