专利名称：抗静电制品、其制备方法以及具有其的显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及具有包含阳离子聚合物的抗静电层的抗静电制品。
背景技术：
用于显示装置的制品如光学制品必须符合严格的性能标准，包括高的透光率、清晰度和超净外观。诸如粒子、不平坦表面形貌和不均衡接触度(有时称为“打湿(wet-out)”)的缺陷对光学性能是有害的。这些缺陷可能部分地由制造、转换加工或组装过程中所引入的静电荷所致。
例如，在加工过程中条带(例如遮蔽胶带)或者其他膜被快速拉离或剥离目标基材/膜就会产生静电荷。这些静电荷随后会吸引可能接近膜表面的尘粒或其他碎屑。视膜的原始用途而定，最终降落或粘合在膜上的粒子会导致不期望的挡光、折光或吸光问题。不平坦表面形貌可由膜的不均匀收缩、扭曲或伸展所致，特别是当膜的某个区域被夹住或机械地固定就位、而膜的另一部分发生运动或蠕动时。但是，另一原因可能是，静电荷可产生被夹紧的或静止的区域，造成膜层之间的粘合，最终导致不均匀或不同步的膜变化。当在两个区域之间存在光透射差异时，或者当观察到诸如“牛顿环”的干涉图样时，会出现被称为“打湿”现象的光学缺陷。(当“打湿”现象在整个膜产品上均匀分布时，这个缺陷不太可检测到)。静电荷会促成两个层叠膜之间的特定区域的不均匀吸引，造成“打湿”。
因此，需要可用来在多种基材上形成抗静电层的抗静电组合物，使得所得的抗静电制品适用于光学应用。
发明内容
本文公开了包括设置在基材上的抗静电层的制品。在一个方面，所述制品包括基材和设置在该基材上的抗静电层，所述抗静电层包含阳离子共聚物、非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物和交联剂。阳离子共聚物基本上由下列组成i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和iii)约2至约25重量％的具有下式的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂。
在另一方面，阳离子共聚物基本上由下列组成i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂。
本文公开的制品可用于多种构造(construction)，特别是适合光学应用的那些构造。在一些实施例中，基材包括反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。抗静电层还可作为这些光学膜之一的内层或外层结合于其中。在一个实施例中，制品包括设置在抗静电层上的微结构化层，其中所述微结构化层包括具有多个微结构的结构化表面，所述结构化表面包括制品的外表面。在另一个实施例中，制品包括A)偏振膜；B)设置在偏振膜上的抗静电层；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到抗静电层的粘合剂层。在另一个实施例中，制品包括A)偏振膜；B)设置在偏振膜上的抗静电层；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到偏振膜的粘合剂层。
在另一方面，本文公开了制备所述制品的方法。所述方法包括将本文公开的抗静电组合物涂覆在基材上，从而形成经涂覆的基材，任选地然后在至少一个方向上拉伸经涂覆的基材。在又一方面，本文公开了包括所述制品的显示装置。显示装置包括显示面板、一个或多个光源和所述制品。
在又一方面，本文公开了阳离子共聚物，其基本上由下列组成i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团。
本发明的这些方面和其他方面在以下“具体实施方式
”中描述。上述发明内容不应理解为是对要求保护的主题的限制，该主题仅受本文所示出的权利要求的限定。
具体实施例方式 本发明提供许多优点。一个优点是，抗静电层可用来赋予制品抗静电特性，使得该制品不需要有电路(例如电线)连接到其一个或多个表面就能抗静电。这种抗静电制品显示出足够的抗静电特性，以使粘合于制品表面的尘埃、污垢和其他粒子减至最低。抗静电层甚至可用来赋予用于液晶背光件的光学膜足够的抗静电特性。在所述液晶背光件中，从光学膜除去保护膜会产生大量的静电荷和最高达20kV的电势。一般来讲，抗静电制品可显示高的电阻率数值，例如大于约1×108欧姆/平方或大于约1×1010，而又维持有效的抗静电特性。本文公开的抗静电制品当在约40％的相对湿度下测量时，可具有小于约1×1013欧姆/平方、或1×1012欧姆/平方、优选地小于1×1010欧姆/平方的表面电阻率。即使层厚度小于1μm，也能实现这个抗静电性能。
另一个优点是，抗静电层可用来提供能显示快速的电荷衰减时间的抗静电制品，所述电荷衰减时间是静电荷在给定的电压范围(例如5000V至小于500V)内衰减到其初始值的10％所需的时间量。本文公开的抗静电制品当在约40％的相对湿度下测量时，可显示小于约20秒、小于约10秒、小于约5秒、小于约2秒、小于约0.1秒、或甚至小于0.01秒的电荷衰减时间。在一些情况中，当在约20％的相对湿度下测量时，可观察到这些电荷衰减时间。
为清楚起见，要指出的是尽管术语“导电性的(conductive)”在行业中常用来指“静电损耗性的(static dissipative)”，即“抗静电的(antistatic)”，但本文所用的术语“导电性的”和“抗静电的”并非意图是同义词。具体地讲，认为导电性材料涂层具有最高达1×105欧姆/平方的表面电阻率，而抗静电材料涂层通常具有最高达1×1012欧姆/平方的表面电阻率。这些术语通常用来描述在其暴露表面上具有导电性或抗静电组分或物质的材料。(相比之下，可通过将抗静电层“埋置”在不具有抗静电特性的层之间使制品可抗静电，尽管该制品会显示更高水平的表面电阻率。)此外，即使在这些高表面电阻率数值下，制品也可维持静电衰减时间。
另一个优点是，抗静电层可起到有利于典型聚合物基材和另一聚合物层之间的粘合的底漆层的作用。特别有利的是，抗静电层能很好地粘合到光学基材如透光基材，甚至是如下所述的多层光学膜。还特别有利的是，抗静电层能很好地粘合到从如下所述的辐射固化材料形成的、适用于光学应用的层。还特别有利的是，抗静电层能很好地粘合到粘合剂层。
又一个优点是，在合适的基材上形成抗静电层以提供抗静电制品后，所述制品然后可在一个或两个维度上进行拉幅或拉伸，以使基材定向。这个拉幅前抗静电处理从加工观点来看是合乎需要的，因为它使得不需要单独的涂覆步骤。相反，许多用来赋予抗静电特性的已知材料(包括聚合物和粒子)是不容易拉幅的，所述拉幅可包括高温和2∶1、4.5∶1或甚至6∶1或更高的拉伸比。至少，许多已知的材料在拉伸后失去表面电阻特性。本文公开的抗静电层可进行拉伸，同时仍保持表面电阻特性。
又一优点是，抗静电层可设计成显示期望的光学特性，如雾度和透光率。例如，当在合适的基材上形成抗静电层时，抗静电制品可显示极小的雾度，如小于约20％。这用已知的抗静电组合物通常是难以达到的，因为在一些情况中，只有用厚厚几层才能达到足够的抗静电性能，而这会导致不期望的雾度水平。不期望的雾度的另一个来源是表面粗糙，这可由与干燥有关的现象如斑驳和去湿所引起。当使用水基涂层制剂时，这个问题会特别严重，因为在干燥过程中会产生表面张力梯度。如果需要，当在合适的基材上形成抗静电层时，抗静电制品可显示极大的透光率，如大于90％。一般来讲，抗静电层适宜为无色的。通过具有这些特性，抗静电制品适用于其中可对光进行管理、增强、操纵、控制、维持、传输、反射、折射、吸收等的光学应用中。下文对光学应用有更详细描述。
