高折射率(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物及其制备方法，更详细而言涉 及一种可使用于光学膜之类的显示部件素材且具有高折射率的新颖的（甲基）丙烯酸酯衍 生物及其制备方法。
【背景技术】
[0002] 具有高折射率的（甲基）丙烯酸酯可使用于光学产品，即光学透镜、光学膜及光学 介质等。尤其，光学膜可使用于液晶显示器或等离子体显示面板之类的显示器产品，其中被 使用于液晶显示器棱镜片OXDPrismsheet)等光学膜，主要用来改善设置于液晶显示器 (LCD)背面的背光模组（Back-LightUnit)的辉度。
[0003] 作为光学膜中棱镜膜的棱镜层构成材料的一个重要光学参数，可列举出折射率， 折射率越高则棱镜膜的性能越改善，作为一个具有高折射率的棱镜膜用于增加LCD背光效 率的例子，大韩民国公开专利特2001-0012340号和大韩民国公开专利第10-2005-0010760 号中公开了一种具有高折射率且由包含溴化单体的聚合物组成物制成的光学产品。然而， 溴或氯之类的卤化合物尽管可以提高折射率，但是固化后膜的黄变严重，这种黄变降低膜 性能，严重时还会影响显示颜色。
[0004] 即，目前研制的高折射率丙烯酸酯由于包含卤化合物而毒性较大，并且存在燃烧 时产生大量的腐蚀性气体的问题，通常情况下产品的粘度非常高或者为固态，所以在制备 涂层液时维持高粘度状态，从而导致加工性问题的发生，并且由于使用昂贵的原料物质，因 此具有价格竞争率下降等缺点。
[0005] 由此，需要由低成本工序制备作为非卤化物相对低粘度的液状的高折射率（甲 基）丙烯酸酯。
【发明内容】
[0006] 技术问题
[0007] 为了解决如上所述的以往技术问题，本发明的目的在于提供一种新颖的（甲基） 丙烯酸酯衍生物，它具备高折射率和低粘度特性，固化时透明性优异，长时间暴露在光线下 也很少黄变，且成型性、粘结性以及光学特性优异。
[0008] 并且，本发明另一个目的在于提供一种制备所述高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生 物的方法。
[0009] 技术方案
[0010] 本发明提供一种由下述化学式1表示的新颖的（甲基）丙烯酸酯衍生物：
[0011] [化学式1]
[0012]
【主权项】
1. 一种由下述化学式1表示的（甲基）丙烯酸酯衍生物：
其中X是O或s，R是氰基或甲基。
2. 根据权利要求1所述的（甲基）丙烯酸酯衍生物，其中，所述（甲基）丙烯酸酯衍生 物选自下述化合物：
其中R是氰基或甲基。
3. 根据权利要求1所述的（甲基）丙烯酸酯衍生物，其中，所述（甲基）丙烯酸酯衍生 物在25°C粘度为300至3500cP，折射率为1. 61至1. 63。
4. 一种高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，包括以下步骤： 1) 向第一反应器中投入下述化学式a的荷衍生物、PFA(paraformaldeh yde)及酸，使 其进行反应，制备化学式b的化合物； 2) 向第二反应器中投入KOH水溶液和下述化学式c的甲基丙烯酸，然后投入 TBAB (Tetra-n-butylammonium bromide)，制备 KOH/ 甲基丙稀酸水溶液； 3) 将所述1)步骤的反应产物即下述化学式b的化合物投入到2)步骤的第二反应器 中，使其进行酯化反应，制备下述化学式1的（甲基）丙烯酸酯衍生物：
其中X是O或s，R是氰基或甲基。
5. 根据权利要求4所述的高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，其中，所述 1)步骤的酸是醋酸、盐酸、磷酸、硫酸、对甲苯磺酸或甲磺酸。
6. 根据权利要求4所述的高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，其中，所述 1)步骤的反应温度为80至85°C。
7. 根据权利要求4所述的高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，其中， 所述2)步骤中KOH水溶液和化学式c的甲基丙烯酸的投入是在5至15°C下进行， TBAB(Tetra-n_butylammonium bromide)的投入是在 20 至 30°C下进行。
8. 根据权利要求4所述的高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，其中，所述 3)步骤的酯化反应在70至90°C下进行。
9. 根据权利要求4所述的高折射率（甲基）丙烯酸酯衍生物的制备方法，其中，包括： 在所述1)步骤的反应后，向第一反应器中追加投入阻聚剂的步骤；或者 在3)步骤的酯化反应后追加投入阻聚剂的步骤。
【专利摘要】本发明涉及一种高折射率(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法，更详细而言涉及一种可使用于光学膜之类的显示部件素材且具有高折射率的新颖的(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法。
【IPC分类】C07D333-76, G02B5-04, C07D307-91
【公开号】CN104768939
【申请号】CN201380050079
【发明人】辛泓炫, 韩双洙, 孔春昊, 金冏显
【申请人】（株）大林化学
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2013年7月23日
【公告号】US20150225364, WO2014104513A1