负型感光性树脂组合物的制作方法_2

文档序号:9523303阅读:来源:国知局
二乙氧基娃基)丙基]巧喃-2, 5-二酬、W及118. 98克的苯基二甲氧基硅烷在 172克的PGMEA溶剂中进行揽拌,缓缓滴入憐酸水溶液54克化0092克H3PO4溶于54克水 中)后,升溫至11(TC进行一缩合聚合反应,反应时间为2小时。反应完成后,使用蒸馈方式 除去醇与水,所得的聚硅氧烷化合物A-3的固含量为45%,其分子量为2500克/摩尔。 阳03引 实施例1-6
[0039] 请参考表1,将聚硅氧烷化合物、娃酸醋低聚物、光酸产生剂、W及溶剂依照表1所 示的组成配方配置成实施例1至6的感光性树脂组合物,其中,所使用的聚硅氧烷化合物是 由上述制备例1-2所制备的聚硅氧烷化合物A-1及A-2。所使用的娃酸醋低聚物为娃酸甲 醋。而使用的光酸产生剂为Omnicat 432、Irgacure 290及TR-PAG-201,运些光酸产生剂 皆为Ξ苯基梳盐,其对应的化学式如下所示:
[0040]
阳〇4U 表1 (单位:克)
[0042]
W43] 比较例1-6 W44] 请参考表2,将聚硅氧烷化合物、娃酸醋低聚物、光酸产生剂及溶剂等依照表2所 示的组成配方配置成比较例1至6的感光性树脂组合物,其中,所使用的聚硅氧烷化合物 为由上述制备例2-3所制备的聚硅氧烷化合物A-1至A-3。在比较例中使用其他交联剂 种类W取代本发明所使用的娃酸醋低聚物,其中,运些使用的交联剂为Ξ(3-(Ξ甲氧基娃 基)丙基)异氯脈酸醋(化13(3-(付;[11161:110巧3;[171)口1'0口5^1)130巧日]111拘16,4-1^;[证 597)、 双(Ξ乙氧基甲娃烷基)乙烧度is(trietho巧silyDethane,SIB1817)、PSI-021(Poly( diethyoxysiloxane) 20. 5-21. 5%Si, 40-42%Si02),W及PSI-023 任oly(diethyoxysiloxa ne) 23. 0-23. 5 %Si,48-52 %Si02)。 柳45] 表2 (单位:克)
[0046]
[0047] 比较例7 W48] 本比较例使用永光化学EOC210作为感光性树脂组合物,其由苯乙締、甲基丙締 酸、互基豆逾璧玉I旨、Ξ环癸醋等丙締酸单体,经聚合缩合后获得的聚丙締酸树醋。 阳0例试验例
[0050] 首先,准备一基材,并W去离子水及丙酬清洁该基材表面。接着,将上述实施例1 至6、比较例1至7所制备的负型感光性树脂组合物W旋转涂布方式分别均匀涂布在该基材 上。接着,在90°C下,软烤5分钟,并使用一光罩,直接W超高压水银灯(曝光能量:200mJ/ cm2)对上述涂布在基材表面的负型感光性树脂组合物进行曝光。接着,WENPD80显影液 进行显影60秒。在230°C下,进行30分钟的硬烤。最后,在25°C下W二次水清洗基板及该 光阻层,从而获得所需的样本。 阳05U <硬度〉
[0052] 上述试验例所制得的样本为按照JISK-5400-1990的8. 4. 1铅笔划痕硬度试验测 定所得的样本的铅笔硬度。硬度的测量W铅笔硬度作为单位,其结果如表3所示。 阳〇5引 < 耐热后穿透度〉
[0054] 上述试验例所制得的样本在280°C的环境下加热1小时,经热处理后,利用化otal MCPD-3000 (大冢科技)测试运些样本对于波长为400nm的穿透度。其结果如表3所示。 阳0对 < 耐水洗测试〉
[0056] 上述试验例所制得的样本在25°C的超声波水槽中振荡30分钟。耐水洗测试的评 估结果如表3所示,其中,耐水洗测试的评估为:优4B> 3B> 2B> 1B> 0B劣。
[0057] <耐蚀刻测试〉
[0058] 将上述试验例所制得的样本在40°C下浸于化Cl3中历时120秒。其耐蚀刻测试的 评估结果如表3所示。其中,耐蚀刻测试的评估为:优4B> 3B> 2B> 1B> 0B劣。
[0059] 表 3
[0060]
[0061] <耐热缩膜率及黄变〉
[0062] 将上述试验例中,由实施例1W及比较例7所制备的样品在280°C下热处理1小 时,并计算其耐热缩膜率,其中,耐热缩膜率=(耐热测试前膜厚-耐热测试后膜厚)/耐热 测试前膜厚X100%。W及,目视黄变的评估标准为:透明5 > 4 > 3 > 2 > 1黄。其测试 结果如表4所示。
[0063] 表 4
[0064]
[0065] 由表4的结果可证实,本发明所提供的负型感光性树脂组合物具有高度的耐热特 性,可显著改善公知的作为面板的绝缘层或保护层的耐热特性。
