一种显示基板及其制备方法、透明显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及透明显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、透明显示 装置。
【背景技术】
[0002] 带通滤光片是指一定的波段内，只有中间一小段是高透射率的通带，而在通带的 两侧是高反射率的截止带，如图1所示，图1表征滤光片特征的主要参数有：
[0003] A。-中心波长或称峰值波长；
[0004] T_-中心波长的透射率，也即峰值透射率；
[0005] 2 A A -透射率为降值透射率一半的波长宽度，也即通半宽度，或用2 A A / A。表示 相对半宽度。
[0006] 通常，带通滤光片可以有两种结构形式，一种是由一个长波通膜系和一个短波通 膜系的重叠通带波段形成带通滤光片的通带。这种结构得到的光谱特性是：可以获得较宽 的截止带和较深的截止度，但不容易获得较窄的通带，所以常用于获得宽带通滤光片。第二 种是Fabry-Perot干涉仪形成的滤光膜系，这种结构得到的光谱特性是：可以获得较窄的 通带，但截止带宽度通常也比较窄，截止度也不深，所以大多数情况下都需要配合使用截止 滤光片来拓宽截止带和增加截止深度，因此，现有技术中提供的带通滤光片的光线的透过 率较低，而且在透明显示装置中增加滤光片造成整个显示装置结构复杂，需要较多的制作 工艺，影响显示装置的制作效率。
【发明内容】
[0007] 本发明提供了一种显示基板及其制备方法、透明显示装置，用以简化显示装置的 结构，提尚制造效率。
[0008] 本发明提供了一种显示基板，该显示基板包含多个像素区域，每个所述像素区域 包括多个子像素区域，还包括：基板，依次设置在所述基板上且位于所述子像素区域的第一 金属层、钝化层及第二金属层，其中，所述第一金属层及所述第二金属层均为半透半反射的 金属层，且位于同一个所述像素区域的多个所述子像素区域的钝化层厚度不同；
[0009] 所述第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所述法泊腔根据所述钝化层 厚度的不同允许不同波长的光透过。
[0010] 在上述技术方案中，通过采用第一金属层、第二金属层以及不同厚度的钝化层形 成法泊腔，法泊腔根据钝化层的厚度可以允许不同波长的光线透过，从而使得显示装置无 需使用彩膜滤光片，直接通过显示基板上的结构即可实现允许不同的光线通过，减少了显 示装置的结构。
[0011] 优选的，每个所述像素区域包括三个子像素区域，对应三个所述子像素区域的钝 化层分别具有第一厚度、第二厚度及第三厚度，且所述第一厚度钝化层对应的子像素区域 允许红色光透过，所述第二厚度钝化层对应的子像素区域允许绿色光透过，所述第三厚度 钝化层对应的子像素区域允许蓝色光透过。
[0012] 优选的，所述钝化层的厚度满足以下公式：d = m* A/2n ;其中，m为奇数，n为钝化 层折射率，其中，A为该厚度的钝化层对应的子像素区域允许通过的光线的波长。
[0013] 优选的，所述第二金属层为银，且所述第二金属层的厚度为35~45nm。
[0014] 优选的，所述钝化层为MgF2、Si02、Si 3N4、Ti02中的任一材料制作的钝化层。选择 不同介电材料制作钝化层。
[0015] 优选的，所述第一金属层为银；且所述第一金属层的厚度为35~45nm。
[0016] 优选的，所述第二金属层包括多个间隔设置的金属条，且所述多个金属条之间具 有允许光线透过的间隙。
[0017] 本发明还提供了一种显示基板的制备方法，该方法包括以下步骤：
[0018] 提供一基板；
[0019] 在所述基板上的像素区域形成第一金属层；
[0020] 在第一金属层上形成钝化层，且位于同一个所述像素区域的多个所述子像素区域 的钝化层厚度不同；
[0021] 在钝化层上形成第二金属层；且第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所 述法泊腔根据所述钝化层厚度的不同允许不同波长的光透过。
[0022] 在上述技术方案中，通过采用第一金属层、第二金属层以及不同厚度的钝化层形 成法泊腔，法泊腔根据钝化层的厚度可以允许不同波长的光线透过，从而使得显示装置无 需使用彩膜滤光片，直接通过显示基板上的结构即可实现允许不同的光线通过，减少了显 示装置的结构。
[0023] 优选的，所述在第一金属层上形成钝化层，且位于同一个所述像素区域的多个所 述子像素区域的钝化层厚度不同具体为：
[0024] 使用同一张掩膜板在第一位置，沉积时间tl，得到第一厚度的钝化层；
[0025] 在第二位置，沉积时间t2,得到第二厚度的钝化层；
[0026] 在第三位置，沉积时间t3,得到第三厚度的钝化层。形成不同厚度的钝化层。
[0027] 优选的，所述钝化层的厚度满足以下公式：
[0028]d=m*A/2n;其中，m为奇数，n为钝化层折射率，其中，A为该厚度的钝化层对应 的子像素区域允许通过的光线的波长。
[0029] 优选的，所述钝化层的材料为MgF2、Si0 2、Si3N4、Ti02中的任一种。采用不同介电 材料制作钝化层。
[0030] 优选的，所述第二金属层包括多个间隔设置的金属条，且所述多个金属条之间具 有允许光线透过的间隙。
[0031] 本发明还提供了一种透明显示装置，包括上述任一项所述的显示基板。
[0032] 在上述技术方案中，通过采用第一金属层、第二金属层以及不同厚度的钝化层形 成法泊腔，法泊腔根据钝化层的厚度可以允许不同波长的光线透过，从而使得显示装置无 需使用彩膜滤光片，直接通过显示基板上的结构即可实现允许不同的光线通过，减少了显 示装置的结构，提高了制作效率，且能够实现透明显示。
【附图说明】
[0033]图1为本发明实施例提供的带通滤波片特性示意图；
[0034] 图2为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图；
[0035] 图3a~图3e为本发明实施例提供的显不基板的制备流程图；
[0036]图4a~图4c为本发明实施例提供的钝化层的制备流程图。
[0037] 附图标记：
[0038] 1-基板2-薄膜晶体管21-栅极
[0039] 22-栅极绝缘层23-有源层24-源极 [0040]25-漏极3-第一金属层4-第二金属层
[0041] 5-钝化层51-第一厚度的钝化层52-第二厚度的钝化层
[0042] 53-第三厚度的钝化层6-掩膜板
【具体实施方式】
[0043] 为了使得透明显示装置获得较窄的色域，以及较高的透射率，本发明实施例提供 了一种显示基板及其制备方法、透明显示装置，在本发明的技术方案中，通过采用不同的钝 化层实现滤光，并且通过第二金属层之间的间隙使得光线通过，从而提高了显示基板的透 光性。为了方便对本发明技术方案的理解，下面结合附图及具体实施例对本发明的技术方 案进行详细的说明。
[0044] 如图2及图4c所不，图2为本发明实施例提供的显不基板的结构不意图，图4c不 出了形成后的钝化层5的结构示意图。
[0045] 本发明实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括：包含多个像素区域，每个所 述像素区域包括多个子像素区域，还包括：基板，依