1.一种氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于包括：将硼源和氮源前驱物充分混合，在含氮反应气氛中加热至1100～1500℃并保温0.5h以上，之后在保护气氛中降温至室温，获得粗产物，再对所述粗产物进行后处理，获得所述氮化硼纳米片粉体。
2.根据权利要求1所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述硼源与所述氮源前驱物的摩尔比为10:1～1:10。
3.根据权利要求1或2所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述硼源前驱物包括氧化硼；和/或，所述氮源前驱物包括金属氮化物。
4.根据权利要求3所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述金属氮化物包括氮化镁、氮化锂、氮化钙中的任意一种或两种以上的组合。
5.根据权利要求1所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于包括：将硼源和氮源前驱物充分混合，并在含氮反应气氛中加热至1200～1300℃且保温0.5～4h。
6.根据权利要求1所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述反应气氛为氨气气氛或氨气与氮气及氩气中的至少一种形成的混合气氛；和/或，所述保护气氛为氮气和/或氩气气氛。
7.根据权利要求1所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述的后处理包括：将所述粗产物酸洗、过滤、干燥，从而获得所述氮化硼纳米片粉体。
8.根据权利要求7所述的氮化硼纳米片粉体宏量制备方法，其特征在于：所述的后处理包括：将所述粗产物以浓度为1～3mol/L的酸溶液洗涤后，过滤，再在60～80℃干燥6～12h，获得所述氮化硼纳米片粉体。
9.一种氮化硼纳米片粉体，其纯度在99％以上，并且其中氮化硼纳米片为六方氮化硼纳米片，所述六方氮化硼纳米片的厚度为1～20原子层，径向尺寸为1～20μm。
10.如权利要求9所述的氮化硼纳米片粉体，其特征在于：所述六方氮化硼纳米片的厚度为1～10原子层，径向尺寸为1～10μm。