专利名称：电光装置用基板、该基板的制造方法及其应用、以及掩模的制作方法
技术领域：
本发明涉及具有在表面上具有凹凸形状的光反射层的电光装置用基板、该电光装置用基板的制造方法、使用该电光装置用基板的电光装置、使用该电光装置的电子设备和用来形成在表面上具有凹凸形状的基底层的掩模。
背景技术：
在移动电话机、移动信息终端机和其它的电子设备中，液晶装置、其它的电光装置广为应用。例如，作为用来用视觉方式显示与电子设备有关的各种信息的显示部分人们一直使用电光装置。
该电光装置，例如具备具有反射层的电光装置用基板；面状地与该反射层接触的电光物质层，例如，液晶层。该反射层，采用反射太阳光、室内光等的外部光的办法，向液晶层等供给该外部光。
在像这样地用反射层反射外部光的情况下，当该反射层的表面是光滑的平面时，要向外部显示的文字、数字、图案等的像的背景就变成为镜状，存在着难于观看整个显示面的问题。为了消除该问题，人们提出了在反射层的表面上形成多个凹凸，就是说，形成山峰部分和谷底部分，就是说形成凹部和凸部(非凹部)，以使反射光进行散射的技术。
为了像这样地在反射层的表面上形成凹凸，以往，人们提出了这样的方案采用在基板上形成树脂层，在该树脂层的表面上平面性地以不规则的排列形成凹部或凸部，在该树脂层上形成反射层的办法，使得在反射层的表面上具有凹凸。
在制造上述现有的基板时，使用的是例如图30A和图30B所示那样的掩模(光掩模)106。现在，假定要制造图30C所示的基板结构，就是说，先在基板101上形成树脂层(基底层)102，再在该树脂层102的表面上形成凹部103之类的基板结构，则可以采用在透明基板107上边设置由与凹部103对应的孔104，和与凸部对应的遮光部109构成的遮光膜108的办法形成掩模106。
采用通过该掩模106使感光性树脂材料层曝光，然后，使已曝光的树脂材料层显影的办法，在树脂层102的表面上形成凹部103，就是说形成凹凸。然后，只要在该树脂层102的上边形成反射层118，就可以按照树脂层102的凹凸在反射层118的表面上形成凹凸。
在这里，就现有的掩模106的遮光膜108来说，相对于遮光部109的孔104的形成位置未能定位于特别的位置上。因此，多个孔104中的存在于最外周区域上的若干个孔，存在着与遮光部109的缘端，就是说，与遮光膜108的缘端108a进行交叉的孔。
在使用这样的现有的掩模106的情况下，和与遮光膜108的缘端108a进行交叉那样地存在的孔对应，在基板101上边的树脂层102的缘端102a上形成凹部103的一部分，在该缘端部分处树脂材料102的厚度变薄。这样的厚度薄的缘端部分，存在着在显影时从基板101上被剥离下来的危险性。其剥离片常常在显影后会再附着于基板101或树脂层102上，变成为异物不良。当像这样地在树脂层102上发生了剥离或再附着时，结果就变成为在其上边的反射层的形状上产生紊乱。为此，就会在反射特性上产生紊乱，在使用该反射光进行显示的情况下，就存在着显示紊乱的可能性。
此外，所谓的半透过反射式的液晶装置，一般的构成是在液晶层与背光源之间，具有在使光透过的同时，反射外光的半透过反射层。作为该半透过反射层的一个形态，人们知道在通过开口部分使光透过的同时，借助于凹凸状的反射面(光反射部分)使外光散射的构成。在这里，之所以要赋予半透过反射层以散射特性，是因为如上所述防止半透过反射层上的外光的镜面反射，以防背景或室内照明等向观察者要观看的画面上的映入的缘故。
作为用来形成这种半透过反射层的技术之一，人们提出了使用感光性树脂等的造型材料的手法。具体地说，如图31和图32所示，在玻璃等的基板500上，借助于感光性树脂形成具有光透过用的开口部512的同时，形成表面为凹凸状的树脂层(基底层)510。然后，仅向树脂层510中的凹凸面上淀积Al(铝)等的具有光反射性的材料，形成反映树脂层501的凹凸形状的反射层520。另外，树脂层510只要具有光透过性，对于树脂层510来说，即便是不形成开口部512，也可以实现透过式显示。但是，为了减少光损耗，优选对于树脂层510来说形成开口部512。
具有这样的开口部512的树脂层510，例如，可以如下所述地进行制造。首先，向基板500上边，涂敷正型的感光性树脂，用图33所示那样的掩模550进行曝光。在该掩模550中位于大体上的中央的透光部552，是用来形成树脂层510的开口部512的部分，随机配置在其周边上的微小的透光部554，是用来形成树脂层510的凹凸面的部分。如果用这样的掩模550使感光性树脂曝光后，进行显影处理，就可以形成具有上述图31所示那样的开口部512和凹凸面的树脂层510。
然而，在掩模550中，在开口部512用的透光部552的边缘上邻接配置有凹凸面用的透光部554。如图33中的放大图所示，在这些之中，在已与透光部552连起来的状态下还含有使光透过的部分。为此，结果就变成为在树脂层510中的开口部512的侧壁510e，如图31的平面图所示，被形成为变成为皱褶状。
但是，当像这样使得侧壁面510e变成为皱褶状那样地使感光性树脂曝光时，在其显影工序中，就存在着树脂片从侧壁面510e上剥离的危险性。其结果是混合于显影液中的树脂片就会再附着于树脂层上，变成为使液晶面板品质降低或产生缺憾的根由。
发明内容
本发明就是鉴于上述那些问题而发明的，特别是要提供可以形成在曝光·显影时没有剥离的树脂层的电光装置用基板的制造方法，具有在表面上具有凹凸形状的光反射层的电光装置用基板、使用该电光装置用基板的电光装置、使用该电光装置的电子设备以及用来形成在表面上具有凹凸形状的基底层的掩模。
本发明提供一种具有在表面上具有凹凸部分的基底层，和在上述基底层的上边设置的具有光反射性的反射层的电光装置用基板的制造方法，其特征在于具有下述工序涂布工序，向基板上涂布感光性材料；曝光工序，在上述感光性材料的表面上，进行上述感光性材料的曝光，以便使得处于封闭区域内的，而且，处于在以不与该封闭区域的轮廓线交叉的方式分散设置在该封闭区域内的多个孤立图案的外侧的区域变成为曝光部分或非曝光部分的一方，其它的区域变成为曝光部分或非曝光部分的另一方；显影工序，通过将借助于上述曝光工序被曝光后的感光性材料进行显影来形成上述基底层；反射层形成工序，在上述基底层的上边形成具有光反射性的反射层。将之叫做本发明的第1形态。
倘采用该电光装置用基板的制造方法，则在曝光工序中，由于被曝光为使得凹凸面从基底层的缘端离开，故要形成基底层的缘端的侧壁面就被曝光为大体上变成为平坦，结果是在感光性材料的显影处理时，构成基底层(树脂层)的感光性材料的一部分被剥离，再附着的问题被消除了。
在这里，在第1形态中，封闭区域，也可以是被将该封闭区域围起来的第1轮廓线和处于该第1轮廓线的内侧的第2轮廓线挟持起来的封闭区域。将之叫做本发明的第2形态。
倘采用该电光装置用基板的制造方法，则在曝光工序中，由于已被曝光为使得凹凸面从第2轮廓线，即从开口部分的缘端离开，故要形成开口部侧壁面就被曝光为大体上变成为平坦，结果是消除了在感光性材料的显影处理时，构成基底层(树脂层)的感光性材料的一部分被剥离、再附着的问题。
此外，在曝光工序中，也可以被曝光为使得上述多个孤立图案中的每一者与上述第2轮廓线之间的距离的最小值在4微米或其以上。将之叫做本发明的第3形态。如上所述，通过使开口部的缘端与凹凸面的缘端离开4微米或其以上，可以确保要形成开口部的侧壁面的平坦性。
此外，在曝光工序中，也可以曝光为使得上述多个孤立图案的每一者与上述第2轮廓线之间的距离的最小值在12微米或其以下。将之叫做本发明的第4形态。如上所述，通过使开口部的缘端，与凹凸面的缘端之间的间隔作成为12微米或其以下，可以充分地确保电光装置用基板中的散射特性。
进而，在第2、第3、第4形态中，反射层形成工序，还具有凹凸吸收层形成工序，该工序在基底层的上边，形成吸收在该基底层的表面上形成的凹凸形状的一部分的凹凸吸收层，反射层，也可以在上述凹凸吸收层形成工序中形成的凹凸吸收层的上边形成。将这些分别叫做本发明的第5、第6、第7形态。如上所述，通过形成吸收凹凸面的凹凸形状的凹凸吸收层，可以使反射层的凹凸形状变成为平滑起来。
此外，在第1形态中，在曝光工序中，多个孤立的图案中的每一者与将封闭区域围起来的轮廓线之间的最小值也可以处于预先决定好的范围内。将之叫做本发明的第8形态。
在这里，预先决定好的范围，可以是4微米～12微米。将之叫做本发明的第9形态。进而，预先决定的范围也可以是4微米～7微米。将之叫做本发明的第10形态。
如上所述，若先使基底层曝光，然后再使该基底层显影，则在完成后的基底层的缘端上就不会形成凹凸面的一部分，就是说不会形成厚度薄的部分。为此，基底层的缘端区域就会因牢固地固定粘接到基板上而变得难于剥离。