另一个优点是，本发明涂层在低至20％的相对湿度下仍有足够的抗静电性能，且材料能承受最高达约260℃的热处理。此外，即使在抗静电层覆盖上随后固化的可辐射固化的组合物后，抗静电性能也能得到保持。这通常是一个难以解决的问题，因为可辐射固化的组合物往往是100％单体，因此会具有攻击性而导致抗静电涂层的分解。
另一个优点是，用来形成抗静电层的组分在待涂覆的制剂中和在已干燥的层中都是相容的。这不是随便能做到的，因为阳离子共聚物和往往具有阴离子分散体组件(anionic dispersion package)的粘结剂材料之间不容易相容。这种组合往往会发生沉淀或胶凝。出乎意料的是，已发现采用阳离子聚合物、粘结剂和交联剂的特定组合可获得前述优点。
抗静电层包含阳离子共聚物。一般来讲，可用的阳离子共聚物是可通过(甲基)丙烯基单体或乙烯基单体的自由基聚合制备的那些阳离子共聚物。本文所用的“(甲基)丙烯基”是用来指丙烯基基团和甲基丙烯基基团，包括诸如(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酰胺等化合物。可用的阳离子共聚物具有大于约10,000的数均分子量，较低的分子量比较高的分子量更理想。可用的阳离子共聚物在US 2007/0082196A1(Ali等人)中有所描述。
在一个实施例中，阳离子共聚物基本上由阳离子单体、疏水单体和可交联单体组成。阳离子单体具有下式 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6。例如，阳离子单体可包括2-丙烯酰氧基乙基三烷基铵阳离子和某种阴离子，优选是2-丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵或2-丙烯酰氧基乙基丁基二甲基溴化铵。相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言，阳离子单体占约20至小于70重量％，或者约30至约65重量％。阳离子单体可掺入到阳离子共聚物中以赋予抗静电特性。因此，所用的阳离子单体的具体量可取决于期望的共聚物抗静电特性，并还取决于多种其他因素，包括与用来形成抗静电层的组合物中的其他单体和其他组分以及形成后的抗静电层的相容性。
疏水单体包括具有含1-12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体。疏水单体可以是直链的、支链的或环状的，且可任选被诸如芳族基团、杂原子(如O)和含杂原子的基团(如-CO-)取代。疏水单体还可不含活性氢，如OH、NH和SH氢。示例性的疏水单体包括丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯或(甲基)丙烯酸异冰片酯。相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言，疏水单体占约10至小于75重量％，或者约25至约50重量％。所用的疏水单体的具体量可取决于期望的共聚物特性，如与用来形成抗静电层的组合物中的其他单体和其他组分以及形成后的抗静电层的相容性。
可交联单体包括(甲基)丙烯酸或具有下式的单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子。抗衡离子可选自碱金属；铵；和带有含1-4个碳原子的烷基或杂原子取代烷基的取代的单烷基铵、二烷基铵和三烷基铵。L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团。可用作L的二价连接基团包括具有2至6个碳原子的亚烷基。示例性的可交联单体包括(甲基)丙烯酸羟乙酯、N-(羟甲基)(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸-2-羧乙酯。据认为可交联单体与也存在于抗静电组合物中的交联剂反应。因此，具体使用的可交联单体可取决于交联剂的反应性。相对于构成阳离子共聚物的单体的总重量而言，可交联单体以约2至约25重量％，或者约5至约10重量％的量存在。所用的可交联单体的具体量可取决于期望的共聚物特性，如与用来形成抗静电层的组合物中的其他单体和其他组分以及形成后的抗静电层的相容性。
阳离子共聚物可基本上由阳离子单体、疏水单体和可交联单体的特定组合所组成。阳离子共聚物的可用实例包括下表1中列出的那些。在一个实施例中，阳离子共聚物基本上由丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；包括丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸异冰片酯或它们的组合的疏水单体；和(甲基)丙烯酸羟乙酯所成的共聚物所组成。在另一个实施例中，阳离子共聚物基本上由下列的共聚物所组成丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；包括(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯或它们的组合的疏水单体；和包括(甲基)丙烯酸羟乙酯的可交联单体。
在另一个实施例中，阳离子共聚物基本上由阳离子单体、疏水单体、含氮单体和可交联单体的共聚物所组成。在这个情况中，阳离子单体可包括任何上述的阳离子单体，只是当它与含氮单体一起使用时，它相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言占约20至约50重量％。疏水单体可包括任何上述的疏水单体，且相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言为约10至小于75重量％，或约20至约35重量％。可交联单体可包括任何上述的可交联单体，且相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言为约2至约25重量％，或约5至约10重量％。
含氮单体包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合。相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言，含氮单体占约0.5至约55重量％，或约5至约35重量％，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量相对于用来形成阳离子共聚物的单体的总重量而言小于约70重量％。所用的含氮单体的具体量可取决于期望的共聚物特性，如与用来形成抗静电层的组合物中的其他单体和其他组分以及形成后的抗静电层的相容性。
阳离子共聚物可基本上由阳离子单体、疏水单体、含氮单体和可交联单体的特定组合所组成。这些阳离子共聚物的可用实例包括下表2中列出的那些。在一个实施例中，阳离子共聚物基本上由丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；包括丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯或它们的组合的疏水单体；N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸二甲氨基乙酯或它们的组合；和(甲基)丙烯酸羟乙酯所成的共聚物所组成。在另一个实施例中，阳离子共聚物基本上由下列的共聚物所组成丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；包括丙烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异冰片酯或它们的组合的疏水单体；N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸二甲氨基乙酯或它们的组合；和(甲基)丙烯酸羟乙酯。在另一个实施例中，阳离子共聚物基本上由下列的共聚物所组成包括丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐的阳离子单体；包括(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯或它们的组合的疏水单体；N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸二甲氨基乙酯或它们的组合；和包括(甲基)丙烯酸羟乙酯的可交联单体。
