基板翻转平台与翻转基板的方法

专利名称：基板翻转平台与翻转基板的方法
技术领域：
本发明是有关于一种翻转平台，且特别是有关于一种用于吸附基板并翻 转基板的基板翻转平台以及用于其的翻转基板的方法。
背景技术：
随着液晶显示技术的进步加上液晶显示装置具有重量轻且体积小等优 点，液晶显示装置己广泛地应用于多种电子产品，如数码相机、个人数字助
理(personal digital assistant, PDA)、移动电话、笔记本电月茵(notebook computer)
以及平面薄型化电视等。液晶显示装置包括液晶显示面板与背光模块，其中 液晶显示面板是由二基板以及位于此二基板之间的液晶层所构成。在将此二 基板组装的过程中，需先通过翻转平台将其中一个基板翻面，之后再进行基 板组装。
图1A与图1B是已知一种基板翻转平台的俯视示意图与侧视示意图。请 参照图1A与图1B，已知基板翻转平台100包括翻转架IIO与固定架120，而 翻转架110是枢接于(pivot joint)固定架120上。翻转架110的表面112上 设有多个支撑管114，每一支撑管114的顶端皆设有一个吸附垫116，且每一 吸附垫116皆具有引线孔117。此外，翻转架110内部为中空，且翻转架110 内部设有多条管线(图未示)，这些管线的一端经由支撑管114内部延伸至 吸附垫116的引线孔117，另一端则连接至主管线，并通过此主管线连接至翻 转架110外的真空源。如此，当真空源开启时，吸附垫116即可用来吸附基 板。
图2A至图2C是己知技术中将二基板组装的流程图。请先参照图2A，已知技术的基板组装的流程是先用机械手臂10来承载基板50，其中机械手臂
10具有多个吸附垫12，其是用以吸附基板50的背面52，而基板50的正面则 形成有彩色滤光层54。接着，通过机械手臂10将基板50放置于吸附垫116 上。然后，开启真空源，以通过吸附垫116来吸附基板50的背面52，并且将 机械手臂IO移开。
之后，请参照图2B，将翻转架110翻转180。，以使基板50翻面。接着， 通过另一机械手臂20的吸附垫22来吸附基板50的背面52。之后，关闭真空 源，并通过机械手臂20将基板50移走。
然后，请参照图2C，将基板50移动至另一基板60的对侧，其中基板60 的正面形成有驱动电路层62，且涂布有框胶70，而基板50的彩色滤光层54 与基板60的驱动电路层62相对。接着，将基板50与基板60组装，并通过 框胶70来结合基板50与基板60。
在己知技术中，由于设置于翻转架110内部的管线是通过主管线而连接 至同一真空源，所以当真空源异常或是基板50与吸附垫116的接触面有微粒 子时，容易导致吸附垫116的吸附力不足。如此，在翻转基板50时容易产生 破真空的情形，因而导致基板50掉落。这不仅损失基板50，还需停止整个工 艺来进行后续的清理动作，所以会浪费时间成本。

发明内容
本发明提供一种基板翻转平台，以降低基板在翻转的过程中掉落的机率。 本发明另提供一种翻转基板的方法，以防止基板在翻转的过程中掉落。 为达上述优点，本发明提出一种基板翻转平台，其用以吸附基板并翻转 基板。此基板翻转平台包括固定架、翻转架与气流导引装置。翻转架枢接于 固定架上，且翻转架内部为中空。翻转架具有适于吸附基板的吸附面，且吸 附面设有多个第一引线孔与多个第二引线孔。气流导引装置包括第一管线单 元与第二管线单元。第一管线单元的一端伸入翻转架内部并延伸至第一引线
8孔，而第二管线单元的一端伸入翻转架内部并延伸至第二引线孔，且第一管 线单元与第二管线单元彼此独立、互不相通。
为达上述优点，本发明另提出一种基板翻转平台，其包含固定架、翻转 架、多个第一吸附垫、多个第二吸附垫、第一负压源以及第二负压源。翻转 架枢接于固定架上，第一吸附垫与第二吸附垫呈矩阵且交替排列于翻转架上。 第一负压源连接于第一吸附垫，而第二负压源连接于第二吸附垫。
为达上述优点，本发明提出一种翻转基板的方法，其包含下列步骤首 先，提供上述的基板翻转平台与基板。接着，将基板装载于翻转架上。之后， 驱动第一负压源，以使第一吸附垫吸附基板。然后，180。翻转翻转架与基板。
在本发明的基板翻转平台中，由于翻转架是连接至不同的负压源，所以 当其中一个负压源所提供的负压失效时，还可通过另一个负压源所提供的负 压来吸附基板，如此可降低基板在翻转过程中掉落的机率。此外，本发明的 基板的翻转方法因使用上述的基板翻转平台，所以可防止基板在翻转的过程 中掉落。


