一种彩膜基板、液晶面板、液晶显示装置及其制备方法与流程

文档序号:11152740阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:

基板;

多个红色色阻,设置在所述基板上;

其中,所述多个红色色阻在所述基板的边缘区域的厚度大于在所述基板的中心区域的厚度。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板由中心到边缘划分为若干个区域,越靠近所述基板中心的所述区域的红色色阻的厚度越小。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,还包括设置在所述基板上的多个蓝色色阻,所述多个蓝色色阻在所述基板的边缘区域的厚度小于在所述基板的中心区域的厚度。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板由中心到边缘划分为若干个区域,越靠近所述基板边缘的所述区域的蓝色色阻的厚度越小。

5.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,还包括设置在所述基板上的多个绿色色阻,所述多个绿色色阻在所述基板的边缘区域的厚度等于在所述基板的中心区域的厚度。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述基板为玻璃基板或TFT基板。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括黑矩阵,所述黑矩阵设置在相邻的两个色阻之间。

8.一种液晶显示装置,其特征在于,包括液晶显示面板和驱动电路,

所述驱动电路,与所述液晶显示面板电连接,用于驱动所述液晶显示面板;

所述液晶显示面板包含权利要求1至7任意一项所述的彩膜基板。

9.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,在所述彩膜基板的曝光过程中,使用边缘区域的透光率大于中心区域的透光率的掩膜板对用于形成红色色阻的色阻材料进行曝光。

10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,还包括在所述彩膜基板的曝光过程中,使用边缘区域的透光率小于中心区域的透光率的掩膜板对用于形成蓝色色阻的色阻材料进行曝光。

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