在制备阳离子共聚物时，典型的过程会包括将每种单体连同引发剂和溶剂加料到反应容器中。合适的引发剂包括2，2’-偶氮双(2-甲基丁腈)，或者任何由DuPont Chemicals以VAZO产品出售的引发剂，或者任何由Ciba Specialty Chemicals以IRGACURE产品出售的引发剂。通常每100份单体混合物使用约0.1至1份引发剂。可用的溶剂将包括各种醇(包括但不限于甲醇、乙醇、异丙醇)、乙酸乙酯、甲基乙基酮、水和它们的组合。将该体系混合一段时间以让反应进行。
阳离子共聚物占抗静电层的约25至约70重量％，或者约33至约60重量％。在大多数情况中，理想的是使阳离子共聚物的量减至最低，以使成本和对制品性能的任何不利影响减至最低。例如，如果制品是需要为无色的光学制品，并且阳离子共聚物能够赋予光学制品颜色，则阳离子共聚物的量应最小化至光学制品能保持无色的程度。对于另一个实例，如果抗静电层设置在基材和某个另一层之间，则所用的阳离子共聚物的量不应干扰基材和该另一层之间的粘合。ASTM D 3359是公知的用来测量两个层之间的粘合力的方法。
所用的具体阳离子共聚物和量要取决于多种因素，包括抗静电层中存在的其他组分、具体的基材、期望的抗静电性能等。一种选择阳离子共聚物的方式是将它的溶液或分散液涂覆到基材上，然后测量表面电阻率。理想的是，当在约40％的相对湿度下测量时，单独阳离子聚合物赋予的表面电阻率小于约1×1010欧姆/平方。
抗静电层还包括主要起到粘结剂和/或底漆的作用的非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物。这个材料可称为乳胶、分散液或乳液聚合物。非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物包括(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸核/壳共聚物。可用的(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物包括被用于RHOPLEX 3208和RHOPLEX3208ER(Rohm and Haas Co.)中的那些。可用的丙烯酸核/壳共聚物包括核/壳胶乳，其基于丙烯酸异冰片酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯共聚合，用WO 96/16120(Rao等人)的实例1中描述的方法制备。其他可用的粘结剂聚合物体系是例如US 6,893,731(Kausch)的实例29中描述的那些。粘结剂聚合物还可包含具有可交联官能团如-OH和-CO2H的单体。所用的具体粘结剂和量可取决于多种因素，包括与用来形成抗静电层的抗静电组合物中的其他组分以及形成后的抗静电层的相容性。一般来讲，抗静电层包含约10至约50重量％的非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物。
抗静电层还包括选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂。这些交联剂能与粘结剂和/或阳离子共聚物中由交联单体所赋予的交联侧基反应。将交联剂选择成能赋予抗静电层完整性和任何其他期望的特性。可用的交联剂包括CYMEL 323、325、327、350和373(CibaSpecialty Chemicals)；CX-100(DSM Neoresins)；和XAMA-7(HoechstCelanese)。所用的具体交联剂和量取决于多种因素，如与在所述层涂覆和/或固化之前或之后在所述层中的其他组分的相容性、期望的所述层厚度、聚合条件、成本等。因此，交联剂可占抗静电层的约5至约35重量％。
在抗静电层中所用的材料的相对量将取决于所用的具体材料，以及所述层的厚度和制品的预定用途。在一个实施例中，抗静电层包含约25至约70重量％的阳离子共聚物；约10至约50重量％的非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和约5至约35重量％的交联剂。
抗静电层还可包含至少一种催化剂或者热活化和/或光活化的潜在催化剂，以促进固化和交联。依据在涂覆中所采用的交联化学的类型，催化物质可以是酸性的或碱性的。可用的酸性催化剂和潜在酸性催化剂的实例，特别是可用于基于三聚氰胺-甲醛的可交联体系的催化剂，包括对甲苯磺酸及其衍生物，如CYCAT 4040和4045(Ciba Specialty Chemicals)。其他可用催化剂的实例包括无机酸如盐酸、磷酸和硝酸、它们的胺盐，以及羧酸和它们的胺盐。催化剂还可以是聚合物物质，如聚乙烯亚胺及其盐或者聚丙烯酸及其铵盐。可用的光活化酸性催化剂的实例包括强酸(如三氟甲磺酸)的碘鎓盐和锍盐。一般来讲，所用的催化剂或催化剂前体的量小于总涂覆固形物的约5重量％。
抗静电层和/或用来施加它的涂层制剂还可含有其他类型的添加剂。优选地，这种材料应与涂层和涂层制剂的主要组分相容，且不应不利影响光学制品的性能属性。这些材料包括涂层助剂如表面活性剂和聚结溶剂；消泡剂；例如作为增滑剂使用的颗粒；抗氧化剂；和pH控制剂如缓冲剂或三烷基胺。对于包含三聚氰胺-甲醛交联剂的涂层制剂，使用挥发性相对较高的三烷基胺如三乙胺和二甲基乙醇胺作为pH稳定剂是特别优选的，因为pH偏移到酸性范围会造成不期望的贮存期缩短和过早胶凝。
抗静电层可具有任何合适的厚度，前提条件是它能赋予制品期望的抗静电特性。一般来讲，约25至约400nm、优选约50至约250nm的厚度是可用的。抗静电层应足够厚以赋予期望的特性，但不能厚得会减损制品的性能。
本文还公开了制备抗静电制品的方法。所述方法包括将上述的抗静电组合物涂覆到基材上，从而形成经涂覆的基材。通常，将抗静电组合物中的组分溶解、分散或悬浮于适合于涂覆步骤的溶剂中。具体使用的溶剂取决于具体的组分、成分的期望浓度、期望的层厚度和性质、所采用的涂覆方法等。合适的溶剂包括水。通常，相对于总组合物的重量而言，用来形成抗静电层的组合物包含最多约50重量％固形物。
抗静电组合物可用多种涂覆技术来涂覆，如点涂、辊涂、模涂、刮涂、空气刮涂、槽涂、滑涂、绕线棒涂和帘涂。有关涂覆技术的全面讨论可见于Cohen，E.和Gutoff，E.Modern Coating and DryingTechnology；VCH PublishersNew York，1992；第122页；和Tricot，Y-M.SurfactantsStatic and Dynamic Surface Tension.载于LiquidFilm Coating；Kistler，S.F.和Schweizer，P.M.编辑；Chapman&HallLondon，1997；第99页。
抗静电组合物可用热或紫外辐射或任何其他合适的固化技术进行固化。有关自由基固化技术的更多细节可见于例如U.S.4,654,233、4,855,184和6,224,949中。一种优选的固化方法是使用膜拉幅工艺的潜热来使抗静电涂层热活化和交联。