再有，在第1到第10形态中，在显影工序中，显影液也可以喷淋状地向基板供给。将之叫做本发明的第11形态。在这里，作为显影方法，除去向显影对象物，按照本发明的说法是向具有基底层的基板上喷淋状地供给显影液的方法之外，还可以考虑将这样的基板浸渍到显影液中的方法。但是，在进行流水作业，就是说边将对象物载置到输送带上进行输送边进行显影处理之类的情况下，喷淋法的作业性比浸渍法高。在该情况下，人们认为喷淋法的情况与浸渍法的情况相比较，在作为显影对象的基底层上会产生更大的应力。因此，被认为基底层被剥离的危险性大。但是，如本发明所示，如果使基底层的缘端区域牢固地固定到基板上，则即便是采用基于喷淋法的显影处理，也可以确实地防止基底层的剥离。
此外，本发明还提供包括第1～第11形态的电光装置用基板的制造方法的电光装置的制造方法。将之叫做本发明的第12形态。
此外，本发明还提供电光装置用基板，其特征在于，具有基板；基底层，在上述基板上形成，在表面上具有多个凹部或凸部；反射层，在上述基底层的上边形成，具有光反射性，上述多个凹部或凸部，被形成为不与上述基底层的端缘交叉。将之叫做本发明的第13形态。
倘采用该电光装置用基板，由于被曝光为使得凹凸面从基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面就大体上变成为平坦。因此，在感光性材料的显影处理时，就不会产生构成基底层的感光性材料的一部分被剥离、再附着这样的缺憾。
在这里，基底层，还具有用来形成使光透过的透过部的开口部，多个凹部或凸部，被形成为不与上述开口部的端缘交叉，反射层，也可以设置在基底层的表面上的开口部以外的部分上。将之叫做本发明的第14形态。
此外，在第13形态中，基底层的缘端，与在其内部包括全部多个凹部或凸部的包络线之间的距离，也可以处于预先决定好的范围内。将之叫做本发明的第15形态。
在该基底层的缘端上形成凹部或凸部时，就会在该缘端部上产生厚度薄的部分和厚的部分。由此，与厚度厚的部分之间就会产生应力差。特别是认为在显影处理时易于产生应力差。当产生该应力差时，基底层从基板上被剥离的可能性将增高。相对于此，如果像本发明那样作成为使得在基底层的缘端区域，即在外周区域上配置没有凹部的区域，即配置凸部区域，则可以确实地防止基底层的剥离。
再有，在第15形态中，预先决定好的范围，可以是4微米～12微米。将之叫做本发明的第16形态。这样的话，就可以确实地防止基底层的剥离。
此外，本发明还提供电光装置，其特征在于，具有第13～第16形态涉及的电光装置用基板；与该电光装置用基板相向的相向基板；设置在电光装置用基板和上述相向基板之间的电光物质。将之叫做本发明的第17形态。
倘采用该电光装置，则可以借助于含于电光装置用基板中的反射层的作用，可以在电光装置的内部反射光，就可以用该反射光进行显示。此外，由于与设置在基底层的表面上的凹部或凸部对应地在反射层上形成凹凸，故上述反射光将变成为散射光，显示的背景不会变成为镜面，显示就变会得易于观看。
再有，在含于电光装置用基板中的基底层的缘端区域中，即在外周区域上，由于没有凹部，即没有凹坑，故可以防止缘端区域中基底层的剥离，因而可以防止反射层的剥离，因此，可以进行没有紊乱的稳定的显示。
在这里，电光装置，也可以具有设置在该电光装置用基板上的第1电极，和设置在相向基板上的第2电极。此外，上述电光物质可以是液晶，该液晶也可以设置在上述第1电极和上述第2电极之间。将之叫做本发明的第18形态。
若采用该液晶装置，则可以使用被含于电光装置用基板内的反射层反射的光进行显示。而且，本发明的反射层，难于在其缘端上发生剥离，也可以抑制因剥离片的再附着而产生的异物的混入，总是可以维持稳定的光反射特性，因此，总是可以进行稳定的高品位的显示。
此外，本发明还提供一种电子设备，其特征在于将第17、18形态涉及的电光装置用做显示部。将之叫做本发明的第19形态。电光装置用基板，由于在其制造工序中不会产生所谓基底层的一部分的剥离、再附着的缺憾，故可以改善具备电光装置用基板的电光装置和电子设备的品质。
此外，本发明还提供是一种掩模，这是一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与凸部对应的凸部用图案，和与凹部对应的凹部用图案，基底层的缘端与凸部用图案的缘端对应，凹部用图案不与该缘端交叉。
在这里，上述‘凹部’意味着比上述‘凸部’凹了下去，上述‘凸部’意味着比上述‘凹部’突出出来。因此，若在某一构件上的表面上形成‘凹部’，则在其邻近就必然就要形成‘凸部’，此外，若在某一构件的表面上形成‘凸部’，则在其邻近就必然就要形成‘凹部’。
上述凹部用图案和上述凸部用图案，用透光区域例如孔形成一方，用遮光区域形成另一方，究竟使哪一方变成为遮光区域，要由作为曝光对象的树脂材料是负型还是正型来决定。
如果用本发明的掩模在基板上形成基底层，由于在其基底层的缘端上未形成凹部，即未形成凹坑，故在缘端上不形成厚度薄的部分。因此，缘端部分的贴紧性增加，可以防止在进行对基底层的显影处理时在该基底层的缘端上发生剥离或再附着。
此外，本发明还提供一种掩模，这是一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与凸部对应的凸部用图案，和与凹部对应的凹部用图案，凸部用图案被形成为其缘端位于凹部用图案的外侧。将之叫做本发明的第21形态。
例如，如果凹部用图案是孔，凸部用图案是遮光区域，倘采用该构成，则遮光区域的缘端就变成为总是位于孔的外侧。倘采用该构成，由于在借助于使用掩模的曝光形成的基底层的缘端上未形成有厚度薄的部分，基底层的缘端可以维持均一的厚度，故可以防止在基底层的缘端上发生剥离或再附着。
此外，本发明还提供一种掩模，这是一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与凸部对应的凸部用图案，与凹部对应的凹部用图案，凸部用图案，具有将凹部用图案围起来的框状的区域。将之叫做本发明的第22形态。
凸部用图案的框状区域，相当于基底层的框状的外周部分。这样的话，由于在基底层的外周部分上不再形成厚度薄的部分，故可以防止在基底层的剥离或再附着。
在这里，在第20～第22形态中，凸部用图案的缘端也可以位于距上述凹部用图案的最外侧的图案的外周4～7微米的外侧。将之分别叫做本发明的第23～第25形态。如果这样，就可以将借助于使用掩模的曝光形成的基底层的缘端区域牢固地固定到基板上，就可以防止该区域的剥离。
图1是显示本发明的实施形态1涉及的液晶装置的剖面图。
图2是放大显示该液晶装置的主要部分的剖面图。
图3是显示该液晶装置的主要部分的平面构造的平面图。
图4是该液晶装置的剖面图。
图5是显示在该液晶装置中使用的开关元件的一个例子的透视图。
图6是作为该液晶装置的构成要素的树脂层的平面图。
图7是显示该实施形态的电光装置用基板的制造方法的一个实施形态的工序图。
图8是显示作为该制造方法的主要工序的树脂散射层的形成工序的一个实施形态的工序图。
图9A-E是显示与该制造方法的工序图对应的基板结构的变化的样子的图。
图10A是显示该实施形态涉及的掩模的平面图。
图10B是该掩模的一部分的放大图。
图10C是显示用该掩模制造的基板结构的剖面图。
图11是显示树脂散射层的形成工序的变形例的工序图。
图12A-C是显示与该变形例的工序图对应的基板结构的变化的样子的图。
图13是本发明的实施形态2涉及的液晶装置的剖面图。
图14是该液晶装置的分解透视图。
图15显示含于该液晶装置内的半透过反射基板的平面的图。
图16是显示含于该液晶装置内的半透过反射基板的剖面的图。
图17是显示该半透过反射基板的制造方法的工序图。
图18A-F是显示该制造方法中的各个工序的样子的图。
图19是显示在该半透过反射基板的制造中使用的掩模的平面图。
图20是显示该实施形态的变形例涉及的树脂层的形状的平面图。
图21是显示该树脂层的形状的剖面图。
图22是显示该实施形态的另一变形例涉及的树脂层的形状的平面图。
图23是显示该树脂层的形状的剖面图。
图24是该变形例的半透过反射基板的局部剖面图。
图25是该变形例涉及的半透过反射基板的局部剖面图。
图26是显示与该变形例的对比例的剖面图。
图27是显示本发明涉及的电子设备的一个实施形态的框图。
图28是显示作为本发明涉及的电子设备的另一实施形态的移动电话机的透视图。
图29是显示作为本发明涉及的电子设备的另一实施形态的移动信息终端机的透视图。
图30A是现有的掩模的一个例子的平面图。
图30B是该现有掩模的局部放大图。
图30C是显示使用该掩模制造的现有的基板结构的剖面图。
图31是现有的半透过反射层的平面图。