图1A与图1B是已知一种基板翻转平台的俯视示意图与侧视示意图2A至图2C是己知技术中将二基板组装的流程图3是本发明一实施例的一种基板翻转平台的俯视图4是沿图3中i-r线的剖面示意图5是气流导引装置的示意图6A至图6C是本发明一实施例的一种翻转基板的方法的流程图； 图7是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图8是沿图7的n-n'线与m-iir线的剖面示意图9是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附垫的排列方式以及气流导引装置的示意图IO是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图11是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图12是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图13是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的部分第一引线孔与第二 引线孔的排列方式的示意图14是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一引线孔与第二引线 孔的排列方式的示意图。
附图标号
10、 20、 30、 40:机械手臂 12、 22、 32、 42:吸附垫 50、 60、 80:基板
52:背面 54:彩色滤光层 62:驱动电路层 70:框胶
100、 200:翻转平台 110、 220:翻转架
112:表面 114:支撑管 116:吸附垫 117:引线孔
120、 210:固定架211:吸附面 222:第一引线孔 223:第二引线孔 224:封闭框
225:中空柱 226:枢接部 230a:第一支撑管 230b:第二支撑管 240a:第一吸附垫 240b:第二吸附垫 242:第三引线孔 250a:第一负压源 250b:第二负压源 260:气流导引装置 261、 262:第一管线单元 261a:第一真空导管 261b:第一真空支管 262a:第一管线 262b:第二管线 262c:第三管线 263、 264:第二管线单元 263a:第二真空导管 263b:第二真空支管 264a:第四管线 264b:第五管线 264c:第六管线265a:第一基段 265b:第一延伸段 267a:第二基段 267b:第二延伸段 269a:平行段 269b:连接段 270a:第一控制阀 270b:第二控制阀
Al:第一方向 A2:第二方向 A3:预定方向 C:几何中心 Dl:第一距离 D2:第二距离 Ds:最小距离
Ml、 M2: 3x3阵列 ei:夹角
62:弯折角度
具体实施例方式
为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较 佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
图3是本发明一实施例的一种基板翻转平台的俯视图，图4是沿图3中 I-I'线的剖面示意图，而图5是气流导引装置的示意图。请参照图3至图5， 本实施例的基板翻转平台200是用以吸附基板并翻转基板。此基板翻转平台 200包括固定架210与翻转架220。翻转架220枢接于固定架210上，且翻转架220内部为中空。翻转架220具有适于吸附基板的吸附面211，且吸附面 211设有多个第一引线孔222与多个第二引线孔223。此翻转架220例如包括 封闭框224与多个中空柱225。封闭框224与中空柱225的内部为中空，且中 空柱225连接于封闭框224。每一中空柱225的内部空间皆与封闭框224的内 部空间相通，且上述的吸附面211例如是由这些中空柱225的面向同一侧的 表面所构成。此外，封闭框224具有转轴，此转轴包括相对的二个枢接部(pivot) 226。此二个枢接部226位于封闭框224的相对二侧边，且枢接于固定架210 上。另外，每一中空柱225设有第一引线孔222与第二引线孔223。每一中空 柱225的第一引线孔222与第二引线孔223例如是沿中空柱225的延伸方向 排列，且第一引线孔222与第二引线孔223是交替设置。
上述的基板翻转平台200可更包括多个支撑管，如多个第一支撑管230a 与多个第二支撑管230b。第一支撑管230a的一端分别连接于一个第一引线孔 222，而第二支撑管230b的一端则分别连接于一个第二引线孔223，第一支撑 管230a与第二支撑管230b例如是沿中空柱225的延伸方向排列，且第一支 撑管230a与第二支撑管230b交替设置。此外，基板翻转平台200可更包括 多个吸附垫，如多个第一吸附垫240a与多个第二吸附垫240b。第一吸附垫 240a与第二吸附垫240b分别具有一个第三引线孔242。第一吸附垫240a是套 设于第一支撑管230a的另一端，且第一吸附垫240a的第三引线孔242是通过 第一支撑管230a而与对应的第一引线孔222相通。第二吸附垫240b是套设 于第二支撑管230b的另一端，且第二吸附垫240b的第三引线孔242是通过 第二支撑管230b而与对应的第二引线孔223相通。