基材可包括多种材料中的任何一种，所述材料包括聚酯如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、基于萘二羧酸的共聚酯或聚酯共混物；聚碳酸酯；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯腈；乙酸纤维素；聚醚砜；聚(甲基)丙烯酸酯如聚甲基丙烯酸甲酯；聚氨酯；聚氯乙烯；聚环烯烃；聚酰亚胺；玻璃；纸；或者它们的组合或共混物。具体的实例包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯和三乙酸纤维素。优选的实例包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酸纤维素、聚丙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、聚酰胺或者它们的共混物。优选地，基材能充分地耐温度和耐老化，使得抗静电制品的性能不随时间推移而削弱。基材的厚度通常小于约2.5mm。基材还可以是可定向的膜，如涂覆后再在拉幅操作中进行定向的浇铸料片基材。
基材可包括透光基材，使得抗静电制品适用于光学应用。可用的透光基材是光学上透明的，被设计来控制光的流动，可具有大于约90％的透光率。基材可显示极小的雾度，雾度值小于约5％，例如小于2％，或者小于1％。当选择合适的基材时要考虑的特性包括机械特性如柔韧性、尺寸稳定性、自支承性和抗冲击性。例如，基材可需要在结构上足够强，使得抗静电制品可作为显示装置的一部分进行组装。
基材可包括用于很多种应用(如图形艺术应用和光学应用)的光学膜。可用的光学膜可描述为反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。光学膜可包括具有十层或更少的层、具有几百个层、或者甚至具有几千个层的多层光学膜，所述层由全双折射光学层、一定程度双折射光学层或者全各向同性光学层的某种组合构成。在一个实施例中，基材可以是具有第一光学层和第二光学层的交替层的多层光学膜，其中所述第一光学层和第二光学层在至少一个轴线上具有相差至少0.04的折射率。具有不匹配的折射率的多层光学膜在下文引述的参考文献中有描述。在另一个实施例中，基材可包括一层或多层的任何上述光学膜，使得抗静电层埋置在它们中的任何一个之中，从而使制品本身成为反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。
可用的基材包括以VikuitiTM双亮度增强膜(DBEF)、VikuitiTM亮度增强膜(BEF)、VikuitiTM漫反射偏振膜(DRPF)、VikuitiTM高反射率反射片(ESR)和VikuitiTM高级偏振膜(APF)销售的市售光学膜(均获自3M公司)。可用的光学膜在以下专利中也有描述U.S.5,825,543、5,828,488(Ouderkirk等人)、5,867,316、5,882,774、6,179,948B1(Merrill等人)、6,352,761B1、6,368,699B1、6,927,900B2、6,827,886(Neavin等人)、6,972,813B1(Toyooka)、6,991,695、2006/0084780A1(Hebrink等人)、2006/0216524A1、2006/0226561A1(Merrill等人)、2007/0047080A1(Stover等人)；WO 95/17303、WO 95/17691、WO95/17692、WO 95/17699、WO 96/19347、WO 97/01440、WO 99/36248和WO99/36262；这些专利都以引用方式并入本文中。这些光学膜仅仅是示例性的，并不意在作为可使用的合适光学膜的详尽列表。在这些实施例中的一些中，本发明的抗静电底漆涂层可以是多层膜构造中的内层。
在合适的基材上形成抗静电层后，接着将经涂覆的基材在一个或两个维度上进行拉幅或拉伸，以使基材定向。将膜特别是聚酯膜进行定向的方法描述于The Encyclopedia of Polymer Science and Engineering(第2版)的第12卷第193至216页。制作双轴取向的聚酯膜的典型方法包括以下四个主要步骤(1)熔融挤出聚酯树脂并将它骤冷以形成幅材，(2)在纵向方向或机器方向拉伸该幅材，(3)随后或者同时在横向方向拉伸该幅材以产生膜；和(4)将该膜进行热定型。如果需要双轴取向，可在基材已在机器方向上拉伸之后但在随后在横向方向上拉伸之前，将抗静电组合物涂覆到基材上。有关聚合物膜的取向的更多讨论可见于WO 2006/130142和前面引述的关于光学膜的参考文献中。
上述的制品可用来制备多种其他的适用于光学应用(如显示装置)的制品。在一个实施例中，抗静电层设置在作为偏振膜的基材上。在另一个实施例中，适用于光学应用的制品包括A)偏振膜；B)设置在该偏振膜上的抗静电层，所述抗静电层包含a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和iii)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到抗静电层的粘合剂层。也就是说，在这个实施例中，制品包括四个层，其中抗静电层设置在偏振膜上，粘合剂层设置在抗静电层上背对偏振膜，而光学膜设置在粘合剂层上背对抗静电层。
在另一个实施例中，适用于光学应用的制品包括A)偏振膜；B)设置在该偏振膜上的抗静电层，所述抗静电层包含a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和iii)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到偏振膜的粘合剂层。也就是说，在这个实施例中，制品包括四个层，其中抗静电层设置在偏振膜上，粘合剂层设置在偏振膜上背对抗静电层，而光学膜设置在粘合剂层上背对偏振膜。
在又一个实施例中，适用于光学应用的制品包括A)偏振膜；B)设置在基材上的抗静电层，所述抗静电层包含a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到抗静电层的粘合剂层。也就是说，在这个实施例中，制品包括四个层，其中抗静电层设置在偏振膜上，粘合剂层设置在抗静电层上背对偏振膜，而光学膜设置在粘合剂层上背对抗静电层。
在另一个实施例中，适用于光学应用的制品包括A)偏振膜；B)设置在基材上的抗静电层，所述抗静电层包含a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体 CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X 其中Z为O、S或NH；R1为H或CH3；R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且n＝2至6；和ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体 CH2＝CR3Y 其中R3为H或CH3；并且Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；C)光学膜；和D)将光学膜粘合到偏振膜的粘合剂层。也就是说，在这个实施例中，制品包括四个层，其中抗静电层设置在偏振膜上，粘合剂层设置在偏振膜上背对抗静电层，而光学膜设置在粘合剂层上背对偏振膜。
任何类型的偏振膜都可用来制备适用于光学应用的制品，只要观察到穿过该膜的光线发生一定的偏振即可。实例包括单层和多层光学膜，如反射偏振膜或漫射混合反射式偏振膜以及任何前述的获自3M公司的VikuitiTM膜。
