的钝化层51、第二厚度 的钝化层52及第三厚度的钝化层53,在具体制作时，
[0069] 如图4a所不，使用一张掩膜板6在第一位置，沉积时间tl，沉积厚度为dl的第一 厚度的钝化层51 ;
[0070] 如图4b所示，在第二位置，沉积时间t2,沉积厚度为d2的第二厚度的钝化层52;
[0071] 如图4c所示，在第三位置，沉积时间t3,沉积厚度为d3的第三厚度的钝化层53。
[0072] 在具体制作时，通过沉积速度相同，通过控制沉积的时间11、t2及t3来控制形成 的钝化层的厚度。
[0073] 具体的，在第一金属层3上利用PECVD工艺沉积一层厚度不等的钝化层5,与R、 G、B三种子像素对应的钝化层的厚度不同。具体的，钝化层的厚度满足以下公式：d = m* A/2n;其中，m为奇数，n为钝化层折射率，A为该厚度的钝化层对应的子像素区域允许 通过的光线的波长。如：红光对应的波长为760~622nm，蓝光对应的波长为450~435nm、 绿光对应的波长为577~492nm。则相对应的制作钝化层时，第一厚度的钝化层51满足以下 公式：dl = m*700nm/2n ;如：若选取m = l，n = 1. 938 (Si3N4折射率，其折射率一般为1. 3~ 2. 1，此处选取1. 938)，则，R像素对应的钝化层厚度dl = 180. 6nm，同理，G像素和B像素 对应的钝化层5的厚度分别为d2 = 140. 9nm，d3 = 112. 4nm。并且在具体制作时，钝化层5 的材质可以为|^2、5102、5以4、110 2等中的任意一种。较佳的，钝化层5为31義材质制作 的钝化层5 ;并且在三种不同厚度的钝化层5制作时，三种不同厚度的钝化层5在不同的位 置设置，并且三种不同厚度的钝化层5分别对应红色子像素、蓝色子像素及绿色子像素。
[0074] 步骤四、如图3e所示，在钝化层上形成第二金属层；且第一金属层、钝化层及第二 金属层构成法泊腔，所述法泊腔根据所述钝化层厚度的不同允许不同波长的光透过。
[0075] 具体的如图3e所示，在形成的钝化层5上制作第二金属层4,且制作的第二金属层 4具有slit结构（间隙），slit结构；根据pixel pitch (像素间距）选择slit数，以及W/ S (W为金属，S 为间隙）。例如：pixel pitch = 53. 7nm 时，可选 5 个 slit，W/S = 2. 7/5. Onm。 该层材料可选银，厚度40nm。
[0076] 本发明还提供了一种透明显示装置，包括上述任一项所述的显示基板。
[0077] 在本发明的技术方案中，通过采用第一金属层、第二金属层以及不同厚度的钝化 层形成法泊腔，法泊腔根据钝化层的厚度可以允许不同波长的光线透过，从而使得显示装 置无需使用彩膜滤光片，直接通过显示基板上的结构即可实现允许不同的光线通过，减少 了显示装置的结构。
[0078] 显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精 神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围 之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1. 一种显示基板，包含多个像素区域，每个所述像素区域包括多个子像素区域，其特征 在于，还包括：基板，依次设置在所述基板上且位于所述子像素区域的第一金属层、钝化层 及第二金属层，其中，所述第一金属层及所述第二金属层均为半透半反射的金属层，且位于 同一个所述像素区域的多个所述子像素区域的钝化层厚度不同； 所述第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所述法泊腔根据所述钝化层厚度 的不同允许不同波长的光透过。2. 如权利要求1所述的显示基板，其特征在于， 每个所述像素区域包括三个子像素区域，对应三个所述子像素区域的钝化层分别具有 第一厚度、第二厚度及第三厚度，且所述第一厚度钝化层对应的子像素区域允许红色光透 过，所述第二厚度钝化层对应的子像素区域允许绿色光透过，所述第三厚度钝化层对应的 子像素区域允许蓝色光透过。3. 如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述钝化层的厚度满足以下公式： d = m* A /2n ;其中，m为奇数，n为钝化层折射率，A为该厚度的钝化层对应的子像素 区域允许通过的光线的波长。4. 如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二金属层为银，且所述第二金属 层的厚度为35~45nm〇5. 如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述钝化层为MgF2、Si02、Si3N 4、Ti0# 的任一材料制作的钝化层。6. 如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一金属层为银；且所述第一金属 层的厚度为35~45nm〇7. 如权利要求1~6任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第二金属层包括多个间 隔设置的金属条，且所述多个金属条之间具有允许光线透过的间隙。8. -种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 提供一基板； 在所述基板上的像素区域形成第一金属层； 在第一金属层上形成钝化层，且位于同一个所述像素区域的多个子像素区域的钝化层 厚度不同； 在钝化层上形成第二金属层，使第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所述法 泊腔根据所述钝化层厚度的不同允许不同波长的光透过。9. 如权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在第一金属层上形成 钝化层，且位于同一个所述像素区域的多个子像素区域的钝化层厚度不同，包括： 使用同一张掩模板在第一位置，沉积时间tl，得到第一厚度的钝化层； 在第二位置，沉积时间t2,得到第二厚度的钝化层； 在第三位置，沉积时间t3,得到第三厚度的钝化层。10. 如权利要求9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述钝化层的厚度满足以 下公式： d = m* A /2n ;其中，m为奇数，n为钝化层折射率，A为该厚度的钝化层对应的子像素 区域允许通过的光线的波长。11. 如权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述钝化层的材料为 MgF2、Si02、Si3N4、TiO 2中的任一种。12. 如权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述第二金属层包括多个 间隔设置的金属条，且所述多个金属条之间具有允许光线透过的间隙。13. -种透明显示装置，其特征在于，包括如权利要求1~7任一项所述的显示基板。
【专利摘要】本发明涉及透明显示技术领域，公开了一种显示基板及其制备方法、透明显示装置。该显示基板包含多个像素区域，每个像素区域包括多个子像素区域，其特征在于，还包括：基板，依次设置在基板上且位于子像素区域的第一金属层、钝化层及第二金属层，其中，第一金属层及第二金属层均为半透半反射的金属层，且位于同一个像素区域的多个子像素区域的钝化层厚度不同；第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，法泊腔根据钝化层厚度的不同允许不同波长的光透过。在上述技术方案中，通过形成的法泊腔使得显示装置不需要使用彩色滤光片，通过显示基板即可实现选择不同颜色的光线透过，简化了显示装置的结构，提高了生产效率。
【IPC分类】H01L21/77, H01L27/12
【公开号】CN105070728
【申请号】CN201510520352
【发明人】张洪术
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年8月21日