感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以及等离子显示屏用基 ...的制作方法
【专利说明】感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制 造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法
[0001] 本发明是申请号为2007800054777(国际申请号为PCT/JP2007/053045)、申请日 为2007年2月20日、发明名称为"感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的 制造方法以及等离子显示屏用基板的制造方法"的发明申请的分案申请。
技术领域
[0002] 本发明涉及感光性树脂组合物、抗蚀图案的形成方法、印刷电路板的制造方法以 及等离子显示屏用基板的制造方法。
【背景技术】
[0003] 在印刷电路板的制造中进行蚀刻或镀覆等时，使用抗蚀图案作为掩模，作为用于 形成所述抗蚀图案的抗蚀材料，使用感光性树脂组合物。感光性树脂组合物以将由感光性 树脂组合物构成的层（以下，称为"感光层"）形成于支撑膜上的感光性元件的方式被广泛 应用。
[0004] 以往，在使用感光性元件的印刷电路板的制造中，在镀铜膜层叠板等电路形成用 基板上，边加热边压焊感光性元件，使得感光层密合于电路形成用基板上，隔着掩模薄膜等 对感光层进行图案曝光。曝光后，通过使未曝光部溶解或分散于显影液来将其除去，从而形 成抗蚀图案。通过将形成的抗蚀图案用作掩模进行蚀刻或镀覆来形成导体图案。形成导体 图案后，通常，抗蚀图案最终是被除去的。
[0005] 通过蚀刻形成导体图案时，例如，利用蚀刻除去未被抗蚀图案披覆部分的铜箔，然 后，剥离抗蚀图案。通过镀覆形成导体图案时，例如，在未被抗蚀图案披覆部分的铜箔上，通 过镀覆形成铜、焊锡等层，然后，除去抗蚀图案，通过蚀刻除去被抗蚀图案披覆部分的铜箔。
[0006] 可是，在平板显示器（以下，称为"FPD"）领域中，与液晶屏相比，由于可以高速显 示，并且容易实现大型化，所以等离子显示屏（以下，称为"PDP"）渗透进OA设备、广告显示 装置等领域中。进而，在高品位电视领域等中，非常期待PDP的进展。伴随着这样的用途扩 大，具有微细且多个显示单元的彩色PDP受到了关注。
[0007] PDP是，通过在形成于玻璃基板与背面玻璃基板之间的放电空间内，在电极间生成 等离子放电，将由封入在放电空间内的气体产生的紫外线照射于放电空间内的荧光体，从 而进行显示。为了将放电广度抑制在一定区域的同时，又可确保均匀的放电空间，而通过隔 壁（以下，称为"阻隔壁（rib)"）来隔开放电空间。阻隔壁具有大致宽20~80 μπκ高度 60~200 μ m的形状。
[0008] 作为形成这种阻隔壁的方法，已知有喷砂法、丝网印刷法、感光性糊剂法、光铸法、 模转印法等。此外，在 SID(Society for Information Display)中，由 Photonics Systems 公司、杜邦公司、LG麦可龙公司提倡的湿式蚀刻工艺作为新方法受到了关注。在这些阻隔 壁的形成中，大部分的时候，采取对感光性树脂组合物进行图案曝光的工序。
[0009] 关于图案曝光，有人提出了这样的技术：使用滤光器将由水银灯光源发出的光之 中波长365nm以下的光过滤99. 5%以上，将由此得到的活性光线用于图案曝光。另外，近 年，由于激发出波长405nm的光的、长寿命且高输出的氮化镓系蓝色激光光源变得能够廉 价地购入，因此有人提出了将其也用作图案曝光的光源的技术。
[0010] 图案曝光在以往通常是以水银灯用作光源，隔着光掩模来进行，但近年，有人提出 了 DLP (Digital Light Processing :数字光处理）曝光法这种直接描绘法（例如，参照非专 利文献1)。该曝光法中，有时也利用使用滤光器将由水银灯光源发出的光之中波长365nm 以下的光过滤掉99. 5%以上的活性光线、或蓝色激光光源。
[0011] 非专利文献1 :工U外口二夕只実装技術（电子学安装技术）2002年6月号、 P. 74 ~79
【发明内容】
[0012] 发明要解决的问题
[0013] 要想提高生产的生产能力，适宜缩短曝光时间。为此，就要求感光性树脂组合物具 有高的感光度。特别是直接描绘法由于与以往的使用光掩模的图案曝光相比，难以确保高 的照度，因此，具有需要更长曝光时间的倾向。