光学膜可包括透光聚合物膜，实例包括聚酯，如聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯；乙酸纤维素，包括醋酸-丁酸纤维素、醋酸-丙酸纤维素或三乙酸纤维素；聚碳酸酯；聚丙烯酸酯，如聚甲基丙烯酸酯；聚烯烃，如聚乙烯、聚丙烯和环状烯烃；聚氯乙烯；聚醚砜；聚氨酯；间规聚苯乙烯；聚酰亚胺；聚酰胺；或者它们的共聚物和共混物。实例还包括单层和多层膜以及任何前述的获自3M公司的VikuitiTM膜。光学膜可包括上文对基材所描述的那些膜中的任何一种；例如，光学膜可包括棱镜膜、漫射膜、光波导或它们的组合。
粘合剂层将偏振膜和光学膜粘结在一起。用来形成粘合剂层的优选粘结剂包括光学级粘合剂，其对最终制品起初或老化一段时间后的光学性能的影响极少或没有影响。例如，理想的是粘合剂足够稳定，使得它随时间推移或在暴露于严酷操作条件下不会发黄。依据具体的应用，将粘合剂选择成能在偏振膜和光学膜之间提供最小的粘合强度或者一系列的粘合强度。一种合适的评估粘合强度的方法在ASTM D 3359中描述，它采用的是用3M公司的3MTM 610玻璃纸带进行的交叉排线带拉拔试验(crosshatchtape pull test)。一般来讲，粘合力改进是合乎需要的，层发生层离是不合需要的。
在一个实施例中，粘合剂层包含可紫外固化的粘合剂，该粘合剂包含至少一种含氮聚合物和至少一种可聚合的多烯键式不饱和稀释剂，如Doan等人的US 2006/0029784A1(以引用方式并入本文)中所描述。其他示例性的粘合剂在U.S.2003/0012936A1中描述。也可使用市售的粘合剂，如获自3M公司的商品名称为8141、8142和8161的粘合剂，和获自Toagosei公司的商品名称为UVX-2884和UVX-1962的粘合剂。粘合剂层还可包含氢化嵌段共聚物，如可得自Kraton Polymers公司的KRATON共聚物，例如KRATON G-1657。其他示例性粘合剂包括丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、有机硅类粘合剂和环氧类粘合剂。可使用多种已知的涂覆技术(例如转移涂覆法、刮涂法、旋涂法、模涂法等)来涂覆粘合剂。
其他适用于光学应用的制品包括增亮膜。在一个实施例中，微结构化层设置在抗静电层上背对基材，其中该微结构化层包括具有多个微结构的结构化表面，而该结构化表面包括制品的外表面。微结构化层可包括在其外表面上的多个微结构，使得增亮膜能够导光。增亮膜的实例包括可得自3M公司的VikuitiTMBEF系列的棱镜膜。
所述多个微结构可包括棱镜的阵列；一系列的形状，包括脊、柱、棱锥、半球和圆锥；和/或它们可以是具有平坦部分、尖角部分、截角部分或圆角部分的突起或凹陷；它们中的任何一种都可相对于表面平面具有倾斜侧面或垂直侧面。任何透镜状微结构都可使用，例如微结构化的表面可包括立体角元件，每个元件具有三个基本上互相垂直的、通常在单一基准点或顶点相交的光学面。微结构化的表面可以具有规则的重复图案、无规则的、或者它们的组合。一般来讲，每个微结构具有至少两个小于2mm的侧向维度(即在膜的平面中的维度)。微结构化层的厚度可为约10至约200μm。
微结构化层可用可聚合组合物、具有负微结构化成型表面的母板和抗静电制品制备。可将可聚合组合物沉积在母板和抗静电制品的抗静电层之间，移动组合物珠粒使得该组合物填充母板的微结构。可聚合组合物发生聚合以形成层，然后脱离母板。母板可以是金属的，如镍、镀镍铜或黄铜，或者可以是在聚合条件下稳定且优选具有能让聚合而成的层干净利落地脱离母板的表面能的热塑性材料。母板在US 4,542,449、U.S.5,771,328和US 6,354,709中有进一步的描述。或者，可制备出预成形的微结构化层并将其层合到抗静电制品，使得抗静电层设置在微结构化层和基材之间。
制品可用于图形艺术应用，例如用于背后照明的招牌、广告牌等。制品还可用于至少包括一个或多个光源及显示面板的显示装置。显示面板可以是任何能够产生图像、图形、文本等的类型，且可以是单色或多色的或者透射或反射的。实例包括液晶显示面板、等离子显示面板或触摸屏。光源可包括荧光灯、磷光灯、发光二极管或它们的组合。显示装置的实例包括电视机、监测器、膝上型计算机和诸如手机、PDA、计算器之类的手持装置等。
由以下实例可更完全地理解本发明。
实例 材料 除另有指明的外，所有化学药品均获自商业渠道并直接使用。2-丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵获自Ciba Specialty Chemicals，为80重量％水溶液。所有其他的丙烯酸单体和硝酸锂获自Aldrich Chemical公司。TOMADOL 25-9获自Tomah Reserve，Inc。CYCAT 4040和4045、CYMEL 327和373以及CYASTAT 609获自Cytec Industries Inc.。5密耳厚的单面涂底漆PET膜以MELINIX 618获自杜邦公司。对甲苯磺酸三乙铵是通过用三乙胺中和对甲苯磺酸的水溶液来制备(三乙胺和对甲苯磺酸均获自Aldrich Chemical公司)。双(三氟甲磺酰)亚胺锂以3M FLUORAD LithiumHQ-115获自3M公司。甲磺酸锂、对甲苯磺酸锂和聚苯乙烯磺酸锂是通过用氢氧化锂水溶液中和获自Aldrich Chemical公司的相应磺酸来制备。
粘结剂1包含RHOPLEX 3208或3208ER丙烯酸类树脂水性分散液，它们获自Rohm and Haas公司。这些分散液包含约34-35重量％的丙烯酸类树脂粘结剂和约8-9重量％的甲醛-三聚氰胺交联剂。对于下面的表中描述的层组合物，对粘结剂1给出的数量仅是针对丙烯酸类树脂粘结剂；甲醛-三聚氰胺交联剂包括在交联剂量中。粘结剂2是基于丙烯酸异冰片酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯共聚的核/壳乳胶，是用WO 96/16120(Rao等人)的实例1中描述的方法制备。
表1和2中所示的阳离子聚合物是按照以下一般程序制备。在清洁的反应容器中装入100份的所需单体混合物、获自杜邦公司的VAZO-67引发剂(以单体浓度计为0.5份)和异丙醇(200份)。用氮气吹洗所得溶液2分钟。将容器密封，在恒温旋转装置中65℃下维持18小时，期间形成粘稠的聚合物溶液。将聚合物容器从恒温浴取出，冷却至室温。分析固形物百分数以确定反应是否完成，该分析揭示了向聚合物的定量转化。对于许多共聚物而言，通过旋转蒸发除去溶剂，并加入去离子水以将固形物含量调整到大约33重量％。
使用了以下缩写 AA 丙烯酸 AETMAC 2-丙烯酰氧基乙基三甲基氯化铵 AEBDMAB2-丙烯酰氧基乙基丁基二甲基溴化铵 AEHDMAB2-丙烯酰氧基乙基己基二甲基溴化铵 BA 丙烯酸丁酯 DMAEA 丙烯酸二甲氨基乙酯 EA 丙烯酸乙酯 HEA丙烯酸2-羟乙酯 HEMA 2-甲基丙烯酸羟乙酯 IBOA 丙烯酸异冰片酯 IBOMA 基丙烯酸异冰片酯 IOA丙烯酸异辛酯 MMA甲基丙烯酸甲酯 NVPN-乙烯基吡咯烷酮 PEA丙烯酸苯氧基乙酯 表1 1.HEA代替HEMA 2.AA代替HEMA 3.AEBDMAB代替AETMAC 4.AEHDMAB代替AETMAC 表2 1.HEA代替HEMA 2.DMAEA代替NVP 涂覆方法A 用#6绕线棒将以下描述的制剂以41.3厘米/秒(81.3英尺/分钟)的速度涂覆在刚挤出并进行了长度定向后的PET膜上。将聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(Invista)挤出到浇注轮上，然后以3.34∶1的拉伸比进行长度定向。涂覆后，膜进入设定在54℃的干燥炉。在干燥炉中的停留时间为22秒。膜从干燥炉进入拉幅机，该拉幅机分为三个区-预热区、拉伸区和热定型区。这三个区的温度和停留时间分别为预热93℃，12秒；拉伸104℃，18秒；热定型232℃，15秒。在拉伸区中的横向拉伸比为4.37∶1，产生出51μm(2密耳)的最终PET膜厚度。