[0066] 通过W上的测试结果,可清楚理解本发明所提供的负型感光性树脂组合物可做 为新世代绝缘层的透明光致抗蚀剂,举例而言,可应用于触控面板绝缘层(0C1)与保护层 (0C2)上,该产品具有耐高溫后透明性、金属基材密着性佳、低曝光能量、易显影及耐湿、耐 蚀刻等良好的特性。
[0067] 上述实施例仅是为了方便说明而举例而已,本发明所主张的权利范围自应W申请 专利范围所述为准,而非仅限于上述实施例。
【主权项】
1. 一种负型感光性树脂组合物,包括: (A) 5至25重量百分比的聚硅氧烷化合物,其由多种单体聚合而成,其中,这些单体至 少包括:一如式(a-Ι)所示的硅氧烷单体,以及一含酸酐基团的硅氧烷单体;其中,札各自独立地为C i 6的烷基; (B) 0. 1至20重量百分比的硅酸酯低聚物,其如式(b-Ι)所示;其中,R2各自独立地为C16的烷基;以及 η为2至10的整数; (〇0. 1至10重量百分比的光酸产生剂;以及 (D)余量溶剂。2. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,在(Α)该聚硅氧烷化合物中,该含酸酐基团 的硅氧烷单体如式(a-2)所示:其中,R3选自由直接键结、C i 6的烷基及C i 6烷氧基所组成的组; R4为C i 6的烷氧基;以及 r5各自独立地为c i 6的烷基或c i 6的烷氧基。3. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,(A)聚硅氧烷化合物由如式(a-Ι)所示的硅 氧烷单体及该含酸酐基团的硅氧烷单体聚合而成,基于这些单体占(A)聚硅氧烷化合物的 总重量比,式(a-Ι)所示的硅氧烷单体占5至60%;以及该含酸酐基团的硅氧烷单体占0. 1 至 40%。4. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,在(A)聚硅氧烷化合物中,这些单体还包括 至少一如式(a-3)所示的硅氧烷单体:其中,&为c i 2。的非水解性有机基团;以及 r7各自独立地选自由c i 6烷氧基及芳氧基所组成的组。5. 如权利要求4所述的树脂组合物,其中,(A)聚硅氧烷化合物由如式(a-Ι)所示的硅 氧烷单体、该含酸酐基团的硅氧烷单体、至少一如式(a-3)所示的硅氧烷单体聚合而成,其 中,基于这些单体占(A)聚硅氧烷化合物的总重量比,式(a-Ι)所示的硅氧烷单体占10至 60%、该含酸酐基团的硅氧烷单体占0. 5至40%,以及至少一如式(a-3)所示的硅氧烷单体 占0至80%。6. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,在(A)聚硅氧烷化合物中,如(a-Ι)所示的 硅氧烷单体为四乙氧基硅烷。7. 如权利要求2所述的树脂组合物,其中,式(a-2)所示的该含酸酐基团的硅氧烷单体 为二氢-3-[3-(三乙氧基硅基)丙基]呋喃-2, 5-二酮。8. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,式(b-Ι)所示的该硅酸酯低聚物为硅酸甲 酯。9. 如权利要求1所述的树脂组合物,其中,(C)光酸产生剂为一三苯基锍盐。10. 如权利要求8所述的树脂组合物,其中,(C)三苯基锍盐为如式(c-1)至(c-3)任 一所示的三苯基锍盐:11.如权利要求1所述的树脂组合物,其中,(A)聚硅氧烷化合物的分子量为1000~ 6000克/摩尔。
【专利摘要】本发明公开了一种负型感光性树脂组合物,包括:(A)5至25重量百分比的聚硅氧烷化合物;(B)0.1至20重量百分比的硅酸酯低聚物;(C)0.1至10重量百分比的光酸产生剂;以及(D)余量溶剂。本发明所提供的负型感光性树脂组合物具有高耐热性、高透明性、高耐化学药品性及高耐湿性等优异特性。
【IPC分类】G03F7/075
【公开号】CN105278250
【申请号】CN201510111158
【发明人】林钧雯, 杨宗翰, 陈鹏文, 周俊钦, 林伯南, 蓝大钧, 张志毅, 林昭文
【申请人】台湾永光化学工业股份有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年3月13日
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1