次设置在所述基板上且位于所述子像 素区域的第一金属层、钝化层及第二金属层，其中，所述第一金属层及所述第二金属层均为 半透半反射的金属层，且位于同一个所述像素区域的多个所述子像素区域的钝化层厚度不 同；
[0046] 所述第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所述法泊腔根据所述钝化层 厚度的不同允许不同波长的光透过。
[0047] 在本发明的技术方案中，通过采用第一金属层3、第二金属层4以及不同厚度的钝 化层5形成法泊腔，法泊腔根据钝化层5的厚度可以允许不同波长的光线透过，从而使得显 示装置无需使用彩膜滤光片，直接通过显示基板上的结构即可实现允许不同的光线通过， 减少了显示装置的结构，且能够实现透明显示。
[0048] 为了方便理解本发明实施例提供的显示基板的结构以及原理，下面结合具体的实 施例对其结构进行说明。
[0049] 在本实施例中，选取每个像素区域包括三个子像素区域，对应三个子像素区域的 钝化层分别具有第一厚度、第二厚度及第三厚度，且第一厚度钝化层对应的子像素区域允 许红色光透过，第二厚度钝化层对应的子像素区域允许绿色光透过，第三厚度钝化层对应 的子像素区域允许蓝色光透过。
[0050] 应当理解的是，本实施例提供的显示基板的非显示区域还设置了薄膜晶体管2,该 薄膜晶体管2与现有技术中的薄膜晶体管2的结构相同，其包括：栅极21;设置在所述栅极 21上的栅极绝缘层22;设置在所述栅极绝缘层22上的有源层23;设置在所述有源层23上 的源极24和漏极25,其中，所述源极24和漏极25之间具有沟道。该结构与现有技术中的 薄膜晶体管2的结构相同，在此不对其进行详细的描述。其中，第一金属层3与与漏极25 同层设置，钝化层5覆盖到源极24及漏极25上。
[0051] 本发明实施例提供的显示基板的原理是依据法泊腔的工作原理，法泊腔是其由 两层金属层及设置在两层金属层之间的介质层形成，其中，两层金属层可实现半透半反功 能；并且法泊腔的透射率：T = iyif 1'(/(1+?以1120)，其中
沒=士 (n 2d) ?式中，Ri、私、Ti、别为两金属层的反射率和透射率；約和終为金属 层的反射相移，而^ = 2"^为介质层的相位厚度。通过上述描述可以看出，法泊腔的透射 J, 率在金属层确定后，通过设定介质层的相位厚度，可以改变法泊腔的透射率，进而改变允许 透过的光线的波长，从而使得白光穿过法泊腔后的光线改变颜色。
[0052] 基于上述原理，本实施例提供的显示基板通过第一金属层3、第二金属层4作为金 属层，钝化层5作为介质层，从而在显示基板的像素区域制作的第一金属层3、钝化层5以及 第二金属层4形成法泊腔结构。使得显示基板可以有选择的透光。在具体制作时，钝化层 5制作形成第一厚度的钝化层51、第二厚度的钝化层52及第三厚度的钝化层53,三种厚度 的钝化层5与对应的第一金属层3及第二金属层4形成法泊腔，并且使得形成的法泊腔能 够允许红绿蓝三种波长的光线通过，从而使得实现显示基板有选择的透光。
[0053] 其中的钝化层5在形成时，通过PECVD工艺直接在第一金属层3上形成；并且在具 体形成时，通过沉积不同的时间形成不同的厚度，在具体形成时，钝化层的厚度满足以下公 式：d = m*A/2n;其中，m为奇数，n为钝化层折射率，A为该厚度的钝化层对应的子像素区 域允许通过的光线的波长。如：红光对应的波长为760~622nm，蓝光对应的波长为450~ 435nm、绿光对应的波长为577~492nm。则相对应的制作钝化层时，第一厚度的钝化层51 满足以下公式：dl = m*700nm/2n ;如：若选取m = 1，n = 1. 