专利名称：基板周转装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板周转装置。
背景技术：
随着平板显示技术发展，各种平板显示器日益取代传统显示器件，成为当今社会 的主流显示器件。人们对平板显示器的需求日益旺盛，生产厂商开足马力，大规模生产平板 显不器。作为生产平板显示器的重要原料之一的玻璃基板的需求也随着平板显示器的大 规模生产而日益增加。目前，平板显示器件如液晶显示器、有机电致发光显示器、触摸显示 面板(Touch Panel, TP)、彩色滤光板(Color Filter, CF)等都需要使用玻璃基板，如液晶 显示器需要使用两块玻璃基板作为其上、下基板，以夹持位于上、下基板之间的液晶层。玻璃基板被用于生产平板显示器件时，通常需要在该玻璃基板上涂布或溅射多层 膜层，然后通过光刻工艺制作显示图案或触摸电极或像素图案等，如触摸显示面板，需要在 玻璃基板上先通过溅射方式形成透明导电层，然后通过蚀刻工艺形成多个触控感测电极。 当需要在该玻璃基板上进行上述显示图案、触控电极或像素图案的制作时，必须先对该玻 璃基板进行清洗，防止该玻璃基板表面存在污染物，影响在该玻璃基板表面制作的图案。而在玻璃基板上进行图案制作通常需要通过多道工艺，即该玻璃基板需要在完成 一道工艺后，搬运到另一车间或场地进行后一道工艺，甚至有时需要从一个工厂转移到另 一个工厂。目前搬运玻璃基板的工具通常为周转箱，该周转箱上通常设有支撑槽，而玻璃基 板则分别夹设于两个支撑槽之间，并通过该支撑槽将各玻璃基板隔离开，防止两块玻璃基 板之间相互摩擦，造成已形成于玻璃基板上的膜层的脱落，不仅损伤所述膜层，同时也会对 所述周转箱造成污染。如附图1所示，其为现有技术的周转箱10的示意图。所述周转箱10包括本体11 和盖体12。所述本体11和盖体12均内部中空，且所述盖体12可组装地与所述本体11结 合，并所述本体11和盖体12的中空部分形成一连通的收容空间。所述收容空间用于收容 所述玻璃基板20。所述本体11包括侧壁13、14以及一平面结构的底面(图中未示出)，且 侧壁13和14上分别设有一一对应的多条支撑槽15，侧壁13上的一条支撑槽15与侧壁14 上与其位置相对的支撑槽15构成一对支撑槽，用于支撑同一块所述玻璃基板20。由于制作触摸屏、彩色滤光板或液晶显示面板的玻璃基板或树脂基板的厚度通常 较小，如0. 7毫米、0. 5毫米、0. 3毫米等，在所述玻璃基板或树脂基板制作像素图案或触控 电极时，容易因为环境温度、压力或其它原因发生形变，造成所述玻璃基板或树脂基板局部 出现凸起或凹陷，甚至出现波纹状褶皱。因此，在将发生所述形变的玻璃基板或树脂基板 放置于上述周转箱10上时，所述发生形变的玻璃基板或树脂基板会与相邻的其它玻璃基 板或树脂基板之间发生刮擦，损伤所述玻璃基板或树脂基板，甚至使所述玻璃基板或树脂 基板上的所述像素图案或触控电极脱落。即使所述玻璃基板或树脂基板的型变量较小，但 是在所述玻璃基板或树脂基板通过所述周转箱转运时，当所述玻璃基板或树脂基板收到外力作用，发生侧翻或所述周转箱平放时突然由静止转为以一定速度运动时，所述玻璃基板 或树脂基板会发生形变，该形变与所述玻璃基板或树脂基板在加工过程中发生的形变叠加 后，容易损伤所述玻璃基板或树脂基板，甚至造成所述玻璃基板或树脂基板上的像素图案 或触控电极脱落。
实用新型内容有鉴于此，有必要提供一种有效防止衬底之间相互刮擦损伤衬底的基板周转装置。一种基板周转装置用于将衬底从一个位置转移至另一位置，其包括本体，所述本 体包括侧壁和基底，所述侧壁与基底围成一呈一侧开口的空间，所述侧壁内部的相对两侧 上形成有多条支撑槽，所述支撑槽与所述基底之间具有一夹角，使所述衬底在收容于上述 空间后，发生形变的方向保持一致。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述基板周转装置还包括盖体，所述盖 体可分离地与所述本体结合在一起，且所述本体和盖体均内部中空，所述盖体和本体结合 后，所述盖体和本体的内部中空形成统一的收容空间，上述空间为所述收容空间的一部分。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述侧壁与所述基底之间相互垂直。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述多条支撑槽之间相互平行，且所述 两侧的支撑槽数目相同，所述支撑槽沿所述基底至侧壁的方向，且所述两侧的多条支撑槽 一一对应，分位于所述两侧相对应的两条支撑槽用于夹持同一所述衬底。