一种连续式镀膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本发明涉及液晶显示器制造技术领域，具体涉及一种连续式镀膜装置。
【背景技术】
[0002]目前，膜层的真空镀膜设备因为其本身腔室里的微粒(Particle)影响了镀膜的质量，造成镀膜产品因为膜内灰尘而影响生产良率，尤其是对膜层要求比较高的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称:TFT)显示器产品影响更大。膜内灰尘是一项重要监控指标，虽说采用枚叶式镀膜设备，但基片也会接触到腔室里的微粒(Particle)，造成膜层污染，以致达不到质量要求。使用目前的真空镀膜设备镀膜还存在膜层与基片的附着力低的问题，易脱膜、掉膜，导致膜层质量不佳。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种连续式镀膜装置，通过在镀膜腔室里安装真空清洁设备，使膜层具有极少的微粒(Particle)，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜，提升了膜层质量，本发明适用于对膜层质量要求比较高的显示器，尤其是薄膜晶体管(TFT)显示器。
[0004]为解决上述问题，本发明采用的技术方案为:
[0005]本发明提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，所述前腔室和后腔室均设有排气口，在所述后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架带有滑轮，用于承载基片，所述载片架通过滑轮和导轨从前腔室移动到后腔室，所述导轨由支撑架支撑，前腔室和后腔室均设有所述导轨;在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，在带有滑轮的载片架上的基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；
[0006]所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。
[0007]进一步地，所述前腔室为工作辉光区域，所述后腔室为阴极溅射辉光区域。
[0008]进一步地，所述真空清洁设备起辉光的镀膜真空压力范围为0.1-1OPa，溅射电压范围为1000-2000伏。
[0009]进一步地，在所述正电极板与负电极板、阴极及背板上设有冷却水管。
[0010]更进一步地，所述正电极板与负电极板为不锈钢板或铜板。
[0011]更进一步地，所述背板为铜背板。
[0012]本发明的有益效果在于:
[0013]在本发明提供的连续式镀膜装置中，基片倾斜镀膜，并安装真空清洁设备，连续式镀膜装置的工作辉光区域与阴极靶材溅射区域相连，使得基片在镀膜前不接触腔室里的微粒(Particle)，提高了膜层的质量。同时，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜，本发明适合于对膜层质量要求比较高的薄膜晶体管(TFT)显示器。
【附图说明】
[0014]图1是本发明的连续式镀膜装置的结构示意图；
[0015]图2是本发明的连续式镀膜装置的实施状态示意图。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图具体阐明本发明的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不构成对本发明专利保护范围的限制。
[0017]实施例1:
[0018]如图1所示，本实施例提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室I和后腔室2，所述前腔室I和后腔室2均设有排气口 10，20，在所述后腔2内通过支撑架21支撑倾斜平行设置的靶材22、阴极及背板23、载片架24，所述载片架24带有滑轮25，用于承载基片3，所述载片架24通过滑轮25和导轨26从前腔室I移动到后腔室2，所述导轨26由支撑架21支撑，前腔室I和后腔室2均设有所述导轨26;在所述前腔室I内通过支撑架11支撑倾斜平行设置的正电极板12与负电极板13，基片3从正电极板12与负电极板13之间通过，所述正电极板12与负电极板13在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备，对基片进行干式真空清洗;所述真空清洁设备正常起辉光工作的镀膜真空压力范围为
0.1-1OPa，溅射电压范围为1000-2000伏，溅射量也十分微少。
[0019]所述前腔室I和后腔室2通过中间设置的狭缝4连通，所述狭缝4供基片3在带有滑轮25的载片架24上从前腔室I移动到后腔室2。所述前腔室I为工作辉光区域，所述后腔室2为阴极溅射辉光区域。这样，真空清洁设备的工作辉光区域与阴极溅射辉光区域相接，这样基片真空清洗后直接进入靶材镀膜区域，基片不与腔室中的微粒(Particle)接触，保证沉积膜层的微粒(Particle)比较少，减少了膜层灰尘。同时，由于镀膜前的辉光粒子对基片的清洁处理，可以增加膜层与基片的附着力，不会出现掉膜、脱模等问题，保证了沉积膜层的高质量。
[0020]在所述正电极板12与负电极板13、阴极及背板23上设有冷却水管5。
[0021]所述正电极板12与负电极板13为不锈钢板或铜板。所述背板23为铜背板。
[0022]本发明采用基片倾斜式设置，一方面基片玻璃不会因为竖直挂片而掉片，也不会因为平卧式设置而流片，或由于靶材的沉积物影响膜层的质量。
[0023]在本发明的实施例中，连续式镀膜，也称In-line立式镀膜，用载片架(Carriers)承载基片玻璃，由进出片室、缓冲室、过渡室、镀膜室等构成。由于连续式镀膜装置的各个腔室中的微粒(Particle)影响镀膜膜层的质量，所以在基片镀膜前通过真空清洁设备对其进行清洗，去除基片上的微粒(Particle)，又由于此真空清洁设备的工作辉光区域和阴极革巴材的溅射辉光区域相连，这样基片在清洗后直接镀膜，没有接触腔室内微粒(Part i c I e)的机会，减少了基片上微粒的数量，同时，基片表面进行辉光清洁后，也提高了膜层与基片的附着力，不会有脱膜、掉膜等问题，保证了镀膜膜层的质量。
[0024]如上述实施例为本发明较佳的实施方式，但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，所述前腔室和后腔室均设有排气口，其特征在于: 在所述后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架用于承载基片;在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备； 所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。2.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于: 所述前腔室为工作辉光区域，所述后腔室为阴极溅射辉光区域。3.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于: 所述真空清洁设备起辉光的镀膜真空压力范围为0.Ι-lOPa，溅射电压范围为1000-2000伏。4.根据权利要求1所述的连续式镀膜装置，其特征在于: 在所述正电极板与负电极板、阴极及背板上设有冷却水管。5.根据权利要求1或4所述的连续式镀膜装置，其特征在于: 所述正电极板与负电极板为不锈钢板或铜板。6.根据权利要求1或4所述的连续式镀膜装置，其特征在于: 所述背板为铜背板。
【专利摘要】本发明提供一种连续式镀膜装置，包括真空镀膜腔室，所述真空镀膜腔室包括前腔室和后腔室，在后腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的靶材、阴极及背板、载片架，所述载片架用于承载基片；在所述前腔室内通过支撑架支撑倾斜平行设置的正电极板与负电极板，基片从正电极板与负电极板之间通过，所述正电极板与负电极板在镀膜真空压力条件下起辉光，构成真空清洁设备；所述前腔室和后腔室通过中间设置的狭缝连通，所述狭缝供基片从前腔室移动到后腔室。在本发明提供的连续式镀膜装置的工作辉光区域与阴极靶材溅射区域相连，使得基片在镀膜前不接触腔室里的微粒，提高了膜层的质量。同时，镀膜前的辉光清洁也会提高膜层与基片的附着力，不会脱膜、掉膜。
【IPC分类】C23C14/50, C23C14/56, C23C14/34
【公开号】CN105568234
【申请号】CN201610061031
【发明人】王学雷, 朱景河, 黄伟东, 李建华
【申请人】信利（惠州）智能显示有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2016年1月28日