传片基板保护方法与流程

文档序号:16238711发布日期:2018-12-11 22:52阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种传片基板保护方法,包括:对表面涂覆有保护膜的传片基板进行一次干法刻蚀,并获取传片基板的当前状态条件;判断传片基板的当前状态条件是否满足预设条件,当传片基板的当前状态条件满足预设条件,则对传片基板的表面进行脱膜处理;在传片基板的表面重新涂覆一层第一膜厚值的保护膜;将传片基板放置于闲置区内以待下一次干法刻蚀。通过在传片基板上涂覆一层光刻胶,光刻胶作为吸收射频电源发射的能量的保护层,使得传片基板在反应腔室内进行等离子刻蚀时可以避免等离子体直接轰击基板表面,从而避免了传片基板经过多次传片后便会产生发白的现象,进而延长了传片基板的使用寿命。

技术研发人员:张正洋;何海山;曾纯;刘力明;黄伟东
受保护的技术使用者:信利(惠州)智能显示有限公司
技术研发日:2018.07.25
技术公布日:2018.12.11
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