图32是现有的半透过反射层的剖面图。
图33是显示在现有的半透过反射层的树脂层的形成中使用的掩模的平面图。
具体实施例方式
A.实施形态1<A-1电光装置>
以下，以将本发明应用于作为电光装置的一个例子的液晶装置的情况为例进行说明。另外，从此以后要说明的实施形态，都是本发明的一个例子，并不是对本发明进行限定。此外，在这些说明中，虽然要根据需要参看附图，但是在这些附图中，为了便于理解而显示由多个构成要素构成的结造中那些重要的构成要素，用与实际不同的相对尺寸显示各个要素。
图1是显示本发明的实施形态1涉及的液晶装置的结构的剖面图。在这里举出的液晶装置1，是使用作为2端开关元件的TFD(薄膜二极管)的有源矩阵方式的，作为电光装置用基板(半透过反射基板)使用滤色片基板的半透过反射式的液晶装置。
在图1中，液晶装置1，具有液晶面板2、已装配到该液晶面板2上的驱动用IC3、和照明装置4。照明装置4从观察一侧看(图中的箭头A方向，即图的上侧)，被配设在液晶面板2的背面侧作为背光源发挥作用。另外，照明装置4，也可以配设在液晶面板2的观察侧，使之作为前光源发挥作用。
照明装置4，具有LED(发光二极管)等的点状光源，或用冷阴极管等的线状光源等构成的光源6、用透光性的树脂形成的导光体7。在从观察侧看，导光体7的背面侧上，根据需要也可以设置反射层8。另外，在导光体7的观察侧，根据需要，也可设置扩散层9。导光体7的光导入口7a在图1的纸面垂直方向上延伸，从光源6发生的光通过该光导入口7a被导往导光体7的内部。
液晶面板2，具有作为电光装置用基板的滤色片基板11、作为与滤色片基板相向的相向基板的元件基板12、和将这些基板粘贴起来的从箭头A方向看为正方形或长方形的框状的密封材料13。向被基板11、基板12和密封材料13围起来的间隙，所谓的单元间隙内封入液晶14，构成液晶层。
滤色片基板11具有从箭头A方向看为长方形或正方形的第1基板16a。在该第1基板16a的内侧表面上，形成有作为具有凹凸即凹部和凸部(非凹部)的组合的基底层的树脂层17。在其上形成反射层18，在其上形成着色层19和遮光层21，再在其上形成保护层22，在其上边，形成向纸面垂直方向直线性地延伸的电极(数据线)23a，然后，再在其上形成取向膜24a。
对取向膜24a施行取向处理，例如摩擦处理，借助于此，决定第1基板16a附近的液晶分子的取向。此外，在第1基板16a的外侧表面上，借助于粘贴法装设有相位差板26a和偏振板27a。
第1基板16a，例如，可由透光性的玻璃、透光性的塑料等形成。树脂层17，如图2所示，可由第1层17a和第2层17b构成的2层结构形成。在第2层17b的表面上，形成有细微的凹凸，即细微的凹部和凸部。反射层18，例如，可用Al(铝)或铝合金等形成。该反射层18的表面，与作为其树脂层的树脂层17上带有的凹凸相对应地变成为凹凸形状。在反射层18处，反射的光借助于该凹凸形状被扩散。
着色层19，例如图3所示，1个1个被形成为长方形的点状，1个着色层19呈现R(红)、G(绿)、B(蓝)3原色中的任何一色。这些各色的着色层19，排列成条带排列、三角形排列、马赛克排列，其它适宜的排列。在图3中，例示出的是条带排列。另外，着色层19。也可以由C(青)、M(深红)、Y(黄)这3原色形成。另外，图2是沿着图3中的II-II线的剖面图。
在图1中，遮光层21，可形成为用已分散了炭黑的黑色树脂材料或Cr(铬)等的遮光性材料填埋多个着色层19之间的形态。遮光层21，作为黑色矩阵发挥作用，以提高借助于透过了着色层19后的光被显示的像的对比度。另外，遮光层21，并不限定于用Cr等的特定材料形成，例如，也可以采用使构成着色层19的R、G、B在各个着色层2色或3色重叠起来，即通过叠层来形成。
保护层22，例如，可由丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂等的感光性的树脂形成。此外，在该保护层22的适宜的地方上，如图2所示，形成有达到着色层19的表面的开口部28。
另外，也可以不形成该开口部28，而代之以在保护层22上形成深度到达保护层22的途中而不会达到着色层19的表面的有底凹部。
在图2的纸面垂直方向上线状地延伸的数据线23a，例如，可用ITO(氧化铟锡)等的金属氧化物形成，其中央的一部分已落入到开口部28内。此外，在其上边形成的取向膜24a，例如可用聚酰亚胺等形成。就该取向膜24a来说，与开口部28对应的部分，也已落入到该开口部28内。即，当从箭头A方向看平面时，在数据线23a和取向膜24a上形成有多个凹坑。
在图1中，与滤色片基板11相向的元件基板12，具有第2基板16b。该第2基板16b的要形成伸出部29的一边向第1基板16a的外侧伸出。在该第2基板16b的内侧表面上，形成有多个作为开关元件的TFD31，将多个像素电极23b形成为连接到这些TFD31上。此外，在像素电极23b的上边形成有取向膜24b。对取向膜24b施行取向处理，例如摩擦处理，借助于此，决定第2基板16b附近的液晶分子的取向。在第2基板16b的外侧表面上，借助于粘贴等的方法，装设有相位差板26b和偏振板27b。
第2基板16b，例如，可用透光性的玻璃、透光性的塑料等形成。此外，像素电极23b，可用ITO等的金属氧化物形成。此外，取向膜24b，例如，可用聚酰亚胺等形成。
每一个TFD31，如图4所示，都设置在与滤色片基板11侧的遮光层21对应的位置上，此外，如图5所示，都采用使第1TFD要素32a和第2TFD要素32b串联连接起来的办法形成。
另外，图4是沿着图3的IV-IV线的剖面图，因此，也是图2的剖面图。
在图5中，TFD31，例如，可如下所述地形成。即，首先，用TaW(钨化钽)形成扫描线33的第1层34a和TFD31的第1金属层36。其次，借助于阳极氧化处理形成扫描线33的第2层34b和TFD31的绝缘膜37。其次，例如用Cr(铬)形成扫描线33的第3层34c和TFD31的第2金属层38。
在图4中，在滤色片基板11上形成的数据线23a，在纸面的左右方向上延伸。在元件基板12上形成的上述扫描线33，相对于数据线23a在直角方向，即在图的纸面垂直方向上延伸。
在图5中，第1TFD要素32a的第2金属层38从扫描线33的第3层34c开始延伸。此外。要将像素电极23b形成为使得与第2TFD要素32b的第2金属层38的顶端重叠。倘考虑电流信号从扫描线33向像素电极23流，在沿着该电流方向，在第1TFD要素32a中电信号就要按照第2电极38→绝缘膜37→第1金属层36的顺序流动，另一方面在第2TFD要素32b中，电信号则按照第1金属层36→绝缘膜37→第2金属层38的顺序流动。
即，第1TFD要素32a和第2TFD要素32b，变成为将电性互逆方向的一对TFD要素相互串联连接起来的结构。这样的结构，一般地说被叫做背靠背(Back-to-Back)结构。人们知道该构造的TFD元件，与仅仅用1个TFD要素构成TFD元件的情况比较，可以得到稳定的特性。另外，为了防止第1金属层36等从第2基板16b的剥离，或者使得杂质不从第2基板16b向第1金属层36等进行扩散等，也可以在TFD31和基板16b之间以及扫描线33和基板16b之间设置树脂层(未画出来)。
在图1中，在第2基板16b的伸出部29上，例如，在TFD31或像素电极23b形成的同时形成布线39。此外，在第1基板16a上，例如在反射层18或数据线23a形成的同时形成布线41。在密封材料13的内部，以分散状态含有球形或圆筒形的导电材料42。第1基板16a上的布线41和第2基板16b上的布线39，借助于该导电材料42而彼此导通，借助于此，滤色片基板11一侧的数据线23a就可与元件基板12一侧的布线39导通。
在元件基板12的伸出部29上，借助于ACF(各向异性导电膜)43装配有驱动用IC3。详细地说，借助于构成ACF43的树脂将驱动用IC3固定粘接到伸出部29上，然后再用含于ACF43内的导电粒子将驱动用IC3的突点即端子和布线39电连接起来。
此外，在伸出部29的缘端上形成有外部连接用端子44，该外部连接用端子44用ACF43电连接到驱动用IC3的突点上。借助于焊接、ACF、薄片密封等的电连接手法将未画出来的布线基板，例如可挠性布线基板与外部连接用端子44连接起来。通过该布线基板，从例如移动电话机、移动信息终端机等的电子设备向液晶装置1供给信号、电力等。
在图1中，滤色片基板11一侧的数据线23a和元件基板12一侧的像素电极23b，从箭头A方向看已彼此在平面上重叠起来。该重叠区域，构成作为显示的最小单位(子像素)的显示点D。而且，借助于从箭头A方向看矩阵状地排列起来的多个显示点D构成显示区域V。在该显示区域V内显示文字、数字、图案等的像。