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述支撑槽与所述基底之间的夹角在70 度至90度之间。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述支撑槽在所述侧壁上的长度小于所 述衬底在该侧壁上的所述支撑槽方向上的长度，使所述衬底装载于所述本体上后，所述衬 底有部分露出于所述本体之外。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述基板周转装置还包括盖体，所述盖 体也包括侧壁和基底，所述盖体的侧壁中的两相对的侧壁上形成有与所述本体上的支撑槽 对应的支撑槽，且所述盖体上的支撑槽与所述本体上的支撑槽一并用于限制所述衬底。本实用新型提供的所述基板周转装置中，所述基板周转装置整体呈方形，所述本 体和盖体亦呈方形，所述本体和盖体相结合出设有卡合结构。本实用新型通过将所述侧壁上的支撑槽设置于与所述基底之间具有一夹角，使所 述衬底装载于所述基板周转装置后，其形变的方向一致，防止所述衬底由于形变方向不一 致而与相邻的衬底相互刮擦，损伤所述衬底；同时由于所述基板周转装置中的所述衬底向 一个方向倾斜，便于所述操作人员从一个方向拾取和装载所述衬底，符合人体工程学结构， 减轻所述操作人员的工作强度，提高所述操作人员装载和拾取所述衬底的效率。另外，当所 述衬底装载于所述基板周转装置上时，由于所述支撑槽与所述基底之间具有夹角，其可防 止所述衬底由于操作人员的突然松手导致的快速坠落可能造成的损伤，同时，在所述操作 人员不甚松手时，所述衬底因所述支撑槽与所述基底之间的夹角关系，而缓慢落入所述基 板周转装置中。所述基板周转装置中，将所述支撑槽在所述侧壁上的长度设置为小于所述 衬底的高度，使所述衬底在装载于所述基板周转装置后，所述衬底有部分露出于所述基板
4周转装置，方便操作人员装载所述衬底以及从所述基板周转装置中拾取所述衬底。
下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中图1为现有技术的基板周转装置的示意图。图2为本实用新型提供的较佳实施方式的衬底的周转装置示意图。图3为图2所示的基板周转装置沿B-B向的剖面示意图。
具体实施方式
为了克服现有技术中周转箱转运所述玻璃基板或树脂基板时容易出现损伤所述 玻璃基板或树脂基板或损伤其上的像素图案或触控电极，本实用新型提供一种基板周转装 置，其通过将所述基板周转装置的支撑槽设置为与所述基底呈一定角度，进而使所述轻薄 的衬底均向所述基板周转装置的基底倾斜，可有效防止由于所述衬底由于倾斜或形变位置 不一致出现的相邻两衬底之间的刮擦，防止损伤所述衬底或衬底上的像素图案或触控电极寸。以下结合说明书附图对本实用新型提供的基板周转装置进行详细说明。请同时参阅图2和图3，其为本实用新型提供的基板周转装置100的示意图，所述 基板周转装置100用于装载衬底200，以将所述衬底从一个位置转移到另一个位置。所述基 板周转装置100包括盖体110和本体120。所述盖体110可分离地与所述本体120结合在 一起。所述基板周转装置100整体呈方形，所述盖体110和本体120亦呈方形，其内部均呈 中空状，且所述盖体110和盖体120相互结合后，形成一统一的收容空间，该收容空间用于 收容所述衬底200。所述衬底200可以是树脂基板，也可以是玻璃基板，但不以此为限。所述本体120包括侧壁121和基底123。所述侧壁121与所述基底123围成一呈 开口状的空间，所述空间为上述收容空间的一部分，且所述侧壁121与所述基底123垂直。 所述侧壁中两个相对的侧壁上分别形成有多条支撑槽125，所述支撑槽125沿所述基底123 至侧壁121的方向。所述两相对侧壁上的支撑槽125 —一对应，且所述支撑槽125之间相 互平行，位于两相对侧壁121上的相对应的支撑槽125具有相同的长度，其用于在所述衬底 200装载于所述本体120上时限制相邻两衬底200之间相互接触，防止所述衬底200相互摩 擦，损伤所述衬底200。所述支撑槽125向所述基底123倾斜，并与所述基底123之间具有一定的夹角，所 述夹角通常为70度至90度之间。当衬底200装载于所述基板周转装置100上时，所述衬 底200由于所述支撑槽125的原因，与所述基底123之间具有所述夹角，基于此，轻薄的所 述衬底200向所述基底123倾斜，且所述衬底200的中心位置处发生的形变最厉害。