专利名称：苯并咔唑化合物的肟酯衍生物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途的制作方法
苯并咔唑化合物的肟酯衍生物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途发明描述本发明涉及基于特殊咔唑衍生物的新肟酯化合物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途。具有咔唑结构部分的肟酯化合物在本领域中已知为光敏引发剂。例如EP2015443、W02008/138724和 EP2141206 公开了相应化合物。JP2006-36750-A (对应于 W02005/080337)的极宽一般范围也涵盖具有咔唑结构部分和尤其是稠合环的化合物。然而，各实施例仅显示至包括肟基团的咔唑结构部分的环形成。在W02008/138732中也描述了含有咔唑基团的不同光敏引发剂化合物。同样，其中宽一般范围涵盖在咔唑基团处的取代基形成环，但未公开相应实例。在光聚合技术中仍需要具有高反应性、易于制备且易于处理的光敏引发剂。例如在滤色器抗蚀剂应用中，对于高色彩质量性能需要经高度着色的抗蚀剂。随着颜料含量的增加，色彩抗蚀剂的固化变得更加困难。因此，需要具有高敏感性的光敏引发剂。另外，这些新光敏引发剂也必须满足对于性能如易处理性、高溶解性、热稳定性和储存稳定性的高工业要求。现已发现所选化合物尤其合适作为光敏引发剂。因此，本发明主题为式I化合物:
权利要求
1.式I化合物::
2.根据权利要求1的式I化合物,其中 R1 R2 R3 R4 R5 R6 R7 R8相互独立地为氢、C1-C20烷基、
3.根据权利要求1的式I化合物,其中 R1^ R2> R3> R4> R5> R6> R7和R8相互独立地为氢， 或R1和R2、R3和R4或R5和R6相互独立地一起为
4.一种可光聚合组合物，包含 (a)至少一种乙烯属不饱和可光聚合化合物，和 (b)至少一种如权利要求1所定义的式I化合物作为光敏引发剂。
5.根据权利要求4的可光聚合组合物，其中该组分(a)为通过饱和或不饱和多元酸酐与环氧树脂和不饱和单羧酸的反应产物反应获得的树脂。
6.根据权利要求4的可光聚合组合物，其除该光敏引发剂(b)外，额外包含至少一种其他光敏引发剂(C)和/或其他添加剂(d)。
7.根据权利要求6的可光聚合组合物，其包含颜料或颜料混合物作为其他添加剂(d)。
8.根据权利要求7的可光聚合组合物，其包含分散剂或分散剂混合物作为其他添加剂⑷。
9.根据权利要求4-8中任一项的可光聚合组合物，其基于该组合物包含0.05-25重量％光敏引发剂(b)或光敏引发剂(b)和(C)。
10.根据权利要求4-9中任一项的可光聚合组合物，其包含光敏剂，尤其为选自二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、噻吨酮、噻吨酮衍生物、蒽醌、蒽醌衍生物、香豆素和香豆素衍生物的化合物作为其他添加剂(d):。
11.根据权利要求4-10中任一项的可光聚合组合物，其额外包含粘合剂聚合物(e)，尤其为甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸的共聚物。
12.—种通过在碱或碱混合物的存在下使相应的肟化合物与式II的酰卤或式III的酸酐反应而制备根据权利要求1的式I化合物的方法，
13.一种使含有乙烯属不饱和双键的化合物光聚合的方法，包括以150-600nm范围内的电磁辐射或以电子束或以X射线辐照根据权利要求4-11中任一项的组合物。
14.根据权利要求13的方法，其用于产生着色和未着色漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、印刷板、粘着剂、压敏粘着剂、牙科组合物、凝胶涂层，用于电子器件的光致抗蚀剂、抗电镀剂、抗蚀刻剂，液体膜和干膜二者，阻焊剂，用以制造用于多种显示器应用的滤色器的抗蚀剂，用以在等离子显示器面板、电致发光显示器和IXD制造过程中产生结构的抗蚀剂，用于LCD的间隔物，用于全息数据储存(HDS)，作为用于包封电气和电子组件的组合物，用于制造磁性记录材料、微机械部件、波导、光学开关、镀覆掩模、蚀刻掩模、彩色打样体系、玻璃纤维光缆涂料、丝网印刷模版，用于借助立体石印产生三维物体，作为图象记录材料，用于全息记录、微电子电路、脱色材料，用于图象记录材料的脱色材料，用于使用微胶囊的图象记录材料，作为用于UV和可见激光直接成像体系的光致抗蚀剂材料，作为用于形成印刷电路板的顺序堆积层中的介电层的光致抗蚀剂材料。
15.经涂覆基材，其在至少一个表面上经根据权利要求4的组合物涂覆。
16.照相产生浮凸图象的方法，其中使根据权利要求15的经涂覆基材遭受成图象曝光且随后用显影剂除去未曝光部分。
17.一种滤色器，通过如下制备:在透明基材上提供红色、绿色和蓝色像元和黑色矩阵，其均包含光敏树脂和颜料；和在所述基材的表面上或滤色器层的表面上提供透明电极，其中所述光敏树脂包含多官能丙烯酸酯单体、有机聚合物粘合剂和如权利要求1中所定义的式I的光聚合引发剂。
18.根据权利要求1中所定义的式(I)化合物在包含至少一种乙烯属不饱和可光聚合化合物的组合物的光聚合中的用途。
19.式(IA)化合物:
全文摘要
式(I)化合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8例如相互独立地为氢、C1-C20烷基、(II)、COR16或NO2，只要R1和R2、R2和R3、R3和R4、R5和R6、R6和R7或R7和R8中至少一对为(III)；R9、R10、R11和R12例如相互独立地为氢、任选经取代的C1-C20烷基；或R9、R10、R11和R12相互独立地为未经取代或经取代的苯基；X为CO或直接键；R13例如为任选经取代的C1-C20烷基、C2-C12链烯基、C4-C8环烯基、C2-C12炔基、C3-C10环烷基、均任选经取代的苯基或萘基；R14例如为氢、C3-C8环烷基、C2-C5链烯基、C1-C20烷氧基、C1-C20烷基、苯基或萘基；R15例如为C6-C20芳基或C5-C20杂芳基；R16例如为未经取代或经一个或多个C1-C20烷氧基或C1-C20烷基取代的C6-C20芳基；尤其合适在滤色器应用中作为光敏引发剂。
文档编号C07D409/12GK103153952SQ201180048095
公开日2013年6月12日 申请日期2011年10月4日 优先权日2010年10月5日
发明者西前祐一, 仓久敏, 国本和彦, 山上隆平, 田中庆太 申请人:巴斯夫欧洲公司