C1-C 2tl酰基、苯基、萘基取代或被C ^C8羟基烷基取代的C 5-(：8亚环烷基，被一个或 多个0或NR5间隔的C 5-(：8亚环烷基，所述被间隔的C 5-C8亚环烷基未被取代或被一个或多 个C1-C4烷基、C「(；烷氧基取代或被OH取代，未被取代或被一个或多个C ^C8烷基、C「(：8烷 氧基、0H、卤素、(：2-(： 8链烯基、COOR 6、C1-C2tl酰基、苯基、萘基取代或被C 基烷基取代的 C6-C1,芳基； 或者若 η = 2,则 R4为（CO)R10(CO) ; (CO)O-R10-O(CO) ; (CO)NR5-R10-NR5(CO)、[Si(R7) (R8)Ip; [Si (R7) (R8)-Olp; 或者若η = 2,则R4为被一个或多个选自0、（C0)、NRjPNR17的基团间隔的Cltl-C 5tl亚 烷基，所述被间隔的Cltl-C5tl亚烷基被一个或多个OH取代； A 为 PFpSbFpAsFf^B(C6F5) 4; R5为氢、（CO) R 6、苯基、C1-C12烷基、被一个或多个0间隔的C 2-C12烷基，其中所述C「C12 烷基或被间隔的C2-C12烷基未被取代或被一个或多个C 3-(：7环烷基、OH取代或被NCO取代， 未被取代或被一个或多个C1-C 4烷基、C ^仏烷氧基、OH取代或被NCO取代的C 3-(：12环烷基； &为C「C12烷基，被一个或多个0间隔的C 2-C12烷基，其中所述C「(^烷基或被间隔的 C2-C12烷基未被取代或被一个或多个C 3-(：7环烷基、0H、NCO取代或被NCO取代的苯基取代； 或者&为C 3-C12环烷基，未被取代或被一个或多个C「C4烷基、OH或C「C 4烷氧基取代 的C2-Cltl链烯基； 或者R6为未被取代或被C ^C12烷基、C「(^烷氧基、NCO取代或被NCO取代的C「(^烷 基取代的C6-C14芳基； 或者1?5和R 6与N原子一起形成为未被间隔或被O或NR 5间隔的5或6员饱和环且所 述未被间隔或被间隔的环未被取代或被一个或多个C1-C4烷基、C「(^烷氧基取代或被OH取 代； R7、馬和R 9相互独立地为C「C4烷基、C 6-C14芳基或C「(；烷氧基； 札〇为C 2_C18亚烷基，被一个或多个0、NR 5或S间隔的C 2-C18亚烷基，其中所述C 2-(：18亚 烷基或被间隔的C2-C18亚烷基未被取代或被一个或多个C ^C4烷基、C ^仏烷氧基取代或被 OH取代； m为1或2 ; 〇 为 0-10 ; P 为 1-10 ; Y1为键、〇、S、NR 5、0 (CO)-*或O(CO)-CH2-O-*,其中星号表示基团（A)、⑶、⑶或（E) 的苯基环的键； Y2为键、0、S 或 NR5; R11和R 12相互独立地为未被取代或被C ^C4烷基取代的C ^Cltl烷基、C 2-C1(l链烯基或苯 基-C1-C4烷基，或R n和R 12与它们所连接的C原子一起为环己基或环戊基； Z 为 OH 或 NR13R14; C「(：12烷氧基或被一个或多个0间隔的C2-C12烷氧基，其中所述C「C 12烷氧基或被 间隔的C2-C12烷氧基未被取代或被OH取代； R13和R 14相互独立地为C ^C12烷基，被一个或多个OH或卤素取代的C ^C12烷基；或R 13 和R14与它们所连接的N原子一起形成5或6员不饱和或饱和环，所述环未被间隔或被0或 NR15间隔； R15为C「C4烷基； R16为氢或C「C4烷基； R17为（CO)-O-CH2CH2-O(CO)-CH = CH2; 其中使： 其中R4为氢且X和Y为〇的式⑴化合物，或者 其中R4为氢且X和Y为S的式⑴化合物，或者 其中XjP Y为〇的式（II)化合物，或者 其中XjP Y为S的式（II)化合物， 与合适的亲电试剂反应。
6. 制备如权利要求3所定义的式（I)或（II)化合物的方法，其中 Rn R2、R3、Rla、R2a、R3a、Q和Y如权利要求3所定义； X为0或S或NR5; &具有如权利要求5中所给定义之一； 其中使如权利要求4所定义的式（Ia)化合物与合适的亲核试剂反应。