承上述，第一吸附垫240a与第二吸附垫240b呈矩阵且交替排列于翻转 架220上。更详细地说，上述阵列的每一行中，第一吸附垫240a与第二吸附 垫240b是交替设置，且在上述的阵列的每一列中，第一吸附垫240a与第二 吸附垫240b是交替设置。换言之，吸附面211上的第一引线孔222与第二引 线孔223是呈阵列排列，且在阵列的每一行中，第一引线孔222与第二引线
13孔223是交替设置，在阵列的每一列中，第一引线孔222与第二引线孔223 是交替设置。此外，每一第一吸附垫240a与第二吸附垫240b具有一吸附垫 直径，且吸附垫直径的范围例如是介于20毫米与32毫米之间。另外，相邻 第一吸附垫240a与第二吸附垫240b之间具有一最小距离Ds，且此最小距离 Ds的范围例如是介于12厘米与29厘米之间。相邻第一吸附垫240a之间具有 一第一距离Dl，且此第一距离Dl大于最小距离Ds。相邻第二吸附垫240b 之间具有一第二距离D2，且此第二距离D2大于最小距离Ds。具体而言，第 一距离Dl的范围例如是介于35厘米与45厘米之间，而第二距离D2的范围 例如介于35厘米与45厘米之间。
本实施例的基板翻转平台200可更包括一个第一负压源250a与一个第二 负压源250b,此第一负压源250a与第二负压源250b例如为真空源。第一负 压源250a是连接于第一吸附垫240a，而第二负压源250b是连接于第二吸附 垫240b。基板翻转平台200可更包括气流导引装置260，而第一吸附垫240a 与第二吸附垫240b是通过气流导引装置260而连接至第一负压源250a与第 二负压源250b。具体而言，气流导引装置260包括第一管线单元262与第二 管线单元264，其中第一吸附垫240a是通过第一管线单元262而连接至第一 负压源250a，且第二吸附垫240b是通过第二管线单元264而连接至第二负压 源250b。第一管线单元262的一端例如是通过第一控制阀270a而连接至第一 负压源250a，另一端伸入翻转架220内部且延伸至第一引线孔222，并经由 第一引线孔222与第一支撑管230a而延伸至第一吸附垫240a的第三引线孔 242。第二管线单元264的一端例如是通过第二控制阀270b而连接至第二负 压源250b，另一端伸入翻转架220内部且延伸至第二引线孔223，并经由第 二引线孔223与第二支撑管230b而延伸至第二吸附垫240b的第三引线孔242。 此外，第一管线单元262与第二管线单元264彼此独立、互不相通。上述的 第一控制阀270a与第二控制阀270b例如为电磁阀。
上述的第一管线单元262包括第一管线262a、多根第二管线262b与多根第三管线262c。第一管线262a的一端例如是通过第一控制阀270a而连接至 第一负压源250a，另一端伸入封闭框224内。每一第二管线262b的一端连接 第一管线262a，且另一端伸入一个中空柱225内，并沿中空柱225的延伸方 向延伸。第三管线262c位于第一支撑管230a内，且每一第三管线262c的一 端连接对应的第二管线262b，且经由第一引线孔222，沿第一支撑管230a的 延伸方向延伸至第一吸附垫240a的第三引线孔242。此外，上述的第二管线 单元264包括第四管线264a、多根第五管线264b与多根第六管线264c。第四 管线264a的一端例如是通过第二控制阀270b而连接至第二负压源250b，另 一端伸入封闭框224内。每一第五管线264b的一端连接第四管线264a，且另 一端伸入一个中空柱225内，并沿中空柱225的延伸方向延伸。第六管线264c 位于第二支撑管230b内，且每一第六管线264c的一端连接对应的第五管线 264b，且经由第二引线孔223，沿第二支撑管230b的延伸方向延伸至第二吸 附垫240b的第三引线孔242。另外，上述的二个枢接部226的内部例如为中 空，而第一管线单元262与第二管线单元264例如是经由此二个枢接部226 至少其中之一的内部伸入翻转架220内部。换言之，第一管线单元262与第 二管线单元264可经由同一枢接部226的内部而伸入翻转架220内，或是经 由不同枢接部226的内部而伸入翻转架220内。
承上述，第一管线262a例如为第一主干真空软管，每一第二管线262b 例如为一第一次枝真空软管，而每一第三管线262c例如为一第一末枝真空软 管。这些第二管线262b例如是彼此平行，而这些第三管线262c例如是彼此 平行。此外，第四管线264a例如为第二主干真空软管，每一第五管线264b 例如是一第二次枝真空软管，而每一第六管线264c例如是一第二末枝真空软 管。这些第五管线264b例如是彼此平行，而这些第六管线264c例如是彼此 平行。