每一个显示点D，如图3所示，其面积都与像素电极23b同一大小。另外，在图3中，虽然将用点画线表示的像素电极23b画得比用实线表示的着色层19还稍微大一点，但是，这是为了便于理解结构的缘故，这些的平面形状，实际上，大体上是同一形状，而且彼此重叠。
此外，在图3中，点状的每一个着色层19，与每一个显示点D对应地形成。此外，在图2和图4中，在反射层18上与每一个显示点D相对应地设置有开口部46。这些可开口部46，如图3所示，平面性地看被形成为长方形。另外，在图3中，虽然将用虚线表示的开口部46画得比用实线表示的保护层22的开口部28稍微大一点，但是，平面性地看时的两者的周缘则大体上一致。
如本实施形态所示，在用由R、G、B这3色构成的着色层19进行彩色显示的情况下，通过与R、G、B这3色对应的3个着色层19对应的3个显示点D形成1个像素。另一方面，在不用着色层进行所谓黑白等单色显示的情况下，则用1个显示点D形成1个像素。
在图2和图4中，在每一个显示点D中，设置有反射层18的部分R是反射部，已形成了开口部46的部分T是透过部。从观察一侧(箭头A方向)入射进来的外部光，即从元件基板12一侧入射进来的外部光L0(参看图2)，在反射部R处进行反射。另一方面，从图1的照明装置4的导光体7放射出来的光L1(参看图2)，将透过透过部T。
倘采用由以上的结构构成的液晶装置，则在太阳光、室内光等的外部光强的情况下，外部光L0在反射部R处反射而被供往液晶层14。另一方面，在图1的照明装置4亮灯的情况下，从导光体7射出的平面状的光，通过图2的透过部T供往液晶层14。这样一来，就可以进行半透过反射式的显示。
给将液晶层14挟持起来的数据线23a和像素电极23b中的一方施加扫描电压，给另一方施加数据电压。附属于已施加上扫描电压和数据电压的显示点D的TFD31就变成为ON状态，显示点D中的液晶分子的取向状态被维持为使得对要通过显示点D的光进行调制。此外，取决于该调制后的光是否通过图1的偏振板27b，可以在元件基板12的外侧显示文字、数字、图案等的希望的像。用外部光L0进行显示的情况是反射式显示，用透过光L1进行显示的情况是透过式显示。
在进行反射式显示时，反射光L0要二次通过液晶层14。此外，在进行透过式显示时，透过光L1仅仅通过液晶层14一次。为此，在液晶层14的层厚遍及反射部R和透过部T都是均一的情况下，在使用反射光L0的反射式显示和使用透过光L1的透过式显示之间，就会在通过液晶层14的距离上产生不同。存在着产生在反射式显示和透过式显示之间显示品质不同的问题的可能性。
对此，在本实施形态中，由于通过在保护层22上设置开口部28，而将在透过部T处的液晶层14的层厚E形成得厚，将反射部R处的层厚F形成得薄，故结果就变成为可以在反射式显示和透过式显示之间得到均一的显示品质。
在图1所示的液晶装置1的滤色片基板11中，为了在第1基板16a的内侧表面上设置的反射层18上，形成图2和图4所示那样的凹凸，故要在作为其反射层18的树脂层的树脂层17的表面上形成凹凸，即形成凹部和凸部，这与上述的情况是同样的。
该树脂层17的平面形状，例如，如图6所示，可被设定为正方形、长方形等。而该树脂层17的大小，与图1所示的显示区域V大体上是同样的，对于第1基板16a即对于液晶面板2的外形线，一方的边离开的距离d1为d1＝50～300微米左右，另一方的边离开的距离d2则为d2＝20～100微米左右。
此外，在树脂层17的外周区域上框状地设置不存在凹部20的区域47。由于像这样地在树脂层17的外周区域上设置不存在凹部20的框状区域47，故凹部20就不会和树脂层17的缘端51交叉。此外，树脂层17的缘端51，位于比任何一个凹部20都更往外侧。
在图30C所示的现有的树脂层102中，在该树脂层102的缘端102a上有时会存在凹部103，在该情况下，该部分的树脂层102的厚度就会局部地变薄。一般地说，树脂层102可采用向基板101上均匀地涂敷感光性树脂材料，通过具有与凹部103对应的图案的掩模(光掩模)使上述感光性树脂材料曝光，然后使曝光后的感光性树脂材料显影这样的一连串的处理来形成。
当因在这样地形成的树脂层102的缘端102a上存在凹部103而使得该部分的厚度变薄时，在上述的显影处理时，该已变薄的部分就易于发生剥离，此外，其剥离片在显影处理后就会向基板上再附着。当发生了这样的剥离和再附着时，在要叠层到该树脂层102的上边的反射层118的表面形状上就会产生紊乱，为此，在反射光以至在显示像上就会发生紊乱，存在着显示变得难于可见的可能性。
相对于此，在本实施形态中，如图6所示，由于在树脂层17的外周区域上设置有不存在凹部20的区域47，故如图10C所示，接近树脂层17的缘端17c的区域借助于厚度厚的部分牢固地固定粘接到基板16a上。因此，就可以确实地防止在树脂层17上产生剥离。另外，在图6所示的树脂层17中，只要不存在凹部20的区域47，即凸部区域47的宽度W1为4～12微米左右，对于树脂层17来说就可以得到没有剥离的稳定的固定粘接。
<A-2电光装置的制造方法>
以下，对本实施形态涉及的电光装置用基板的制造方法以及在该制造方法中使用的掩模进行说明。
图7是显示本实施形态涉及的电光装置用基板的制造方法的一个实施形态。在本实施形态中，为了制造图1的滤色片基板11，可使用该制造方法。在该制造方法的情况下，在图7的工序P1中，形成图1的树脂层17。该树脂层17，如图2和图4所示，可通过将第2层17b叠层到第1层17a的上边来形成。采用在第1层17a的表面上形成粗糙的凹部和粗糙的凸部，在其上边用同一材料叠层厚度薄的第2层17b的办法，表面就变得平滑起来。至于该树脂层的形成工序将在后边详细地讲述。
其次，在图7的工序P2中，形成图2和图4的反射层18。具体地说，例如，均匀厚度地涂敷光反射性的材料，例如Al或Al合金，然后，借助于光刻处理和刻蚀处理，在每一个显示点D上都形成开口部46。
其次，在图7的工序P3中，形成图2和图4的遮光层21。具体地说，例如将Cr(铬)等的遮光性材料涂敷成均匀的厚度，然后，借助于光刻处理和刻蚀处理，在显示点D的周边区域上即在从箭头A方向看时在网格状的区域上形成遮光层21。
其次，在图7的工序P4中，形成图2和图4的着色层19。具体地说，例如，将呈现R、G、B这3色中的1色的颜料或染料分散到感光性的高分子材料内形成着色层材料，借助于光刻处理使该着色层材料形成为所希望的排列图案。然后，对于R、G、B中的其它的2色，对于每1色反复进行同样的处理，借助于此，在遮光层21之间，将R、G、B各色的着色层19形成为希望的排列图案，例如条带图案。
其次，在图7的工序P5中，形成图2和图4的保护层22。具体地说，例如，将丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂等的感光性树脂涂敷成均匀的厚度，然后，借助于光刻处理，在每一个显示点D上都形成开口部28。
其次，在图7的工序P6中，形成图2和图4的数据线23a。具体地说，例如以ITO(氧化铟锡)等的金属氧化物为材料，借助于光刻处理和刻蚀处理，使多条直线状的数据线23a形成彼此平行地并排的状态，就是说，从图1的箭头A方向看被形成为条带状。
其次，在图7的工序P7中，形成图2和图4的取向膜24a。具体地说，例如，采用在涂敷上聚酰亚胺溶液后，再使之进行后坚膜的办法，形成取向膜24a。然后，在图7的工序P8中，对取向膜24a施行取向处理，例如摩擦处理。借助于该摩擦处理来决定滤色片基板11附近的液晶层14的液晶分子的取向。
借助于以上的方法，就可以制造图1的滤色片基板11。另外，要设定在第1基板16a的外侧上的相位差板26a或偏振板27a，可在借助于密封材料13将相向基板12粘贴到滤色片基板11上后，再粘贴到该第1基板16a的外侧上。
在以上所说明的滤色片基板的制造方法中，若更为详细地说明，工序P1的树脂层的形成工序如下。在图8的工序P11中，如图9A所示，以均匀的厚度在第1基板16a的上边形成感光性树脂材料17a’，例如PC405G。其次，在工序P12中，例如，在100℃、155秒间进行预坚膜以使溶剂蒸发。
其次，在工序P13中，如图9B所示，用掩模56进行曝光处理。掩模56，如图10A所示，可借助于在用透明玻璃、透明塑料等形成为长方形形状、正方形形状、其它所希望的形状的透明基板57上设置遮光层58的办法形成。该遮光层58，可由用Cr等的遮光材料形成的凸部用图案59，和在该凸部用图案59的适当部位上不规则地形成的多个孔，例如，正多角形形状的孔形成的凹部用图案54形成。
