专利名称：薄膜栽培坑的制作方法
技术领域：
本实用新型属于农业领域，涉及植物栽培设施，具体是一种薄膜栽培坑。
背景技术：
地膜覆盖技术已普遍推广应用在农作物、蔬菜、花木的育苗种植，主要作用是提高地温，减少水分散发，但是在持续干旱或连续降雨的情况下，现有覆盖的地膜难以解决耐旱和雨水利用的问题。
发明内容发明人在多年从事农业生产的实践中，发现一个时期以来，农业生产，特别是作物种植栽培的季节，旱涝不匀，经常发生持续数十天的干旱，或连接数天的降雨，抗旱排涝不仅增加农业成本，影响作物生长，而且人工劳动强度大，人们迫切需要一种栽培技术，目的在于提供一种薄膜栽培坑，能够更好好解决抗旱，利用雨水和排涝问题。本实用新型所采取的技术方案是设计一种薄膜栽培坑，其结构包括:坑穴，覆盖在坑穴上面的上薄膜，还在坑穴内铺设内薄膜，上薄膜中部呈凹状，在上薄膜下面覆盖隆土层，隆土层与上薄膜相互一致。本实用新型采用上述技术措施，所设计的这种薄膜栽培坑，由于在坑穴中增铺薄膜，在向坑穴一次浇水后能较长时间保持坑内水分不向坑穴周围渗漏，加之坑穴上面的上薄膜，能较长时间保持坑内水分不向外散发，起到抗旱的作用；由于上薄膜呈凹状，在适量降雨时，雨水可经上薄膜凹部收集后流入坑内土壤，利用雨水给坑内补充适量水分；由于在上薄膜下面覆盖隆土层，当降雨过大时，除向坑穴内补充水分后，其余雨水可经上薄膜上面或下面隆土层排出，不会使作物受涝；由于上薄膜与内薄膜之间留有一定距离，能使上薄膜与内薄膜不致密封，对坑内与坑外起到调节作用，利于植物根部透气或补施肥水。栽培种植时，可以视作物品种，栽培规格要求，坑穴可大可小，可深可浅，坑穴可连续开挖成沟槽，内薄膜可连续铺设，上薄膜可连续覆盖，隆土层可连续覆盖成长垄，坑穴内填土后作物可植深植浅，有些作物甚至可以植于上薄膜下的隆土层内。本实用新型的这种薄膜栽培坑，也适用于花卉盆景推广，以花盆作为坑穴，在内薄膜一侧开孔，与花盆上的侧孔相通。本实用新型的这种薄膜栽培坑，具有适应性好，抗旱防涝，减少管理，减轻劳动强度，降低成本，提高产量的优点。
图1表示本实用新型薄膜栽培坑的结构剖面示意图。
具体实施方式
结合附图和实施例，进一步说明本实用新型的结构。[0011]本实用新型薄膜栽培坑的实例1，参见图1，其结构包括:坑穴1，覆盖在坑穴I上的上薄膜4，铺设在坑穴中下部的内薄膜2，上薄膜4呈凹状覆盖在坑穴I的上面，在上薄膜4下面覆盖隆土层3，上薄膜4与内薄膜2之间留有一定间距的调节段5。本实用新型薄膜栽培坑的实施例2，参见图1，其结构包括:在实施例1的结构中，其中坑穴I可以开挖成沟槽，内薄膜2可连续沿沟槽铺设，上薄膜4可连续覆盖，隆土层3可连续覆盖成长垄。本实用新型薄膜栽培坑的实施例3，参见图1，其结构包括:在实施例1的结构中，其中坑穴I可以采用花盆，在内薄膜2 —侧开设调节孔(图中未示)与花盆上的侧壁调节孔相通。本实用新型所述实施例，经小面积试验，证明效果理想，值得推广。
权利要求1.一种薄膜栽培坑，包括坑穴，覆盖在坑穴上面的上薄膜，其特征是还在坑穴的中下部铺设内薄膜，上薄膜中部呈凹状，在上薄膜下面覆盖隆土层。
2.如权利要求1所述的薄膜栽培坑，其特征是以花盆作为所述坑穴，在所述内薄膜一侧开有孔，与花盆的侧孔相通。
专利摘要本实用新型属于农业栽培技术领域，提出一种薄膜栽培坑，主要特点是在坑穴内铺设内薄膜，上薄膜呈凹状覆盖在坑穴上面，在上薄膜下面覆盖隆土层，适用于多种作物栽培，也适用于盆景花卉推广应用，具有适应性好，抗旱防涝，减少管理，减轻劳动强度，降低成本，提高产量等优点。
文档编号A01G9/02GK202941197SQ2012205224
公开日2013年5月22日 申请日期2012年10月12日 优先权日2012年10月12日
发明者许林川 申请人:许林川