本实施例的基板翻转平台200中，用于吸附基板的第一吸附垫240a与第 二吸附垫240b是连接至不同的负压源，所以当其中一个负压源异常或是因吸附垫与基板的接触面之间有微粒子而导致其中一个负压源失效时，还可通过
另一负压源所提供的负压来吸附基板，如此可降低基板在翻转架220翻转时
掉落的机率。
由于本实施例的基板翻转平台200可仅通过第一吸附垫240a或是仅通过 第二吸附垫240b来吸住基板，所以若第一吸附垫240a或第二吸附垫240b的 理论吸附力为W，且基板所需的吸附力为F，则第一吸附垫240a或第二吸附 垫240b的理论吸附力W需大于或等于基板所需的吸附力F的二倍，即W ^ 2xF。如此，当其中一个负压源失效时，还可通过另一负压源所提供的负压来 吸附基板。
承上述，上述第一吸附垫240a的任一或第二吸附垫240b的任一的理论 吸附力W = |Pj xSxO,l ，其中P为第一负压源250a或第二负压源250b所提供 的负压，S为所有第一吸附垫240a的任一个或所有第二吸附垫240b的任一个 的面积。在本实施例中，理论吸附力W的范围例如是介于24牛顿与39牛顿 之间，负压P的范围例如是介于-50千帕(kPa)与-80千帕之间，而面积S的 范围例如是介于3平方厘米与8平方厘米之间。
此外，若基板的重量为M、所需的安全率为8，所有第一吸附垫240a与 第二吸附垫240b的总数量为N，则上述的基板所需的吸附力F = (M/N)X8。 在本实施例中，上述的基板所需的吸附力F的范围例如是介于9牛顿与11牛 顿之间，基板的重量M的范围例如是介于100与105之间，而第一吸附垫240a 与第二吸附垫240b的总数量N的范围例如是介于72与88之间。
下文将以一个实际的例子来说明本实施例的基板翻转平台200在其中一 个负压源失效时，仍可吸住基板。
若基板翻转平台200的第一吸附垫240a与第二吸附垫240b的总数量N 为80，基板为玻璃基板，且其密度为2,69克/立方厘米，其尺寸为220厘米X 250厘米X0.07厘米，则基板的重量M约为10356.5克，约为101.6牛顿，所 以基板所需的吸附力F等于10.16牛顿。换言之，每一第一吸附垫240a或每一第二吸附垫240b所需提供的吸附力需大于或等于10.16牛顿。
表一是吸附垫(即第一吸附垫240a与第二吸附垫240b)的理论吸附力在 不同参数下的数值，单位为牛顿(N)。
表一
吸附垫直径(mm)cpl3q>16(p20|925(p32(p40<p50
吸附垫面积(cm2)1.332.013.144.018.0412.619.6
-8511.317.126.741.768.3107167
-8010.616.125.139.364.3101157
-759.9815.123.636.860.394.5147
-709,3114.122.034.456,388.2137
负 压-658.6513.120.431.952.381.9127
(kPa)-607.9812.118.829.548,275.6118
-557.3211.117.327.044.269.3雨
6.6510.115.724.640.263.096.0
-455.999,0514.122.136,256.788.2
-405.328.0412.619.632.250.478.4
如表一所示，若第一负压源250a与第二负压源250b所提供的负压P分 别为-50千帕，且所有第一吸附垫240a的任一或所有第二吸附垫240b的任一 的吸附垫直径为25毫米，面积S为4.01平方厘米，则上述第一吸附垫240a 的任一或第二吸附垫240b的任一的理论吸附力W等于24.6牛顿。
由于上述的第一吸附垫240a的任一或第二吸附垫240b的任一的理论吸 附力W为24.6牛顿，基板所需的吸附力F仅为10.16牛顿，所以即使其中一 负压源失效，本实施例的基板翻转平台200仍可吸住基板。
值得一提的是，理论吸附力W为24.6牛顿时，安全系数约为2.4 (即 24.6/10.16)倍，所以可使用双真空源。依此类推，安全系数大于3倍时可使 用三真空源或双真空源，例如使用吸附垫直径cp为32毫米，且负压为-40 -85
17千帕，则吸附垫的理论吸附力W可大于3倍的安全系数。安全系数大于4倍 时可使用四真空源、三真空源或双真空源，例如使用吸附垫直径cp为32毫米， 且负压为-50 -85千帕，则吸附垫的理论吸附力W可大于4倍的安全系数。 因此，真空源的数目应小于安全系数，安全系数最小为2，本发明并不对真空 源的数目作其它的限制。
