一种用于催化甲醇合成反应的Ni/Cu/M催化剂及其制备方法与流程

文档序号:12215085阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于催化甲醇合成反应的Ni/Cu/M催化剂的制备方法,其步骤如下:

(1)载体M的预处理:M粉末在马弗炉中,空气气氛中300-1000℃下焙烧0.5-10h,得预处理后的载体M;其中,所述M为Al2O3、ZnO、ZrO2和/或TiO2

(2)浸渍法制备Cu/M:取可溶性铜源溶液,浸渍所述预处理后的载体M,无需过滤,直接将浸渍后的物料通过减压蒸馏去除其中的水分,并于90-150℃下干燥10-36h,再于300-700℃焙烧1-10h,得到CuO/M粗产物;将所述CuO/M粗产物在管式炉中于300-700℃、纯氢气条件下还原0.2-3h,得到Cu/M;

(3)原子层沉积镀镍:

(a)将所述Cu/M放入反应腔,反应温度为100-200℃;

(b)向反应腔内导入Ni源前驱体,所述Ni源前驱体温度为90-150℃;所述Ni源前驱体脉冲为80-160s,在此期间进行镀Ni反应;所述Ni源前驱体的导入方式为:采用流量为50-100sccm的高纯氮气输入到Ni源前驱体钢瓶,将所述所述Ni源前驱体导入反应腔;

(c)反应结束后,继续向反应腔通入氮气,清除反应腔内多余的Ni源前驱体;

(d)再向反应腔内通入氧源,对Ni进行氧化,所述氧源为氧气与臭氧的混合气体,其中所述臭氧为纯度不小于99.999%的高纯O3,高纯臭氧在氧源中的体积浓度为5-20%,氧化反应持续80-160s;

(e)待氧化反应结束后,继续向反应腔内通入氮气,清除所述氧源、所述Ni源前驱体以及其他反应中生成的残余物;

(f)重复(a)-(e)30-100次,以所述催化剂Cu/M表面镀上纳米NiO层,得到NiO/Cu/M;

(g)还原所述NiO/Cu/M,得到Ni/Cu/M催化剂;所述还原的反应条件为:在管式炉中进行,还原温度为300-700℃、纯氢气条件下还原0.5-3h。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中的空气气氛温度为600℃、焙烧时间为5h。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,以载体M的质量为百分比基准,所述Cu在M载体上的负载量为5-25%。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中所述干燥的温度为100℃、干燥时间为12h;所述焙烧的温度为400℃、焙烧时间为4h,得到CuO/M粗产物。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中的还原反应条件为:在管式炉中于500℃、纯氢气条件下还原1h,得到Cu/M。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)得到的Cu/M为Cu/γ-Al2O3,比表面积SBET为120-200m2/g、孔容Vp为0.1-1cm3/g、最可几孔径DBJH为4-10nm。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述Cu/γ-Al2O3的所述比表面积SBET为169.5m2/g、所述孔容Vp为0.52cm3/g、所述最可几孔径DBJH为7.8nm。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述Ni/Cu/M催化剂的所述比表面积SBET为180-300m2/g、所述孔容Vp为0.1-1cm3/g、最可几孔径DBJH为4-10nm。

9.一种采用权利要求1-8任一项所述的制备方法得到的Ni/Cu/M催化剂,其特征在于,Ni/Cu/M催化剂的比表面积SBET为224.7m2/g、孔容Vp为0.64cm3/g、最可几孔径DBJH为7.7nm。

10.根据权利要求9所述的催化剂,其特征在于,所述Ni/Cu/M催化剂的比表面积SBET为180-300m2/g、孔容Vp为0.1-1cm3/g、最可几孔径DBJH为4-10nm。

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