涂覆方法B 用#6绕线棒将以下描述的制剂以60厘米/秒(118英尺/分钟)的速度涂覆在刚挤出的PET膜上。将聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂(Invista)挤出到浇注轮上，然后以3.33∶1的拉伸比进行长度定向。涂覆后，膜直接进入拉幅机，该拉幅机分为三个区-预热区、拉伸区和热定型区。这三个区的温度和停留时间分别为预热96℃，8秒；拉伸96℃，13秒；热定型232℃，11秒。在拉伸区中的横向拉伸比为3.62∶1，产生出51μm(2密耳)的最终PET膜厚度。
涂覆方法C 用#6绕线棒将以下描述的制剂以20厘米/秒(38.8英尺/分钟)的速度涂覆在包括刚挤出的多层光学膜的基材上。该多层光学膜是按照U.S.6,179,948B1(Merrill等人)、6,827,886(Neavin等人)、2006/0084780A1(Hebrink等人)、2006/0226561A1(Merrill等人)和2007/0047080A1(Stover等人)中描述的方法制备。该多层光学膜包括由SA115聚碳酸酯树脂和PETg 6763树脂(均得自Eastman Chemical)的85∶15(w/w)共混物组成的表层。光学堆栈(optical stack)含有交替的双折射层和各向同性层，所述双折射层由PEN树脂PET树脂的90∶10(w/w)共混物制成，所述各向同性层由PETg 6763树脂和PEN树脂PET树脂的70∶30(w/w)共混物制成。涂覆后，膜立即进入拉幅机，该拉幅机分为三个区-预热区、拉伸区和热定型区。这三个区的温度和停留时间分别为预热139℃，25秒；拉伸139℃，49秒；热定型170℃，21秒。在拉伸区中的横向拉伸比为7.24∶1，产生出43μm(1.7密耳)的最终基材厚度。
辐射固化层的形成 在如方法A、B和C所述的热定型后，用如US 2006/0004166A1(Olsen等人)中所述的可辐射固化的组合物覆盖样品，所述组合物含有包含主要部分的2-丙烯酸、(1-甲基亚乙基)双[(2，6-二溴-4，1-亚苯基)氧基(2-羟基-3，1-丙二)]酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯的第一单体。树脂还含有0.35重量％DAROCUR 1173和0.1重量％TPO作为光引发剂。然后用以下程序将这个组合物进行涂覆和固化 1)将树脂在60℃下加热1小时，直到液化。
2)将未图案化的平坦不锈钢工具在烘板上100℃下加热。在一些实例中(如所述的)，用如US 5,771,328中所述制备的微结构化工具代替未图案化的工具。
3)将PL1200层合机(Professional Laminating Systems，Inc.)加热到约70℃，并将速度设定到5.1毫米/秒(12英寸/分钟)(设定#2)。
4)向该工具施加一珠粒线的(a bead line of)可辐射固化的树脂。
5)使用手压滚筒，将PET膜的经涂覆一侧轻轻压向该工具并滚动，以粘住就位。
6)将工具+膜样品夹在两张更大片的未涂底漆PET膜之间，以保护层合机滚筒。
7)使样品运行通过层合机。这产生出25μm(1密耳)的总树脂膜厚度。
8)使样品通过紫外处理器(紫外融合光锤，装备有D灯泡，在氮气吹洗下，以100％功率和10厘米/秒(20英尺/分钟)线速度操作)两次。
9)将膜样品轻轻从工具剥下来。
测试方法 用两种不同的设备测量表面电阻率。一种设备得自Prostat Corp.的
PRS-801Resistance System Set，其装备有PRF-911同心环夹具。按照随该设备提供的资料，将测量值乘以10，将以欧姆为单位的表面电阻率换算成欧姆/平方。另一种设备是得自Electro-Tech Systems，Inc.的880型自动测程电阻指示器(Atoranging Resistance Indicator)，其以十进位输出数值。在所有情况中，在施加和固化可辐射固化的树脂之前，对样品进行表面电阻率测量。除非另有规定，否则表面电阻率测量是在30-40％相对湿度(RH)的实验室环境湿度下进行。
用得自Electro-Tech Systems，Inc的406C型静电衰减测量计测量静电荷衰减时间。这个仪器将样品充电到5kV，然后测量静电荷衰减至其初始值的10％所需的时间。一些绝缘样品不会完全充电到5kV，这在数据表格中以代号“WNC”标出。静电荷衰减测量是在施加和固化可辐射固化的树脂后在样品上进行。除非另有规定，否则静电荷衰减测量是在30-40％相对湿度(RH)的实验室环境湿度下进行。
用得自美国BYK-Gardner公司的
Plus雾度计进行雾度测量。雾度在施加和固化可辐射固化的树脂之前测量。
粘合力按照ASTM D 3359测量，这是用3M公司的3MTM610玻璃纸带进行的交叉排线带拉拔试验。以0-5的等级进行评级，5为最佳粘合，0为完全分层。有时，在试图移去金属工具时样品发生分层，导致固化的树脂层保留在工具上而不是经涂覆的膜上。显示这种行为的样品被评为0*。
实例1至4和比较例1至3(C1至C3) 用#3绕线棒将含有4重量％阳离子聚合物(于去离子水中)的涂层制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中100℃下干燥3分钟。在所得的涂层上测量表面电阻率，结果在表3中显示。
表3 实例5和6及比较例4至6(C4-C6) 制备了一系列的涂层制剂，它们含有4重量％粘结剂1(从44重量％固形物的原料稀释而成)、0.1重量％TERGITOL TMN-6和0-4重量％P1。在涂层制剂中所用的P1的量是实例5为4.0重量％，实例6为2.0重量％，C4为1.0重量％，C5为0.4重量％。接着用#6绕线棒将涂层制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中150℃下干燥15分钟。测量所得的涂层上的表面电阻率；层组合物和结果在表4中显示。
表4 实例7至15及比较例7和8(C7至C8) 用阳离子聚合物制备含水涂层制剂，所述制剂含有5.0重量％阳离子聚合物、5.0重量％RHOPLEX 3208固形物、2.5重量％CYMEL 327、0.1重量％TOMADOL 25-9和0.03重量％CYCAT 4045固形物。实例7、10和12的制剂按照涂覆方法A进行涂覆和干燥，以得到含有40重量％阳离子共聚物、32重量％丙烯酸粘结剂和28重量％交联树脂的涂层。实例8、9、11、13-15、C7和C8的制剂按照涂覆方法B进行涂覆和干燥，以得到含有40重量％阳离子共聚物、32重量％丙烯酸粘结剂和28重量％交联树脂的涂层。测量了雾度和表面电阻率后，用可辐射固化的组合物覆盖样品，然后用上述程序进行固化，不同的是使用如U.S.5,771,328中所述制备的微结构化工具。然后测量电荷衰减和树脂粘合力；结果在表5中显示。
表5 1.未测量 2.在20％RH下测量 实例16至29和比较例9至11(C9至C11) 用阳离子聚合物P3、粘结剂1和粘结剂2制备表6中所述的含水涂层制剂。在一些实例中，向制剂加入另外的交联剂0.4重量％CYMEL 327和0.4重量％CYMEL 373(总共0.8重量％)。每个实例还含有0.1重量％TERGITOL TMN-6和0.04重量％对甲苯磺酸三乙铵。用#6绕线棒将制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中150℃下干燥15分钟。测量了表面电阻率后，用可辐射固化的组合物覆盖样品，然后将该组合物固化。然后测量电荷衰减和树脂粘合力；层组合物和结果在表7中显示。