凹部用图案54是用来在图10C的树脂层17的表面上形成凹部20的图案。此外，凸部用图案59是用来在树脂层17上不形成凹部20的图案。在图10A、B、C中，为了便于理解其构造，将凹部用图案54和凹部20画得比实际的大小还大而且是模式性地画出来的。另外，图10A中，遮光层58的中央部分的凹部用图案54被省略了。
遮光层58的缘端58a作为凸部用图案59的缘端被形成，在沿该缘端58a的遮光层58的外周区域中，设有不存在凹部用图案54的框状区域。借助于此，就变成为使得凹部用图案54不与任何一个凸部用图案59的缘端58a进行交叉。此外，凸部用图案59的缘端58a位于所有的凹部用图案54的外侧。此外，框状区域53的宽度W2，例如，被设定为4～7微米。
在图8的工序P13的曝光工序中，如图9B所示，使得对于作为曝光对象的树脂材料17a’距离d3＝60～100微米那样地以比较狭窄的间隔配置掩模56，通过该掩模56的凹部用图案54向树脂材料17a’照射曝光光。在本实施形态中，作为树脂材料17a’使用正型的感光性材料。因此，曝光后的部分对于显影溶液将成为可溶性的。
其次，在图8的工序P14中，喷淋状地向树脂材料17a’供给显影溶液。借助于此，如图9C所示，使曝光后的部分溶解形成凹部20，形成树脂层17的第1层17a。在这里形成的凹部20，拐角部分棱角突出，表面的凹凸形状变成为粗糙的状态。此外，在本实施形态中使用的掩模56的外周区域上，由于设置有不存在凹部用图案54的框状区域53，故在借助于显影形成的第1层17a的外周区域上，可以形成不存在凹部20的厚度厚的区域47。如果作成为使得如上所述的在第1层17a的外周区域上不形成局部性地厚度薄的部分，则即便是在显影工序P14中喷淋状地向树脂材料17a’供给显影溶液而加上外力，也可以防止在第1层17a的缘端部分上发生剥离。
其次，在图8的工序P15中，在220℃、50分钟的条件下进行后坚膜以使第1层17a稳定化。借助于此，完成树脂层17的第1层17a。
其次，在工序P16中，如图9D所示，将与第1层17a同一树脂材料17b’涂敷得比第1层17a更薄，然后，在工序P17中，在100℃进行155秒预坚膜。其次，在工序P18中，如图9E所示，用掩模61进行曝光处理。该掩模61，可采用在透明基板63上设置与树脂层17的大小对应的遮光层62的办法形成。
在工序P18中，从遮光层62的外周区域向树脂材料17b’照射曝光光，然后，在工序P19中，通过进行显影处理，如图9E所示，采用除去外周区域的不要的树脂材料17b’以形成缘端51的办法，形成第2层17b。然后，在工序P20中，在220℃进行50分钟后坚膜，借助于此，完成树脂层17。通过叠层第2层17b，可以将树脂层17的表面的凹凸调节成所希望的平滑度。另外，在第2层17b的形成时，即便是在工序P19中要进行显影处理时，由于在第1层17a的外周的框状区域47上不存在薄的部分，故第1层17a也不会被剥离。
<A-3电光装置的制造方法的另一实施形态>
图11显示本发明的电光装置用基板的制造方法的另一实施形态中树脂层的形成工序。该工序，可应用图7所示的基板的制造方法中的工序P1来取代图8所示的树脂层的形成工序。
在图8所示的先前的方法中，如图2所示，用第1层17a和第2层17b形成树脂层17。相对于此，在图11所示的本实施形态的制造方法中，如图12C所示，树脂层17仅仅用1层形成。如上所述，由于即便是在树脂层17变成为单层结构的情况下，该树脂层17的表面也会变得平滑起来，故在本实施形态中，在图11的工序P13的曝光工序中加入了以下那样的改变。
在图8所示的先前的方法中，在工序P13的曝光工序中，如图9C所示，将掩模56和树脂材料17a’之间的距离设定为窄到d3＝60～100微米。相对于此，在图11所示的曝光工序P33中，如图12B所示，将掩模56和树脂材料17’之间的距离设定得比较宽，使得d4＝150～200微米。
图11中其它的工序，即树脂材料的涂敷工序P31、预坚膜工序P32、显影工序P34以及后坚膜工序P35，由于与图8中用来实现第1层的形成工序的对应的各个工序是同样的，故省略对于这些工序的说明。
在本实施形态中，如图12(b)所示的那样，在掩模56的外周区域上设置有不存在凹部用图案54的框状区域53，因此，由于在沿着树脂层17的缘端51的外周区域上可以形成不存在凹部20的框状区域47，故可以防止树脂层17的剥离。
B.实施形态2接着，参看附图对本发明的实施形态2进行说明。在以下的说明中，作为本实施形态涉及的电光装置的一个例子，对有源矩阵方式的彩色显示型液晶装置进行说明。
<B-1电光装置>
首先，对本实施形态涉及的液晶装置的结构进行说明。图13是本实施形态的液晶装置的剖面图，图14示出该液晶装置的大致结构的分解透视图。另外，图13相当于从图14的XIII-XIII线看的剖面图。
如在这些图中所示，液晶装置100，具有用第2基板16b和第1基板16a将作为电光物质的一种的液晶14(在图14中未画出来)挟持起来的液晶面板2b。在液晶面板2b的第1基板16a侧配设有照明装置4。以下，对于液晶14将第2基板16b侧(即，图面上侧)表述为‘观察侧’。即，意味着观看液晶装置100的显示图像的观察者所处的一侧。相对于此，将从液晶14看时第1基板16a一侧(即，图面下侧)表述为‘背面侧’。
照明装置4、光源6和导光体7，与在实施形态1中说明的是一样的。另外，在图2中虽然没有特别地画出来，但是，与实施形态1同样，要将使来自导光体7的光相对于液晶面板2b均匀地扩散的扩散板等，粘贴到导光体7中与液晶面板2b相向的面上，同时，将用来使之向液晶面板2b一侧反射从导光体7向背面一侧出射的光的反射板粘贴到与扩散板相反一侧的面上。
在液晶面板2b中，第2基板16b，是由玻璃等的光透过性材料构成的板状构件。在第2基板16b的观察侧的面上，从第2基板16b一侧开始按照顺序叠层有用来改善对比度的相位差板26b(在图14中未画出来)，用来使入射光产生偏振的偏振板27b(在图1 4中未画出来)。另一方面，在第2基板16b的液晶14侧(背面侧)的面上，则矩阵状地配置有用ITO(氧化铟锡)膜等构成的像素电极23b，在各个像素电极23b的间隙内形成有在一个方向(在图14中所示Y方向)上延伸的多条扫描线33。
如图14所示，各个像素电极23b和与像素电极23b相邻接的扫描线33，通过TFD31连接起来。该TFD31，是具有非线性的电流-电压特性的二端子开关元件。如图13所示，形成有像素电极23b、扫描线33和TFD31的第2基板16b的表面，已被取向膜24b(在图14中未画出来)被覆起来。该取向膜24b，例如可用聚酰亚胺等的有机材料构成。在取向膜24b中，已施行了用来规定在未施加电压时的液晶14的取向状态的摩擦处理。
另一方面，第1基板6a，是由玻璃等的光透过性材料构成的板状构件，在其背面一侧上，与第2基板6b同样，从第1基板16a开始按照顺序叠层有相位差板26a(在图14中未画出来)和偏振板27a(在图14中未画出来)。在第1基板16a的液晶14侧(观察侧)的面上，则从基板一侧开始按照顺序叠层有作为基底层的树脂层17，反射层18，3色的滤色片150R、150G、150B中的任何一者1，数据线23a，取向膜24a(在图14中未画出来)。
其中取向膜24a，是由例如聚酰亚胺等形成的有机薄膜，已施行了用来规定未施加电压时的液晶14的取向方向的摩擦处理。此外，多条数据线23a中每一条，都是用ITO等的光透过性导电材料形成的带状的电极，在滤色片150R、150G、150B的面上边形成。如图14所示，数据线23a被配置为使得在与上述的扫描线33进行交叉的方向(图14中的X方向)上延伸，与在第2基板16b上构成列的多个像素电极23b相向。在该结构的下边，被第2基板16b和第1基板16a挟持着的液晶14，其取向方向归因于给像素电极23b和与之相向的数据线23a之间施加电压而变化。如图14所示，作为根据该施加电压液晶14的取向方向进行变化的区域的最小单位的点D，被排列成矩阵状，其每一个点都作为子像素发挥作用。
滤色片150R、150G、150B，如在实施形态1中说明的那样，是与各个点D对应地设置的树脂层，已分别被颜料等着色为红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)中的任何一者，选择性地使与其颜色对应的波长的光透过。另外，图14中的‘R’、‘G’和‘B’，表示点D中的每一者究竟是要配置滤色片150R、150G、150B中的哪一者的点D。此外，遮光层21，使得将各个滤色片150R、150G、150B的间隙填埋起来那样地形成网格状，对相邻接的滤色片150R、150G、150B的侧方进行遮光。该遮光层21，与在实施形态1中说明的遮光层是同样的。