因此，在另一实施例中，上述的基板翻转平台200的吸附面211可更设 有多个第四引线孔(图未示)，而气流导引装置260可更包括一第三管线单 元(图未示)，其一端伸入翻转架220内部并延伸至第四引线孔，且第一管 线单元262、第二管线单元264与第三管线单元彼此独立、互不相通。此外， 吸附面211还可设有多个第五引线孔(图未示)，而气流导引装置260更包 括一第四管线单元(图未示)，其一端伸入翻转架220内部并延伸至第五引 线孔，且第一管线单元262、第二管线单元264、第三管线单元与第四管线单 元彼此独立、互不相通。
由于第三管线单元与第四管线单元与上述的第一管线单元262或第二管 线单元264相似，本领域技术人员在参照本说明书后当可明了，所以有关基 板翻转平台具有第四引线孔(甚至具有第五引线孔)与第三管线单元(甚至 具有第四管线单元)的实施例，将不另以

。
图6A至图6C是本发明一实施例的一种翻转基板的方法的流程图。请先 参照图6A，本实施例的翻转基板的方法是先提供上述的基板翻转平台200与 基板80，接着将基板80装载于翻转架220上。本实施例可通过机械手臂30 来承载基板80，并将基板80放置于第一吸附垫240a与第二吸附垫240b上， 其中机械手臂30具有多个吸附垫32，其是用以吸附基板80。之后，驱动第 一负压源250a，并开启第一控制阀270a，以使第一吸附垫240a吸附基板80， 并将机械手臂30移开。
接着，如图6B所示，180。翻转翻转架220与基板80。
请参照图6C，本实施例的翻转基板的方法可另包含切断或关闭第一负压源250a以使第一吸附垫240a不再吸附基板80，其中切断第一负压源250a的方法例如是关闭第一控制阀270a。接着，将基板80自翻转架220上卸载。具体而言，本实施例可通过机械手臂40的吸附垫42来吸附基板。之后，切断或关闭第一负压源250a，并通过机械手臂40将基板80移走。
上述的翻转基板的方法可另包含驱动第二负压源250b并开启第二控制阀270b，以使第二吸附垫240b吸附基板80。此外，上述的翻转基板的方法可另包含切断或关闭第一负压源250a与第二负压源250b其中之一，以使第一吸附垫240a与第二吸附垫240b其中之一不再吸附基板80，之后将基板80自翻转架220上卸载。上述切断或关闭第一负压源250a与第二负压源250b其中之一的方法例如是有意地关闭第一控制阀270a与第二控制阀270b其中之一，或第一负压源250a与第二负压源250b其中之一或第一控制阀270a与第二控制阀270b其中之一无意地或无预期地失效所致。
由于本实施例的翻转基板的方法可同时通过连接至不同负压源的第一吸附垫240a与第二吸附垫240b来吸附基板，当其中一负压源失效时，仍可通过另一负压源所提供的负压来吸附基板80，以防止基板80在翻转的过程中掉落。
在本发明中，第一吸附垫240a与第二吸附垫240b的排列方式(即第一引线孔222与第二引线孔223的排列方式)以及气流导引装置260的管线的排列方式并不限定于图3所示，以下将另举其他实施例来说明。
图7是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附
垫的排列方式以及气流导引装置的示意图，图s是沿图7的ii-n'线与ni-iir
线的剖面示意图。请参照图7与图8，在本实施例中第一引线孔222排列成多列，而第二引线孔223也排列成多列，且第一引线孔222排列而成的这些列与第二引线孔223排成的这些列是交替设置。换言之，第一吸附垫240a排列成多列，而第二吸附垫240b排列成多列，且第一吸附垫240a排列而成的这些列与第二吸附垫240b排成的这些列是交替设置。在本实施例中，气流导引装置包括第一管线单元261与第二管线单元263。第一管线单元261包括一个第一真空导管261a与多根第一真空支管261b。第一真空导管261a伸入翻转架220内部，且延伸至第一引线孔222下方，而第一真空支管261b位于第一支撑管230a内。这些第一真空支管261b的一端连接至第一真空导管261a，另一端经由第一引线孔222沿第一支撑管230a的延伸方向延伸至第一吸附垫240a。另外，第二管线单元263包括一个第二真空导管263a与多根第二真空支管263b。第二真空导管263a伸入翻转架220内部，且延伸至第二引线孔223下方。第二真空支管263b位于第二支撑管230b内。第二真空支管263b的一端连接至第二真空导管263a，另一端经由第二引线孔223沿第二支撑管230b的延伸方向延伸至第二吸附垫240b。