表6 表7 1.还含有5重量％LiNO3 2.还含有10重量％LiNO3 实例30至41和比较例12至15(C12至C15) 用阳离子聚合物P4和P5、粘结剂1和粘结剂2制备表8中所述的含水涂层制剂。在一些实例中，向制剂加入另外的交联剂0.4重量％CYMEL327和0.4重量％CYMEL 373(总共0.8重量％)。每个实例还含有0.1重量％TERGITOL TMN-6和0.04重量％对甲苯磺酸三乙铵。用#6绕线棒将制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中150℃下干燥15分钟。测量了表面电阻率后，用可辐射固化的组合物覆盖样品，然后将该组合物固化。然后测量电荷衰减和树脂粘合力；层组合物和结果在表9中显示。
表8 表9 1.未测量 实例42至66和比较例16至32(C16至C32) 用阳离子聚合物制备含水涂层制剂，所述制剂含有5.0重量％阳离子聚合物、5.0重量％RHOPLEX 3208固形物、2.5重量％CYMEL 327、0.1重量％TOMADOL 25-9和0.03重量％CYCAT 4045固形物。实例42-53、C16-C20和C28的制剂按照涂覆方法A进行涂覆和干燥，以得到含有40重量％阳离子共聚物、32重量％丙烯酸粘结剂和28重量％交联树脂的涂层。实例54-66、C21-C27、C29-C32的制剂按照涂覆方法B进行涂覆和干燥，以得到含有40重量％阳离子共聚物、32重量％丙烯酸粘结剂和28重量％交联树脂的涂层。测量了雾度和表面电阻率后，用可辐射固化的组合物覆盖样品，然后用上述程序进行固化，不同的是使用如U.S.5,771,328中所述制备的微结构化工具。测量电荷衰减和树脂粘合力；结果在表10中显示。
表10 1.HEA代替HEMA 2.未测量 3.不会充电 4.在20％RH下测量 实例67至72 用阳离子聚合物制备含水涂层制剂，所述制剂含有5.0重量％阳离子聚合物、5.0重量％RHOPLEX 3208固形物、2.5重量％CYMEL 327、0.1重量％TOMADOL 25-9和0.03重量％CYCAT 4045固形物。制剂按照涂覆方法C进行涂覆和干燥，以得到含有40重量％阳离子共聚物、32重量％丙烯酸粘结剂和28重量％交联树脂的涂层。测量了雾度后，用可辐射固化的组合物覆盖样品，该组合物与上述的组合物相同，例外的是它含有1.0重量％DAROCUR 1173和0.5重量％TPO。然后用上述程序使可辐射固化的组合物固化，例外的是使用如U.S.5,771,328中所述制备的微结构化工具。测量电荷衰减和树脂粘合力；结果在表11中显示。
表11 比较例33至38(C33至C38) 评估了以下的锂化合物 Li1＝双(三氟甲磺酰)亚胺锂 Li2＝聚苯乙烯磺酸锂 Li3＝对甲苯磺酸锂 Li4＝甲磺酸锂 Li5＝N，N-双(2-羟乙基)-N-(3’-十二烷氧基-2’-羟丙基)甲基甲磺酸铵(CYASTAT 609) 用锂化合物和粘结剂1制备表12中所示的含水涂层制剂。用#6绕线棒将制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中100℃或150℃下干燥3分钟。测量所得的涂层的表面电阻率，结果在表12中显示。测量了表面电阻率后，用可辐射固化的组合物覆盖C33，然后将该组合物固化。测定树脂粘合力。
表12 1.还含有0.1重量％TERGITOL TMN6；在100℃下干燥。
2.未测量 3.还含有0.1重量％TOMADOL T25-9和0.06重量％CYCAT 4040；在150℃下干燥。
实例73和74以及比较例39(C39) 用#3绕线棒将含有4重量％阳离子聚合物(于去离子水中)的涂层制剂涂覆在未涂底漆的5密耳PET膜上。然后将经涂覆的膜在强迫通风炉中100℃下干燥3分钟。测量所得的涂层的表面电阻率，结果在表13中显示。
表13
权利要求
1.一种制品，包括
A)基材；和
B)设置在所述基材上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和
iii)约2至约25重量％的具有下式的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂。
2.根据权利要求1所述的制品，
所述阳离子单体包括丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；
所述疏水单体包括(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯或它们的组合；并且
所述可交联单体包括(甲基)丙烯酸羟乙酯。
3.根据权利要求1所述的制品，所述非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物包括(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸核/壳共聚物。
4.根据权利要求1所述的制品，所述抗静电层包含
约25至约70重量％的所述阳离子共聚物；
约10至约50重量％的所述非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
约5至约35重量％的所述交联剂。
5.根据权利要求1所述的制品，所述抗静电层具有约50至约400nm的厚度。
6.根据权利要求1所述的光学制品，在40％相对湿度下具有小于约10秒的电荷衰减时间。
7.根据权利要求1所述的光学制品，在20％相对湿度下具有小于约10秒的电荷衰减时间。
8.根据权利要求1所述的光学制品，具有小于约20％的雾度值。
9.根据权利要求1所述的制品，所述基材包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酸纤维素、聚丙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、聚酰胺或者它们的共混物。
10.根据权利要求1所述的制品，所述基材包括反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。
11.根据权利要求1所述的制品，所述基材包括具有第一光学层和第二光学层的交替层的多层光学膜，其中所述第一光学层和第二光学层在至少一个轴线上具有相差至少0.04的折射率。
12.根据权利要求1所述的制品，还包括设置在所述抗静电层上的微结构化层，其中所述微结构化层包括具有多个微结构的结构化表面，所述结构化表面包括所述制品的外表面。
13.根据权利要求1所述的制品，其中所述制品是反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。
14.一种制品，包括
A)偏振膜；
B)设置在所述偏振膜上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和
iii)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
C)光学膜；和
D)将所述光学膜粘合到所述抗静电层的粘合剂层。
15.根据权利要求14所述的制品，所述光学膜包括棱镜膜、漫射膜、光波导或它们的组合。
16.一种制品，包括
A)偏振膜；
B)设置在所述偏振膜上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和
iii)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
C)光学膜；和
D)将所述光学膜粘合到所述偏振膜的粘合剂层。
17.根据权利要求16所述的制品，所述光学膜包括棱镜膜、漫射膜、光波导或它们的组合。
18.一种制备制品的方法，包括