[0014] 通过适当地组合光引发剂与增感剂，也可以实现感光性树脂组合物的高感光度。 但是，此时，分辨率降低，或者形成的抗蚀图案的形状紊乱，而倾向于难以形成抗蚀图案的 截面形状整齐的矩形。因此，以往的感光性树脂组合物的场合中，不能同时获得高感光度与 高分辨率以及形状良好的抗蚀图案。
[0015] 因此，本发明的目的是提供一种具有高感光度、并可以形成高分辨率且形状良好 的抗蚀图案的感光性树脂组合物。
[0016] 解决问题的方法
[0017] 本发明人等为了解决上述课题，着眼于粘合剂聚合物与光聚合性化合物的组成进 行了潜心研宄，结果发现，通过使用具有特定范围的重均分子量的粘合剂聚合物，再对其组 合特定组成的光聚合性化合物，就可以得到具有高感光度、并可以形成高分辨率且形状良 好的抗蚀图案的感光性树脂组合物，从而完成了本发明。
[0018] 即，本发明提供一种感光性树脂聚合物，其特征在于，含有㈧重均分子量为 35000~65000的粘合剂聚合物、（B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及（C)光 聚合引发剂，（B)成分含有（BI)具有一个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、（B2)具有两 个乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、以及（B3)具有三个以上乙烯性不饱和键的光聚合 性化合物，（B3)成分相对于（B)成分全体的比率为15~30质量％。
[0019] (B2)成分相对于（B)成分总量的比率优选为40~70质量％。（B2)成分的比率 不在这个范围内时，具有提高分辨率的效果降低的倾向。
[0020] (BI)成分相对于⑶成分总量的比率优选为15~30质量％。（BI)成分的比率 不在这个范围内时，具有容易产生显影残渣、提高分辨率的效果降低的倾向。
[0021] (C)成分优选包含2, 4, 5-三芳基咪唑二聚物。这样，可以进一步改善感光性树脂 组合物的密合性和感光度。
[0022] 上述感光性树脂组合物优选进一步含有作为（D)成分的增感色素。这样，可以进 一步提高感光性树脂组合物的感光度。
[0023] 在本发明涉及的抗蚀图案的形成方法中，向由上述感光性树脂组合物构成的感光 层照射活性光线后，除去一部分感光层来形成抗蚀图案。
[0024] 本发明涉及的印刷电路板的制造方法，具备：通过上述本发明涉及的抗蚀图案的 形成方法来形成抗蚀图案的工序；将形成的抗蚀图案用作掩模进行蚀刻或镀覆来形成导体 图案的工序。
[0025] 本发明还提供一种等离子显示屏用基板的制造方法，其为具有基板和形成于该基 板上的阻隔壁的等离子显示屏用基板的制造方法，包括：通过上述本发明涉及的抗蚀图案 的形成方法来形成抗蚀图案的工序；将形成的抗蚀图案用作掩模，除去一部分阻隔壁前体 膜使其图案化的工序；由被图案化的阻隔壁前体膜形成阻隔壁的工序。
[0026] 本发明涉及的感光性树脂组合物与用于等离子显示屏的阻隔壁材料的密合性良 好，在等离子显示屏的制造中，可以同时获得高水平的密合性与分辨率。此外，从阻隔壁材 料的剥离性也良好。即，本发明涉及的感光性树脂组合物在用于制造具有阻隔壁的等离子 显示屏用基板时，是非常有用的组合物。
[0027] 发明效果
[0028] 根据本发明，提供一种具有高感光度、同时可形成高分辨率且形状良好的抗蚀图 案的感光性树脂组合物。
[0029] 根据本发明涉及的抗蚀图案的形成方法，可以在短的曝光时间内形成高分辨率且 形状良好的抗蚀图案。
[0030] 根据本发明涉及的印刷电路板的制造方法，可以以高生产能力制造具有高密度图 案化的导体图案的印刷电路板。
[0031] 根据本发明涉及的等离子显示屏用基板的制造方法，可以以高生产能力制造具有 高密度图案化的阻隔壁的等离子显示屏用基板。
【附图说明】
[0032] 图1是表示本发明涉及的抗蚀图案的形成方法的一个实施方式的示意剖视图。
[0033] 图2是表示本发明涉及的印刷电路板的制造方法的一个实施方式的示意剖视图。
[0034] 图3是表示本发明涉及的等离子显示屏用基板的制造方法的一个实施方式的示 意剖视图。
[0035] 符号说明
[0036] 1 :感光层，2 :抗蚀图案；3 :电路形成用基板，5 :表面树脂层，7 :支撑膜，11 :基板， 12 :基板，15 :感光性元件，20 :导体层，25 :导