更详细地说，上述的第一真空导管261a包括一第一基段265a与连接此第一基段265a的多个第一延伸段265b，且这些第一延伸段265b的延伸方向与第一基段265a的延伸方向不同。第二真空导管263a包括一第二基段267a与连接此第二基段267a的多个第二延伸段267b。这些第二延伸段267b的延伸方向与第二基段267a的延伸方向不同，且这些第一延伸段265b与这些第二延伸267b段是交替设置。此外，第一基段265a与第二基段267a相对，第一基段265a与第二基段267a沿一第一方向Al延伸，而这些第一延伸段265b与这些第二延伸段267b沿一第二方向A2延伸，且第一方向Al实质上垂直于第二方向A2。
图9是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附垫的排列方式以及气流导引装置的示意图。请参照图9，本实施例的第一吸附垫240a与第二吸附垫240b的排列方式与图3相似，差别处在于气流导引装置。具体而言，在本实施例中第一真空导管261a的第一基段265a与第二真空导管263a的第二基段267a相对，且分别弯折成L形。第一基段265a与第二基段267a是沿一矩形轨迹R设置，而第一延伸段265b与第二延伸段267b是沿一预定方向A3延伸，且此预定方向A3不垂直于矩形轨迹R的任一边。具体而言，预定方向A3与矩形轨迹之间所夹的锐角01可为45度。
图IO是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图。请参照图10，在本实施例中，第 一真空导管261a的第一基段265a是沿矩形轨迹R的其中三边弯折，而第二 真空导管263a的第二基段267a是部分或全部设置于矩形轨迹R内且弯折成U 形，且第二基段267a的相平行的两边是平行于第一基段265a的相平行的两 边。第一真空导管261a的第一延伸段265b与第二真空导管263a的第二延伸 段267b是位于矩形轨迹R内。第一真空导管261a的第一延伸段265b例如是 垂直于第一基段265a，而第二真空导管263a的第二延伸段267b例如是垂直 于第二基段267a。第一吸附垫240a设置于第一真空导管261a上方，而第二 吸附垫240b设置于第二真空导管263a上方，且第一吸附垫240a与第二吸附 垫240b排成一阵列。
图11是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图。请参照图11，在本实施例中，第 一真空导管261a的第一基段265a是沿矩形轨迹R的其中三边弯折，而第二 真空导管263a的第二基段267a是设置于矩形轨迹R内。第二基段267a包括 平行第一基段265a的其中两边的二平行段269a以及连接于这些平行段269a 之间的一连接段269b，其中连接段269b不平行且不垂直于这些平行段269a， 且第一真空导管261a的第一延伸段265b与第二真空导管263a的第二延伸段 267b是位于矩形轨迹R内。第一吸附垫240a设置于第一真空导管261a上方， 而第二吸附垫240b设置于第二真空导管263a上方，且第一吸附垫240a与第 二吸附垫240b排成一阵列。
图12是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一吸附垫与第二吸附 垫的排列方式以及气流导引装置的示意图。请参照图12，在本实施例中，第 一真空导管26la弯折形成具有多个弯折处的螺旋状，且第一真空导管261a 之间有一螺旋状区域S。第二真空导管263a从位于螺旋状区域S内的一端弯折至位于螺旋状区域S外的另一端，以形成具有多个弯折处的螺旋状，且第
一真空导管261a与第二真空导管263a的弯折处的弯折角度02为90度。第一 吸附垫240a设置于第一真空导管261a上方，而第二吸附垫240b设置于第二 真空导管263a上方，且第一吸附垫240a与第二吸附垫240b排成一阵列。
上述各实施例中，若第一引线孔222的数量与第二引线孔223的数量相 同，则第一真空支管261b的长度与第二真空支管263b的长度可为相同，以 避免不必要的真空损耗。此外，若第一引线孔222的数量大于第二引线孔223 的数量，则第一真空支管261b的长度可小于第二真空支管263b的长度，亦 可避免不必要的真空损耗。
图13是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的部分第一引线孔与第二 引线孔的排列方式的示意图。请参照图13，本实施例的第一引线孔222与第 二引线孔223的排列方式是在第一引线孔222与第二引线孔223所排成的阵 列的任一 3x3阵列中，当位于3x3阵列的中心为第一引线孔222时(如阵列 Ml)，此3x3阵列Ml的周围包括至少一个第一引线孔222。当第二引线孔 223位于3x3阵列的中心时(如阵列M2)，此3x3阵列M2的周围包括至少 一个第二引线孔223。需注意的是图13中，阵列M1、 M2仅为举例之用，第 一引线孔222与第二引线孔223的排列方式并不局限于此。