A)将抗静电组合物涂覆在基材上，从而形成经涂覆的基材，所述抗静电组合物包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至小于70重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；和
iii)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
B)任选地在至少一个方向上拉伸所述经涂覆的基材。
19.一种显示装置，包括
显示面板，
一个或多个光源，和
根据权利要求1所述的制品。
20.一种制品，包括
A)基材；和
B)设置在所述基材上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；
iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和
iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂。
21.根据权利要求20所述的制品，
所述阳离子单体包括丙烯酸二甲氨基乙酯的烷基盐；
所述疏水单体包括(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯或它们的组合；并且
所述可交联单体包括(甲基)丙烯酸羟乙酯。
22.根据权利要求20所述的制品，所述非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物包括(甲基)丙烯酸烷基酯共聚物或丙烯酸核/壳共聚物。
23.根据权利要求20所述的制品，所述抗静电层包含
约25至约70重量％的所述阳离子共聚物；
约10至约50重量％的所述非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
约5至约35重量％的所述交联剂。
24.根据权利要求20所述的制品，所述抗静电层具有约50至约400nm的厚度。
25.根据权利要求20所述的光学制品，在40％相对湿度下具有小于约10秒的电荷衰减时间。
26.根据权利要求20所述的光学制品，在20％相对湿度下具有小于约10秒的电荷衰减时间。
27.根据权利要求20所述的光学制品，具有小于约20％的雾度值。
28.根据权利要求20所述的制品，所述基材包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酸纤维素、聚丙烯、聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、聚酰胺或者它们的共混物。
29.根据权利要求20所述的制品，所述基材包括反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。
30.根据权利要求20所述的制品，所述基材包括具有第一光学层和第二光学层的交替层的多层光学膜，其中所述第一光学层和第二光学层在至少一个轴线上具有相差至少0.04的折射率。
31.根据权利要求20所述的制品，还包括设置在所述抗静电层上的微结构化层，其中所述微结构化层包括具有多个微结构的结构化表面，所述结构化表面包括所述制品的外表面。
32.根据权利要求20所述的制品，其中所述制品是反射膜、偏振膜、反射偏振膜、漫射混合反射式偏振膜、漫射膜、增亮膜、转向膜、镜膜或它们的组合。
33.一种制品，包括
A)偏振膜；
B)设置在所述基材上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；
iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和
iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
C)光学膜；和
D)将所述光学膜粘合到所述抗静电层的粘合剂层。
34.根据权利要求33所述的制品，所述光学膜包括棱镜膜、漫射膜、光波导或它们的组合。
35.一种制品，包括
A)偏振膜；
B)设置在所述基材上的抗静电层，所述抗静电层包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；
iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和
iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
C)光学膜；和
D)将所述光学膜粘合到所述偏振膜的粘合剂层。
36.根据权利要求35所述的制品，所述光学膜包括棱镜膜、漫射膜、光波导或它们的组合。
37.一种制备制品的方法，包括
A)将抗静电组合物涂覆在基材上，从而形成经涂覆的基材，所述抗静电组合物包含
a)基本上由下列物质构成的阳离子共聚物
i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；和
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；
iii)约0.5至约55重量％的包括N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸-N，N-二甲氨基乙酯或它们的组合的含氮单体，前提条件是阳离子单体和含氮单体的量小于约70重量％；和
iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团；
b)非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物；和
c)选自三聚氰胺-甲醛交联剂、脲-甲醛交联剂、甘脲-甲醛交联剂、氮丙啶交联剂、碳二亚胺交联剂、异氰酸酯交联剂和环氧交联剂的交联剂；
B)任选地在至少一个方向上拉伸所述经涂覆的基材。
38.一种显示装置，包括
显示面板，
一个或多个光源，和
根据权利要求20所述的制品。
39.一种阳离子共聚物，基本上由下列物质构成
i)约20至约50重量％的具有下式的阳离子单体
CH2＝CR1COZ(CH2)nN(R2)3X
其中
Z为O、S或NH；
R1为H或CH3；
R2独立地包括具有1-4个碳原子的烷基；
X为选自卤素、硝酸根、烷基硫酸根、烷基磺酸根和卤代烷基磺酸根的阴离子；并且
n＝2至6；
ii)约10至约75重量％的疏水单体，所述疏水单体包括具有含1至12个碳原子的烃基的(甲基)丙烯酸脂族烷基酯单体；
iii)约0.5至约55重量％的N-乙烯基吡咯烷酮，前提条件是阳离子单体和N-乙烯基吡咯烷酮的量小于约70重量％；和
iv)约2至约25重量％的包括具有下式的(甲基)丙烯酸或单体的可交联单体
CH2＝CR3Y
其中
R3为H或CH3；并且
Y选自CO2M、L-CO2M、L-OH和CONH2，其中M为H或抗衡离子，L为包括亚烷基、亚芳基、杂亚烷基、醚、羰基、酯、酰氨基或亚磺酰氨基官能度、或者它们的组合的二价连接基团。
全文摘要
本文公开了具有设置在基材上的抗静电层的抗静电制品。所述抗静电层由阳离子共聚物、非阳离子(甲基)丙烯酸聚合物和交联剂形成。所述阳离子共聚物基本上由阳离子单体、疏水单体、可交联单体和任选的含氮单体组成。所述基材可包括光学膜10，如多层光学膜。还公开了制备所述抗静电制品和具有所述抗静电制品的显示装置的方法。
文档编号G02B1/10GK101809110SQ200880108316
公开日2010年8月18日 申请日期2008年7月9日 优先权日2007年7月23日
发明者马克·J·佩莱里蒂, 马福萨·B·阿里, 艾琳·M·豪斯, 格雷戈里·F·金, 詹姆斯·E·洛克里奇, 汉·K·洛伊, 杰弗里·A·彼得森 申请人:3M创新有限公司