938 (Si3N4折射率，其折射率一 般为1. 3~2. 1，此处选取1. 938)，则，R像素对应的钝化层厚度dl = 180. 6nm，同理，G像 素和B像素对应的钝化层5的厚度分别为d2 = 140. 9nm，d3 = 112. 4nm。并且在具体制 作时，钝化层5的材质可以为MgF2、Si02、Si 3N4、1102等中的任意一种。较佳的，钝化层5为 Si3N 4材质制作的钝化层5 ;并且在三种不同厚度的钝化层5制作时，三种不同厚度的钝化层 5在不同的位置设置，并且三种不同厚度的钝化层5分别对应红色子像素、蓝色子像素及绿 色子像素。
[0054] 本实施例提供的第一金属层3及第二金属层4具有半透半反功能，且第一金属层 3及第二金属层4均可以采用不同的金属设置，只需具有上述功能即可，较佳的，第一金属 层3及第二金属层4均可以采用银材料制作而成，并且在制作时，第一金属层3及第二金属 层4的厚度均为35~45nm，如35nm、38nm、40nm、42nm、45nm。从而保证了第一金属层3及 第二金属层4能够具有较好的透光性。
[0055] 其中的第二金属层4包括多个间隔设置的金属条，且所述多个金属条之间具有间 隙。即第二金属层4采用间隔设置的方式，相邻的金属条之间存在间隙，在具体使用时，金 属条之间的间隙对应的钝化层5及第一金属层3,由于缺少第二金属层4,从而无法形成法 泊腔，因此，间隙对应的第一金属层3及钝化层5没有滤光作用，从所述间隙照射出的光线 为白光。并且第二金属层4反射回来的的光线（无法从第二金属层4照射出去的光线）在 钝化层5内传播到该间隙的位置，并从该间隙内射出，从而提高了光线的利用率，以及提高 了整个透明显示装置的透射率。
[0056] 通过上述描述可以看出，本实施例提供的显示基板通过采用第一金属层3、第二金 属层4及不同厚度的钝化层5形成法泊腔，从而实现获取较窄的色域，同时，通过采用第二 金属层4之间设置slit (间隙）结构，从而有效的提高了整个透明显示装置的透光率。
[0057] 此外，本发明实施例还提供了一种显示基板的制备方法，该方法包括以下步骤：
[0058] 提供一基板；
[0059] 在基板上的像素区域形成第一金属层；
[0060] 在第一金属层上形成钝化层，且位于同一个所述像素区域的多个所述子像素区域 的钝化层厚度不同；
[0061] 在钝化层上形成第二金属层；且第一金属层、钝化层及第二金属层构成法泊腔，所 述法泊腔根据所述钝化层厚度的不同允许不同波长的光透过。
[0062] 本发明为上述具体实施例提供的显示基板对应的制备方法，通过该方法制备的显 示基板可以实现允许不同颜色的光线通过。为了方便对本发明实施例提供的显示基板的制 备方法的理解，下面结合附图以及具体的实施例对其结构进行详细的说明。
[0063] 步骤一、如图3a和图3b所示，在基板1上形成薄膜晶体管2。
[0064] 具体的，如图3a所示，首先在基板1上形成栅极21;之后如图3b所示，在栅极21 上形成栅极绝缘层22,在栅极绝缘层22上形成有源层23,在有源层23上形成源极24和漏 极25。
[0065] 步骤二、如图3c所示，在基板上位于像素区的位置形成第一金属层3;
[0066] 具体的，如图3c所示，通过刻蚀工艺在薄膜晶体管2上形成第一金属层3,在具体 制作时，第一金属层3可以采用银材料制作而成，且厚度为40nm。
[0067]步骤三、如图3d所示，在第一金属层上形成钝化层，且位于同一个所述像素区域 的多个所述子像素区域的钝化层厚度不同；
[0068] 具体的如图4a~图4c所示，形成的钝化层5包括第一厚度