图14是本发明另一实施例的一种基板翻转平台的第一引线孔与第二引线 孔的排列方式的示意图。请参照图14，在本实施例中，以第一引线孔222与 第二引线孔223所排成的阵列的几何中心C为原点定义出一直角坐标系，使 每一第一引线孔222与每一第二引线孔223分别具有一坐标值。这些第一引 线孔222的坐标值之和为零，且这些第二引线孔223的坐标值之和为零。需 注意的是，第一引线孔222与第二引线孔223的排列方式并不局限于图14所
示o
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，本发 明本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许之更动与 润饰，因此本发明的保护范围当视前附的权利要求书范围所界定为准。
权利要求
1. 一种基板翻转平台，其特征在于，所述述基板翻转平台用以吸附一基板并翻转所述基板，所述基板翻转平台包括一固定架；一翻转架，枢接于所述固定架上，所述翻转架内部为中空，所述翻转架具有适于吸附所述基板的一吸附面，且所述吸附面设有多个第一引线孔与多个第二引线孔；一气流导引装置，包括一第一管线单元，一端伸入所述翻转架内部并延伸至所述这些第一引线孔；以及一第二管线单元，一端伸入所述翻转架内部并延伸至所述这些第二引线孔，且所述第一管线单元与所述第二管线单元彼此独立、互不相通。
2. 如权利要求1所述的基板翻转平台，其特征在于，所述翻转架另包含多 个第一支撑管、多个第二支撑管与用以吸附所述基板的多个吸附垫，每一吸 附垫具有一第三引线孔，所述这些第一支撑管的一端分别连接于所述这些第 一引线孔，所述这些第二支撑管的一端分别连接于所述这些第二引线孔，所 述这些吸附垫分别套设于所述这些第一支撑管与所述这些第二支撑管的另一 端，且所述这些第三引线孔通过所述这些第一支撑管与所述这些第二支撑管 而分别与对应的所述这些第一引线孔与所述这些第二引线孔相通。
3. 如权利要求2所述的基板翻转平台，其特征在于，所述翻转架包括 一封闭框，其内部为中空；以及多个中空柱，其内部为中空，且所述这些中空柱连接于所述封闭框，每 一中空柱的内部空间皆与所述封闭框的内部空间相通，且所述吸附面是由所 述这些中空柱的面向同一侧的表面所构成。
4. 如权利要求3所述的基板翻转平台，其特征在于，每一中空柱设有部分所述这些第一引线孔与部分所述这些第二引线孔。
5. 如权利要求4所述的基板翻转平台，其特征在于，每一中空柱的所述这 些第一引线孔与所述这些第二引线孔是沿所述中空柱的延伸方向排列，且所 述这些第一引线孔与所述这些第二引线孔是交替设置。
6. 如权利要求4所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一管线单元包括一第一管线，其一端伸入所述封闭框内；多根第二管线，所述这些第二管线的一端连接所述第一管线，所述这些 第二管线的另一端分别伸入所述这些中空柱内，并沿所述这些中空柱的延伸 方向延伸；以及多根第三管线，位于所述这些第一支撑管内，且每一第三管线的一端连 接对应的所述第二管线，所述这些第三管线经由所述这些第一引线孔，沿所 述这些第一支撑管的延伸方向延伸；所述第二管线单元包括一第四管线，其一端伸入所述封闭框内；多根第五管线，所述这些第五管线的一端连接所述第四管线，所述这些 第五管线的另一端分别伸入所述这些中空柱内，并沿所述这些中空柱的延伸 方向延伸；以及多根第六管线，位于所述这些第二支撑管内，且每一第六管线的一端连 接对应的所述第五管线，所述这些第六管线经由所述这些第二引线孔，沿所 述这些第二支撑管的延伸方向延伸。
7. 如权利要求3所述的基板翻转平台，其特征在于，所述封闭框具有一转 轴，所述转轴包括相对的二枢接部，位于所述封闭框的相对两侧边，且枢接 于所述固定架上。
8. 如权利要求7所述的基板翻转平台，其特征在于，所述这些枢接部内部 为中空，而所述第一管线单元与所述第二管线单元是经由所述这些枢接部至少其中之一的内部伸入所述翻转架内部。
9. 如权利要求1所述的基板翻转平台，其特征在于，所述这些第一引线孔 与所述这些第二引线孔是排列成一阵列。
10. 如权利要求9所述的基板翻转平台，其特征在于，在所述阵列的每一行中，所述这些第一引线孔与所述这些第二引线孔是交替设置。
11. 如权利要求IO所述的基板翻转平台，其特征在于，在所述阵列的每一 列中，所述这些第一引线孔与所述这些第二弓I线孔是交替设置。
12. 如权利要求IO所述的基板翻转平台，其特征在于，所述这些第一引线 孔排列成多列，所述这些第二引线孔排列成多列，且所述这些第一引线孔排 列而成的所述这些列与所述这些第二引线孔排成的所述这些列是交替设置。