7. -种可光聚合组合物，包含 (a) 至少一种烯属不饱和可光聚合化合物，和 (b) 作为光敏引发剂的至少一种如权利要求1所定义的式（I)或（II)化合物。
8. 根据权利要求7的可光聚合组合物，除了所述光敏引发剂（b)外额外包含至少一种 其他光敏引发剂（c)和/或其他添加剂（d)。
9. 根据权利要求8的可光聚合组合物，作为其他添加剂（d)包含颜料或颜料混合物或 一种或多种颜料与一种或多种染料的混合物。
10. 根据权利要求8的可光聚合组合物，作为其他添加剂（d)包含分散剂或分散剂混合 物。
11. 根据权利要求7-10中任一项的可光聚合组合物，基于所述组合物包含0. 05-25重 量％光敏引发剂（b)或光敏引发剂（b)和（C)。
12. 根据权利要求7-10中任一项的可光聚合组合物，作为其他添加剂（d)包含光敏剂。
13. -种光聚合含有烯属不饱和双键的化合物的方法，包括用150-600nm范围内的电 磁辐射或电子束或X射线辐照根据权利要求7-11中任一项的可光聚合组合物。
14. 根据权利要求13的方法，用于生产着色和未着色油漆和清漆、粉末涂料、印刷油 墨、印版、粘合剂、牙科组合物、凝胶涂料、电子器件用光致抗蚀剂、抗蚀刻剂、液体和干燥薄 膜二者、阻焊剂、制造用于各种显示器应用的滤色器的抗蚀剂，包封电气和电子组件，生产 磁记录材料、微机械部件、波导、光学开关、电镀掩模、彩色打样系统、玻璃纤维电缆涂料、丝 网印刷模版、借助立体石印术的三维物体、图像记录材料、微电子电路、脱色材料、含微胶囊 的配制剂以及在印刷电路板的依次构造层中形成介电层。
15. 在至少一个表面上用根据权利要求7的组合物涂敷的涂敷基材。
16. 根据权利要求7的组合物在生产着色和未着色油漆和清漆、粉末涂料、印刷油墨、 印版、粘合剂、牙科组合物、凝胶涂料，电子器件用光致抗蚀剂，抗蚀刻剂、液体和干燥薄膜 二者、阻焊剂、制造用于各种显示器应用的滤色器的抗蚀剂，包封电气和电子组件，生产磁 记录材料、微机械部件、波导、光学开关、电镀掩模、彩色打样系统、玻璃纤维电缆涂料、丝网 印刷模版、借助立体石印术的三维物体、图像记录材料、微电子电路、脱色材料、含微胶囊的 配制剂以及在印刷电路板的依次构造层中形成介电层中的用途。
17. 如权利要求1所定义的式（I)或（II)化合物作为光敏引发剂在光聚合含有烯属不 饱和双键的化合物中的用途。
【专利摘要】式(I)或(II)的双酰基氧化膦或双酰基硫化膦化合物是合适的光敏引发剂，其中R1、R2、R3、R1a、R2a和R3a相互独立地为C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或卤素；X为O、NR5或S；或者若R4为Cl、F或Br，则X为直接键；Y为O或S；n为1或2；若n为1，则R4例如为氢、(CO)R6、(CO)OR6、(CO)NR5R6、(SO2)-R6、C1-C28烷基，若n＝2，则R4例如为C1-C18亚烷基；R5例如为氢或C1-C12烷基；R6例如为C1-C12烷基；R7、R8和R9相互独立地例如为C1-C4烷基；R10例如为C2-C18亚烷基；X1为O或S；m为1、2或3；Q表示一个或两个电荷为m+的无机或有机阳离子；这些化合物可以由所要求保护的方法得到。
【IPC分类】G03F7-029, C07F9-36, C08F2-50, C07F9-34, C07F9-32, C07F9-30
【公开号】CN104870456
【申请号】CN201380066680
【发明人】G·穆勒, H·格鲁特玛舍尔, K·迪耶特里克
【申请人】巴斯夫欧洲公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2013年12月16日
【公告号】WO2014095724A1