在这里，图15是与1个点D对应的反射层18的俯视图，图16是与该部分对应的第1基板16a、树脂层17和反射层18的局部剖面图。在图16中，树脂层17是借助于感光性材料的曝光·显影处理进行了造型的树脂层，具有位于点D的中央附近的光透过用的开口部125，和设置在观察侧的平滑的凹凸状的面17c(以下叫做‘凹凸面’)。在这里，凹凸面17c，被形成为距开口部125的缘端(侧壁面17e)恰好离开恒定的距离d21(例如‘4微米’)，在开口部125与凹凸面17c之间，设置有具有平坦性的平坦面17d。另外，在树脂层17中，要形成开口部125的侧壁面17e具有平坦性，关于这一点将在稍后进行详述。
如图15和图16所示，反射层18，是将具有例如Al等的光反射性的材料在树脂层17中的观察侧的面上以大体上恒定的膜厚形成为薄膜的层。反射层18的表面形状，已变成为反映树脂层17的表面形状的形状。具体地说，反射层18，具有平滑的凹凸状的光反射部18b(以下，叫做‘散射反射面’)和，配置为使得将该散射反射面18b和开口部125的缘端隔离开来的平坦的部分18a(以下，叫做‘镜面反射面’)。
在以上构成的基础上，在反射层18中，从照明装置4(参看图13)射出的光，将透过树脂层17和反射层18的开口部125向观察侧射出。另一方面，从观察侧入射进来的外光，虽然在镜面反射面18a和散射反射面18b的每一者处都进行反射，但是，其中在散射反射面18b处，则边使外光散射边进行反射。另外，为了便于说明，在以后的说明中，将包括第1基板16a、树脂层17和反射层18的，具有半透过反射性的电光装置用基板叫做‘半透过反射基板124’。
以上所说明的第2基板16b和第1基板16a，如图13所示，可通过密封材料13粘贴起来。然后，将例如TN(扭曲向列)型等的液晶14封入到被两基板上的结构物和密封材料13围起来的区域内。如果是这样的构成，外光从观察侧向液晶面板2b入射时，外光就借助于半透过反射基板124向观察侧进行散射反射，借助于此就可以实现反射式显示。另一方面，从液晶面板2b的背面侧入射进来的照明装置4的光，则通过树脂层17和反射层18的开口部125向观察侧照射，借助于此，就可以实现透过式显示。
<B-2电光装置的制造方法>
其次，对本实施形态涉及的液晶装置100的制造方法进行说明。以下，重点地对液晶装置100中，特别是半透过反射基板124的制造方法进行说明。另外，至于液晶装置100中半透过反射基板124以外的构成的制造方法，由于与本发明没有直接关系，故决定省略其说明。
图17是显示半透过反射基板124的制造工序的流程图。另外，图18是显示该制造工序中的处理内容的第1基板16a的局部剖面。另外，在图18中，还示出了第1基板16a中与1个点D对应的部分。该制造工序粗略地说，由借助于感光性材料在第1基板16a上形成树脂层17，然后在该树脂层17的表面上形成反射层18的工序构成。详细情况如下。
首先，在清洗过第1基板16a后，进行干燥(图17，工序P51)。其次，如图18A所示，向第1基板16a中将成为观察侧的面上，例如借助于旋转涂敷法等，涂敷作为感光性材料的一种的正型的感光性树脂17’(图17的工序P52)。作为该感光性树脂17’，例如PC405G(JSR株式会社制造)等是合适的。然后，在减压环境下使已涂敷到第1基板16a上的感光性树脂17’干燥(图17的工序P53)。接着，在100～105℃的范围内使干燥后的感光性树脂17’进行预坚膜(图17的工序P54)。
其次，用掩模使预坚膜后的感光性树脂17’曝光(图17的工序P55)。在这里，图19示出了在曝光中使用的掩模145的图案。如该图所示，掩模45，是在玻璃等的具有光透光性的基板146上使在图中用斜线表示的Cr等的遮光层147构图后的掩模。在掩模145中，与液晶面板2b中的每一个点D相对应地矩阵状地设置有同一图案。因此，以下，将着眼于掩模145中与1个点D对应的区域进行说明。
如图19的放大图所示，在掩模145中与1个点D对应的区域内，含有用来形成树脂层17的2种透光部(未设置遮光层147的部分)。即，是已设置在中央上的大体上长方形的开口用透光部146a，和要设置在其周边上的多个凹凸用透光部146b。其中开口用透光部146a，用来形成树脂层17的开口部125，是用来向预坚膜后的感光性树脂17’中与开口部125对应的部分照射光的透光性区域。另外，感光性树脂17’由于是正型的，故照射光后，该部分就可以在后述的显影工序中溶解于显影液内而被除去。
另一方面，多个凹凸用透光部14 6b中的每一者，都是用来形成树脂层17的凹凸面17c的微小的透光区域，被设置为使得在距开口用透光部146a的缘端离开距离‘d22’以上的区域中进行分散。换句话说，在掩模145中，以距开口用透光部146a的缘端恰好离开距离‘d22’的外侧的边界线145a为边界，在被边界线145a围起来的区域内，除去开口用透光部146a之外的区域，完全被遮光起来。该完全被遮光的区域145b，是为了确保树脂层17的平坦面17d而设置的，之后为方便起见，决定叫做‘平坦面形成用区域’。
当用这样的掩模145进行曝光时，如图18B所示，透过了掩模145的各个凹凸用透光部146b后的光，在其强度上产生了斑点的状态下，到达各个树脂层17’的上面中与树脂层17的凹凸面17c对应的区域。借助于此，在感光性树脂17’中，一直到图中用点画线表示的那样的平滑的凹凸面为止光都产生作用。另外，由凹凸用透光部146b的透过光形成的强度斑点，可以通过调整掩模145和感光性树脂17’之间的间隙或凹凸用透光部146b的形状(大小)，或者其个数等进行控制。
另一方面，透过了开口用透光部146a后的光，到达感光性树脂17’中与开口部125对应的部分，该光一直到感光性树脂17’的最下部为止光都产生作用。在这里，在掩模145上设置有平坦面形成用区域145b。因此，透过了开口用透光部146a后的光，和透过了凹凸用透光部146b后的光，将彼此互不相干地一直到达感光性树脂17’，光不会向感光性树脂17’中与树脂层17的平坦面17a对应的部分上照射。借助于此，在感光性树脂17’中，就可以曝光为使得由开口用透光部146a产生的透过光起作用的部分和不起作用的部分之间的边界面132f大体上变为平坦。
当在使用以上那样的掩模145的曝光处理后，对感光性树脂17’施行显影处理时(图17的工序P56)，就可以形成图18C所示那样的感光性树脂17’。具体地说，除去开口部125之外，还要形成包括具有平坦性的平坦面17d’，和具有凹凸的凹凸面17c’的感光性树脂17’。在这里，在曝光工序中使用的掩模145上，设置有用来形成平坦面17d’的平坦面形成用区域145b。因此，在显影后的感光性树脂17’中，凹凸面17c’被配置为使得与要形成开口部125的侧壁面17e’离开，侧壁面17e’具有平坦性。
倘采用如上所述的本实施形态，由于已曝光为使得感光性树脂17’中的开口部125的侧壁面17e’变成为大体上平坦，故与现有技术比较起来，不会产生在显影时侧壁面17e’的一部分剥离的问题。因此，就可以提高半透过反射基板124的品质，因而可以提高液晶装置100的品质。
在这里，对于在感光性树脂17’(树脂层17)中，到底应使凹凸面17c’距侧壁面17e’离开多远进行说明。虽然从确保侧壁面17e’的平坦性的观点考虑，侧壁面17e’与凹凸面17c’间的距离d21，优选离开得远一点，但是反之，从确保反射层18的散射反射特性的观点看，优选离开得近一点。据本发明人说，已经确认只要距离d21大体上在‘4微米’或其以上，就可以充分地确保侧壁面17e’的平坦性，进而，只要距离d21在大体上‘12微米’或其以下，已经确认就可以充分地确保反射层18的散射反射性。因此，从确保反射层18的散射反射性和侧壁面17e’的平坦性这两方的观点来说，距离d21优选在大体上的‘4～12微米’的范围内。另外，距离d21可以通过调整掩模145(参看图19)中的开口用透光部146a的边缘到边界线145a为止的距离d22可进行变更。
这样一来，当感光性树脂17’的显影工序结束后，接着，就要向感光性树脂17’照射UV。在本实施形态中使用的感光性树脂17’(PC405G)带有黄色，通过照射UV，就可以除去黄色，并提高光透过性。这种情况，如果假定树脂层17已被着色，在半透过反射基板124中的外光反射时，由于在反射光中就会反映该颜色，故目的在于要对之进行改善。另外，该工序是对于在本实施形态中使用的感光性树脂17’的特有的工序，并不是在半透过反射基板124的制造中必须的工序。
然后，例如，在‘220℃’下对感光性树脂17’进行50分钟的后坚膜(图17的工序P57)。借助于此，形成具有开口部125和凹凸面17c的树脂层17。