13. 如权利要求2所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一管线单元包括-一第一真空导管，伸入所述翻转架内部，且延伸至所述这些第一引线孔 下方；多根第一真空支管，位于所述这些第一支撑管内，所述这些第一真空支 管的一端连接至所述第一真空导管，另一端经由所述这些第一引线孔，沿所 述这些第一支撑管的延伸方向延伸；所述第二管线单元包括一第二真空导管，伸入所述翻转架内部，且延伸至所述这些第二引线孔 下方；以及多根第二真空支管，位于所述这些第二支撑管内，所述这些第二真空支 管的一端连接至所述第二真空导管，另一端经由所述这些第二引线孔，沿所 述这些第二支撑管的延伸方向延伸。
14. 如权利要求13所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一真空导管 包括一第一基段与连接所述第一基段的多个第一延伸段，所述这些第一延伸 段的延伸方向与所述第一基段的延伸方向不同，所述第二真空导管包括一第二基段与连接所述第二基段的多个第二延伸段，所述这些第二延伸段的延伸 方向与所述第二基段的延伸方向不同，且所述这些第一延伸段与所述这些第 二延伸段是交替设置。
15. 如权利要求14所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一基段与所 述第二基段相对，所述第一基段与所述第二基段沿一第一方向延伸，而所述 这些第一延伸段与所述这些第二延伸段沿一第二方向延伸，且所述第一方向 实质上垂直于所述第二方向。
16. 如权利要求14所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一基段与所 述第二基段相对，且分别弯折成L形，所述第一基段与所述第二基段是沿一 矩形轨迹设置，而所述这些第一延伸段与所述这些第二延伸段是沿一预定方 向延伸，且所述预定方向不垂直于所述矩形轨迹的任一边。
17. 如权利要求14所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一基段是沿 一矩形轨迹的其中三边弯折，所述第二基段是部分或全部设置于所述矩形轨 迹内且弯折成U形，且所述第二基段的相平行的两边是平行于所述第一基段 的相平行的两边，而所述这些第一延伸段与所述这些第二延伸段是位于所述 矩形轨迹内。
18. 如权利要求14所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一基段是沿 一矩形轨迹的其中三边弯折，所述第二基段是设置于所述矩形轨迹内，所述 第二基段包括平行所述第一基段的其中两边的二平行段以及连接于所述这些 平行段之间的一连接段，所述连接段不平行且不垂直于所述这些平行段，且 所述这些第一延伸段与所述这些第二延伸段是位于所述矩形轨迹内。
19. 如权利要求13所述的基板翻转平台，其特征在于，所述第一真空导管 弯折形成具有多个弯折处的螺旋状，且所述第一真空导管之间有一螺旋状区 域，所述第二真空导管从位于所述螺旋状区域内的一端弯折至位于所述螺旋 状区域外的另一端，以形成具有多个弯折处的螺旋状，且所述第一真空导管 与所述第二真空导管的所述这些弯折处的弯折角度为90度。
20. 如权利要求9所述的基板翻转平台，其特征在于，在所述阵列的任一3x3阵列中，当所述这些第一引线孔其中之一位于所述3x3阵列的中心时，所述3x3阵列的周围包括所述这些第一引线孔至少其中之一，而当所述这些第二引线孔其中之一位于所述3x3阵列的中心时，所述3x3阵列的周围包括所述这些第二引线孔至少其中之一。
21. 如权利要求9所述的基板翻转平台，其特征在于，以所述阵列的几何中心为原点定义出一直角坐标系，使每一第一引线孔与每一第二引线孔分别具有一坐标值，且所述这些第一引线孔的所述这些坐标值之和为零，所述这些第二引线孔的所述这些坐标值之和为零。
全文摘要
一种基板翻转平台与翻转基板的方法，用以吸附基板并翻转基板。此基板翻转平台包括固定架、翻转架与气流导引装置。翻转架枢接于固定架上，且翻转架内部为中空。翻转架具有适于吸附基板的吸附面，且吸附面设有多个第一引线孔与多个第二引线孔。气流导引装置包括第一管线单元与第二管线单元。第一管线单元的一端伸入翻转架内部并延伸至第一引线孔，而第二管线单元的一端伸入翻转架内部并延伸至第二引线孔，且第一管线单元与第二管线单元彼此独立、互不相通。此基板翻转平台可防止基板在翻转的过程中掉落。
文档编号H01L21/67GK101510523SQ200910128038
公开日2009年8月19日 申请日期2009年3月19日 优先权日2009年3月19日
发明者彭振财, 翁嘉信 申请人:友达光电股份有限公司