但由 于所述支撑槽125之间相互平行，且均与所述基底123之间具有同样的夹角，因此，当多个 所述衬底200依次装载于所述基板周转装置100上后，均向所述基底123倾斜，防止所述衬 底因发生形变的位置不确定，造成相邻两衬底200之间出现刮擦，甚至损伤所述衬底。另外，当所述衬底200装载于所述基板周转装置100上时，由于所述支撑槽125与 所述基底123之间具有夹角，其可防止所述衬底200由于操作人员的突然松手导致的快速 坠落可能造成的损伤，同时，在所述操作人员不甚松手时，所述衬底200因所述支撑槽125与所述基底123之间的夹角关系，而缓慢落入所述基板周转装置100中。为方便从所述基板周转装置100中拾取所述衬底200，将所述支撑槽125在所述侧 壁121上的长度设置为小于所述衬底200的高度，使所述衬底200在装载于所述基板周转 装置100后，所述衬底200有部分露出于所述基板周转装置100。所述盖体110与所述本体120的结构类似，其包括侧壁和基底。所述盖体110的 侧壁中的两相对的侧壁上形成有与所述本体120上的支撑槽125对应的支撑槽，且所述盖 体110上的支撑槽与所述本体120上的支撑槽一并用于限制收容于所述收容空间的所述衬 底200。所述本体120的侧壁高度大于所述盖体110的侧壁高度。所述本体120和盖体110 相结合处可设置卡合结构，在本实施方式中，图示中未表示出所述本体120和盖体110相结 合处的卡合结构。在其他实施方式中，所述盖体110的侧壁上还可以不设置支撑槽。以上为本实用新型提供的基板周转装置的较佳实施方式，并不能理解为对本实用 新型权利保护范围的限制，本领域的技术人员应该知晓，在不脱离本实用新型构思的前提 下，还可做多种改进或替换，所有的该等改进或替换都应该在本实用新型的权利保护范围 内，即本实用新型的权利保护范围应以权利要求为准。
权利要求一种基板周转装置，用于将衬底从一个位置转移至另一位置，其包括本体，所述本体包括侧壁和基底，所述侧壁与基底围成一呈一侧开口的空间，所述侧壁内部的相对两侧上形成有多条支撑槽，所述支撑槽与所述基底之间具有一夹角，使所述衬底在收容于上述空间后，发生形变的方向保持一致。
2.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述基板周转装置还包括盖体，所 述盖体可分离地与所述本体结合在一起，且所述本体和盖体均内部中空，所述盖体和本体 结合后，所述盖体和本体的内部中空形成统一的收容空间，上述空间为所述收容空间的一 部分。
3.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述侧壁与所述基底之间相互垂直。
4.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述多条支撑槽之间相互平行，且 所述两侧的支撑槽数目相同，所述支撑槽沿所述基底至侧壁的方向，且所述两侧的多条支 撑槽一一对应，分位于所述两侧相对应的两条支撑槽用于夹持同一所述衬底。
5.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述支撑槽与所述基底之间的夹 角在70度至90度之间。
6.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述支撑槽在所述侧壁上的长度 小于所述衬底在该侧壁上的所述支撑槽方向上的长度，使所述衬底装载于所述本体上后， 所述衬底有部分露出于所述本体之外。
7.如权利要求1所述的基板周转装置，其特征在于所述基板周转装置还包括盖体， 所述盖体也包括侧壁和基底，所述盖体的侧壁中的两相对的侧壁上形成有与所述本体上的 支撑槽对应的支撑槽，且所述盖体上的支撑槽与所述本体上的支撑槽一并用于限制所述衬 底。
8.如权利要求7所述的基板周转装置，其特征在于所述基板周转装置整体呈方形，所 述本体和盖体亦呈方形，所述本体和盖体相结合出设有卡合结构。
专利摘要本实用新型涉及平板显示技术领域，尤其涉及一种基板周转装置。该基板周转装置用于将衬底从一个位置转移至另一位置，其包括本体，所述本体包括侧壁和基底，所述侧壁与基底围成一呈一侧开口的空间，所述侧壁内部的相对两侧上形成有多条支撑槽，所述支撑槽与所述基底之间具有一夹角，使所述衬底在收容于上述空间后，发生形变的方向保持一致。
文档编号B65D43/02GK201694534SQ20102019220
公开日2011年1月5日 申请日期2010年5月10日 优先权日2010年5月10日
发明者商陆平, 李绍宗, 王士敏, 郭元元, 陈雄达 申请人:深圳莱宝高科技股份有限公司