接着，如图18D所示，在第1基板16a中已形成了树脂层17的面上，通过例如溅射法等，以大体上恒定的厚度，使得将树脂层17被覆起来那样地形成将成为反射层18的Al或A合金(图17的工序P58)。其次，如图18E所示，在铝层中应除去开口部分，形成掩模142。具体地说，用掩模142将与树脂层17的开口部125对应的部分以外的区域被覆起来。然后，当将铝层中未被掩模142被覆起来的部分进行了刻蚀后，除去掩模142之后，如图18F所示，就可以制造具有开口部125、和凹凸状的散射反射面18b的散射反射式的半透过反射基板124。
接着，参看上述图13对在已形成了反射层18的第1基板16a上形成构造物的方法进行说明。当如上所述地形成了反射层18后，接着，例如借助于溅射法，在第1基板16a的反射面侧(观察侧)上形成例如由Cr构成的薄膜。之后，用光刻技术和刻蚀技术使薄膜构图，借助于此将得到网格状的遮光层21。
接着，在第1基板16a的反射层18上，矩阵状地形成红色、绿色和蓝色的滤色片150R、150G和150B中的每一者，作为这些滤色片150R、150G、150B的形成方法，就如在实施形态1中说明的那样，可以以借助于颜料着色后的感光性树脂形成。
接着，将滤色片150R、150G、150B和遮光层21被覆起来那样地形成由ITO构成的薄膜，通过将其构图形成数据线23a。然后，使得将这些数据线23a被覆起来那样地形成取向膜24a，对取向膜24a的表面施行摩擦处理。
以上就是要设置在第1基板16a上的各个构造物的制造方法。将用该方法得到的第1基板16a，和已形成了像素电极23b、扫描线33、TFD31和取向膜24b的第2基板16b，在使彼此的取向膜24b、154相向的状态下，通过密封材料13粘贴在一起。接着，向被两基板16a、16b和密封材料13围起来的空间内注入液晶14，然后，用未画出来的密封材料将已经注入了液晶14的空间密封起来。然后，通过将相位差板26a、26b和偏振板27a、27b粘贴到一体化的第2基板16b和第1基板16a的各自的外侧的面上，完成液晶显示面板。
如上所述，倘采用本实施形态的制造方法，由于在树脂层17(感光性树脂17’)的显影处理时不存在树脂片剥离的可能性，故在显影工序中，就可以消除感光性树脂17’侧壁面17e’的一部分剥离的问题，或一旦剥离下来的树脂片再附着于感光性树脂17’上的问题等的缺憾。其结果是不会以树脂层17的剥离为起因而产生液晶装置100的品质降低或缺憾等。
另外，上述的实施形态说到底也只是一个例子，可以对上述实施形态进行种种的变形。作为变形例，例如可以考虑如下的变形例。
在上述的实施形态中，在树脂层17(反射层18)上形成的开口部125，虽然被形成为位于各个点D的大体上的中央，但是并不限于此。既可以例如，如图20和图21所示，在点D的4个角上，每个角形成开口部125，也可以如图22和图23所示，沿着点D的两侧每侧一列地形成开口部125。即便是像这样地在任何一个位置形成了开口部125的情况下，由于通过曝光为使得沿着开口部125的缘端形成平坦面17d，故树脂层17就可以使得其侧壁面17e变成为大体上平坦那样地不溶化。借助于此，与上述实施形态同样，在显影工序中，就不用担心树脂层17(感光性材料)的剥离。
此外，上述实施形态涉及的半透过反射基板124，虽然示出的是第1基板16a、树脂层17和反射线18的3层结构的基板，但是，本发明并不限于此。例如，图24是显示4层结构的半透过反射基板126的局部剖面图。在该图中，设置在树脂层17和反射层18之间的中间层135，起着吸收树脂层17的凹凸面17c的倾斜变化的作用。通过设置这样的中间层135，在树脂层17的凹凸面17c是陡峻的情况下，就可以边使该凹凸面变成为平缓，边在反射层18的散射反射面18b上反映树脂层17的凹凸形状。借助于此，就可以根据散射特性形成半透过反射基板126的散射反射面的形状。
除此之外，在上述实施形态中，虽然是使用通过曝光将溶解的正型的感光性材料制造了半透过反射基板124，但是也可以使用通过曝光不溶化的负型的感光性材料。图25是使用负型的感光性树脂形成的半透过反射基板128的剖面图。如该图所示，半透过反射基板128，具有第1基板16a、多个树脂层(树脂层)134、中间层136和反射层18。其中，树脂层134中的每一者，都是用负型的感光性树脂形成的层，在基板16a上，被设置为使得在彼此离开的位置上突出出来。中间层136是感光性材料等，在除去开口部125之外的区域上，形成有将第1基板16a和树脂层134被覆起来薄膜。该中间层136的表面，已变成为反映由第1基板16a的面，和树脂层134的表面形成的凹凸的凹凸状，然后再向其上边淀积上反射层18。
在这里，树脂层134中的每一者，在其制造工序中，都被曝光处理为使得在基板16a面中，在开口部125的端部附近不形成。因此，在开口部125，和形成有树脂层134的区域之间，可以说已设置有平坦面120a。在这里假定说不考虑平坦面120a地进行了曝光，则如图26所示，由于树脂层512就会配置为与开口部125的端部邻近，或树脂层512被形成为跨过开口部125的端部，故存在着使中间层514的侧壁面514e的附近和基板16a之间的贴紧性降低的可能性。因此，在中间层514的形成工序中，在目的为去掉开口部125的显影时，就有可能剥离侧壁面514e的一部分。
相对于此，在图25所示的半透过反射基板128中，由于在平坦面120a上未形成树脂层134，故在中间层136的显影时，就不会产生剥离侧壁面136e的一部分这样的缺憾。
此外，在以上的实施形态1和2中，虽然是在使用TFD的液晶装置中适用本发明，但是，本发明在使用TFD以外的2端子开关元件的有源矩阵方式的液晶装置中也可以应用。此外，本发明在使用TFT(薄膜晶体管)等的3端开关元件的有源矩阵方式的液晶装置中也可以应用。此外，本发明在不使用开关元件的单纯矩阵方式的液晶装置中也可以应用。
此外，在上述的实施形态中，作为电光装置，虽然说明的是在液晶装置中使用的情况，但是本发明并不限于此，可以在电致发光装置，特别是在有机电致发光装置、无机电致发光装置等，或等离子体显示装置、FED(场致发光显示)装置、LED(发光二极管)显示装置、电泳显示装置、薄型布劳恩管、使用液晶快门的小型摄像机、使用数字微型反射镜器件(DMD)的装置等的各种电光装置中使用。
C.实施形态3其次，用
本发明的电子设备的实施形态。图27示出了电子设备的一个实施形态的框图。在这里所示的电子设备，具有液晶装置88，和对之进行控制的控制装置80。液晶装置88，具备具有在实施形态1或2中说明的那种构造的液晶面板81，和用半导体IC等构成的驱动电路82。此外，控制装置80具有显示信息输出源83、显示信息处理电路84、电源电路86和定时产生器87。
显示信息输出源83，具有由ROM(只读存储器)或RAM(随机存储器)等构成的存储器、由磁盘或光盘等构成的存储单元以及调谐输出数字图像信号的调谐电路。其构成为根据由定时产生器87所产生的各种时钟信号，以规定格式的图像信号等的形式，向显示信息处理电路84，供给显示信息。
显示信息处理电路84，具有串-并变换电路、放大·倒相电路、旋转电路、伽马修正电路、箝位电路等众所周知的各种电路，执行输入进来的显示信息的处理，与时钟信号一起将该图像信息供往驱动电路82。驱动电路82，包括扫描线驱动电路、数据线驱动电路和检查电路。此外，电源电路86向上述各个构成要素分别供给规定的电压。
图28示出了将本发明应用于作为电子设备的一个例子的移动电话机的情况下的一个实施形态。在这里所示的移动电话机70，具有本体部71，和可以开闭地设置在其上的显示体部72。由具有在实施形态1或2中说明的那样的结构的电光装置构成的显示装置73，被配置在显示体部72的内部，与电话通信有关的各种显示，可借助于显示画面74用显示体部72进行观看。在本体部71的前面上排列设置有操作键76。
从显示体部72的一个端部出没自由地安装有天线77。在受话器78的内部配置有扬声器，在送话器79的内部内置有麦克风。用来控制显示装置73的动作的控制部，作为专司移动电话机的全体的控制的控制部的一部分，或与该控制部分开地收纳在本体部71或显示体部72的内部。
图29示出了将本发明应用于作为电子设备的一个例子的移动信息设备的情况下的实施形态。在这里所示的移动信息设备90，是具备触摸面板的信息设备，作为电光装置，装载有具有在实施形态1或2中说明的那样的结构的液晶装置91。该移动信息设备90，具有用液晶装置91的显示面构成的显示区域V，和位于该显示区域V的下方的第1输入区域WA1。在第1输入区域WA1内配置有输入用薄片92。
液晶装置91具有使长方形形状或正方形形状的液晶面板和同一长方形形状或正方形形状的触摸面板平面性地重叠起来的结构。触摸面板作为输入用面板发挥作用。触摸面板变成为比液晶面板大，且从该液晶面板的一个端部突出出来的形状。
在显示区域V和第1输入区域WA1上，配置有触摸面板，与显示区域V对应的区域，也和第1输入区域WA1同样，作为可进行输入操作的第2输入区域WA2发挥作用。触摸面板，具有位于液晶面板一侧的第2面和与之目向的第1面，在相当于第1面的的第1输入区域WA1的位置上粘贴有输入用薄片92。
在输入用薄片92上印刷有用来识别标记(icon)93和手写文字识别区域WA3的画框。在第1输入区域WA1中，通过输入用薄片92用手指或笔等的输入手段给触摸面板的第1面加上荷重，就可以进行标记93的选择或文字识别区域WA3中的文字输入等的数据输入。
另一方面，在第2输入区域WA2中，除去可以观察液晶面板的像之外，还可以使液晶面板显示例如输入模式画面，通过用手指或笔给触摸面板的第1面加上荷重，就可以指定该输入模式画面内的适宜的位置，借助于此，就可以进行数据输入等。
(其它的实施形态)以上虽然以优选实施形态为例对本发明进行了说明，但是本发明并不限定于这些实施形态，在权利要求的范围内记述的发明的范围内可进行种种的改变。
例如，作为本发明的电子设备，除去以上所说明的移动电话机或移动信息设备之外，还可以用做计算机、投影仪、液晶电视、数字静物照相机、手表、车载设备、复印机、音响设备以及其它的各种电子设备的显示部分。
权利要求
1.一种具有在表面上具有凹凸部分的基底层，和在上述基底层的上边设置的具有光反射性的反射层的电光装置用基板的制造方法，其特征在于具有下述工序涂布工序，向基板上涂布感光性材料；曝光工序，在上述感光性材料的表面上，进行上述感光性材料的曝光，以便使得处于封闭区域内的，而且，处于在以不与该封闭区域的轮廓线交叉的方式分散设置在该封闭区域内的多个孤立图案的外侧的区域变成为曝光部分或非曝光部分的一方，其它的区域变成为曝光部分或非曝光部分的另一方；显影工序，通过将借助于上述曝光工序被曝光后的感光性材料进行显影来形成上述基底层；反射层形成工序，在上述基底层的上边形成具有光反射性的反射层。
2.根据权利要求1所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于上述封闭区域是被包围该封闭区域的第1轮廓线和处于该第1轮廓线的内侧的第2轮廓线挟持起来的封闭区域。
3.根据权利要求2所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于在上述曝光工序中，被曝光为使得上述多个孤立图案的每一者与上述第2轮廓线之间的距离的最小值在4微米或其以上。
4.根据权利要求3所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于在上述曝光工序中，被曝光为使得上述多个孤立图案的每一者与上述第2轮廓线之间的距离的最小值在12微米或其以下。
5.根据权利要求2所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于还具有凹凸吸收层形成工序，该工序在上述基底层的上边，形成吸收在该基底层的表面上形成的凹凸形状的一部分的凹凸吸收层，上述反射层，在上述凹凸吸收层形成工序中形成的凹凸吸收层的上边形成。
6.根据权利要求3所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于还具有凹凸吸收层形成工序，该工序在上述基底层的上边，形成吸收在该基底层的表面上形成的凹凸形状的一部分的凹凸吸收层，上述反射层，在上述凹凸吸收层形成工序中形成的凹凸吸收层的上边形成。
7.根据权利要求4所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于还具有凹凸吸收层形成工序，该工序在上述基底层的上边，形成吸收在该基底层的表面上形成的凹凸形状的一部分的凹凸吸收层，上述反射层，在上述凹凸吸收层形成工序中形成的凹凸吸收层的上边形成。
8.根据权利要求1所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于在上述曝光工序中，上述多个孤立图案的每一者与包围上述封闭区域的轮廓线之间的距离的最小值，处于预先决定好的范围内。
9.根据权利要求8所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于上述预先决定好的范围是4微米～1 2微米。
10.根据权利要求8所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于上述预先决定好的范围是4微米～7微米。
11.根据权利要求1所述的电光装置用基板的制造方法，其特征在于在上述显影工序中，向上述基底层上喷淋状地供给显影液。
12.一种电光装置的制造方法，其特征在于包括权利要求1所述的电光装置用基板的制造方法。
13.一种电光装置用基板，其特征在于具有基板；基底层，在上述基板上形成，在表面上具有多个凹部或凸部；反射层，在上述基底层的上边形成，具有光反射性，上述多个凹部或凸部，被形成为不与上述基底层的端缘交叉。
14.根据权利要求13所述的电光装置用基板，其特征在于上述基底层，还具有成为用来使光透过的透过部的开口部，上述多个凹部或凸部，被形成为不与上述开口部的端缘交叉，上述反射层，设置在上述基底层的表面上的上述开口部以外的部分上。
15.根据权利要求13所述的电光装置用基板，其特征在于上述基底层的缘端，与在其内部包括全部上述多个凹部或凸部的包络线之间的距离，处于预先决定好的范围内。
16.根据权利要求15所述的电光装置用基板，其特征在于上述预先决定好的范围是4微米～12微米。
17.一种电光装置，其特征在于具有权利要求13所述的电光装置用基板；与上述电光装置用基板相向的相向基板；设置在上述电光装置用基板和上述相向基板之间的电光物质。
18.根据权利要求17所述的电光装置，其特征在于，具有设置在上述电光装置用基板上的第1电极，设置在上述相向基板上的第2电极，上述电光物质是液晶，该液晶被设置在上述第1电极和上述第2电极之间。
19.一种电子设备，其特征在于将权利要求17所述的电光装置用作显示部。
20.一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与上述凸部对应的凸部用图案，与上述凹部对应的凹部用图案，上述基底层的缘端与上述凸部用图案的缘端对应，上述凹部用图案不与该缘端交叉。
21.一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与上述凸部对应的凸部用图案，与上述凹部对应的凹部用图案，上述凸部用图案，被形成为其缘端位于上述凹部用图案的外侧。
22.一种用来在基板上形成在表面上具有凹部和凸部的基底层的掩模，其特征在于，具有与上述凸部对应的凸部用图案，与上述凹部对应的凹部用图案，上述凸部用图案，具有将上述凹部用图案围起来的框状的区域。
23.根据权利要求20所述的掩模，其特征在于上述凸部用图案的缘端，位于距上述凹部用图案的最外侧的图案的外周4～7微米的外侧。
24.根据权利要求21所述的掩模，其特征在于上述凸部用图案的缘端，位于距上述凹部用图案的最外侧的图案的外周4～7微米的外侧。
25.根据权利要求22所述的掩模，其特征在于上述凸部用图案的缘端，位于距上述凹部用图案的最外侧的图案的外周4～7微米的外侧。
全文摘要
本发明提供一种电光装置用基板，其特征在于，具有基板；在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层；在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层，多个凹部或凸部，被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板，由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开，故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此，在感光性材料的显影处理时，就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。
文档编号G02F1/1335GK1506758SQ20031012133
公开日2004年6月23日 申请日期2003年12月11日 优先权日2002年12月12日
发明者大竹俊裕, 水田诚, 松尾睦 申请人:精工爱普生株式会社