一种真空镀膜设备的制作方法

本实用新型涉及镀膜技术领域，具体是一种真空镀膜设备。

背景技术：

种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。在进行真空镀膜的过程中，通常将待镀膜的基片放入真空室内，并由安装在基片承载部上的夹具对基片进行夹持，由离子源对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料进行轰击，使镀膜材料溅射并均匀沉积在基片表面，在长期进行镀膜材料的轰击，使设备长时间处于压紧状态，降低设备的使用寿命。

因此，本领域技术人员提供了一种真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种真空镀膜设备，包括底座、真空室和移动装置；所述底座的下侧四个拐角处设有空槽，空槽上设有固定轴，固定轴上设有万向轮，万向轮上设有伸缩臂，伸缩臂远离万向轮的一端与空槽固定连接，伸缩臂的中间设有销轴；

所述底座的上侧设有真空室，真空室的左上侧设有控制面板，控制面板内设有控制器，真空室的上侧设有电机，真空室的内部上侧设有移动装置，且移动装置与电机连接，移动装置上设有丝杆，丝杆的两侧设有固定杆，丝杆和固定杆上设有滑块，滑块上设有移动杆，移动杆的下侧设有转轴，转轴的下侧设有上镀膜锅，上镀膜锅的内部上侧设有卡爪安装盘，卡爪安装盘上设有卡爪；

所述真空室的内部下侧设有缓冲垫，缓冲垫上设有下镀膜锅，下镀膜锅的内部设有离子束发生器，离子束发生器的上侧设有镀膜料放置腔，镀膜料放置腔的上侧设有镀膜喷头，镀膜喷头上设有镀膜喷孔。

作为本实用新型进一步的方案：所述真空室的内壁上设有真空垫。

作为本实用新型再进一步的方案：所述控制器的型号为：VS1024U。

作为本实用新型再进一步的方案：所述上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同。

作为本实用新型再进一步的方案：所述卡爪设置为若干个，且卡爪等距设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本装置适用于多种镀膜场合，打开控制面板上的电源开关按键，设备开始运行，将镀膜料放置在下镀膜锅中的镀膜料放置腔内，将需要镀膜的物件放置在卡爪上，驱动电机使得移动杆上下移动，使得上镀膜锅与下镀膜锅相吻合，移动杆一端的带动卡爪安装盘慢慢的转动，卡爪安装盘从而带动卡爪慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，下镀膜锅中的离子束发生器发射出离子束，使得镀膜料放置腔中的镀膜料通过镀膜喷头上的镀膜喷孔喷出，然后在卡爪上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，移动杆和移动装置上的丝杆进行往复运动，避免装置一直压紧下镀膜锅，从而使得下镀膜锅的压力减小，保护装置的安全性，提高装置的使用寿命，上镀膜锅和下镀膜锅的形状大小相同，从而增加了真空镀膜的效率和质量，使用起来操作方便快捷，实用性很高。

附图说明

图1为一种真空镀膜设备的结构示意图。

图2为一种真空镀膜设备底座收缩的结构示意图。

图3为一种真空镀膜设备下镀膜锅的结构示意图。

图中：1-底座、2-真空室、3-控制面板、4-控制器、5-真空垫、6-移动装置、7-固定杆、8-丝杆、9-滑块、10-电机、11-移动杆、12-转轴、13-卡爪安装盘、14-卡爪、15-上镀膜锅、16-下镀膜锅、17-缓冲垫、18-空槽、19-销轴、20-伸缩臂、21-万向轮、22-固定轴、23-离子束发生器、24-镀膜料放置腔、25-镀膜喷头、26-镀膜喷孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种真空镀膜设备，包括底座1、真空室2和移动装置6；所述底座1的下侧四个拐角处设有空槽18，空槽18上设有固定轴22，固定轴22上设有万向轮21，万向轮21上设有伸缩臂20，伸缩臂20远离万向轮21的一端与空槽18固定连接，伸缩臂20的中间设有销轴19；

所述底座1的上侧设有真空室2，真空室2的左上侧设有控制面板3，控制面板3内设有控制器4，真空室2的上侧设有电机10，真空室2的内部上侧设有移动装置6，且移动装置6与电机10连接，移动装置6上设有丝杆8，丝杆8的两侧设有固定杆7，丝杆8和固定杆7上设有滑块9，滑块9上设有移动杆11，移动杆11的下侧设有转轴12，转轴12的下侧设有上镀膜锅15，上镀膜锅15的内部上侧设有卡爪安装盘13，卡爪安装盘13上设有卡爪14；

所述真空室2的内部下侧设有缓冲垫17，缓冲垫17上设有下镀膜锅16，下镀膜锅16的内部设有离子束发生器23，离子束发生器23的上侧设有镀膜料放置腔24，镀膜料放置腔24的上侧设有镀膜喷头25，镀膜喷头25上设有镀膜喷孔26。

所述真空室2的内壁上设有真空垫5。

所述控制器4的型号为：VS1024U。

所述上镀膜锅15和下镀膜锅16的形状大小相同。

所述卡爪14设置为若干个，且卡爪14等距设置。

本实用新型的工作原理是：

本实用新型涉及一种真空镀膜设备，本装置适用于多种镀膜场合，打开控制面板3上的电源开关按键，设备开始运行，将镀膜料放置在下镀膜锅16中的镀膜料放置腔24内，将需要镀膜的物件放置在卡爪14上，驱动电机10使得移动杆11上下移动，使得上镀膜锅15与下镀膜锅16相吻合，移动杆11一端的12带动卡爪安装盘13慢慢的转动，卡爪安装盘13从而带动卡爪14慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，下镀膜锅16中的离子束发生器23发射出离子束，使得镀膜料放置腔24中的镀膜料通过镀膜喷头25上的镀膜喷孔26喷出，然后在卡爪15上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，移动杆11和移动装置6上的丝杆8进行往复运动，避免装置一直压紧下镀膜锅16，从而使得下镀膜锅16的压力减小，保护装置的安全性，提高装置的使用寿命，上镀膜锅15和下镀膜锅16的形状大小相同，从而增加了真空镀膜的效率和质量，使用起来操作方便快捷，实用性很高。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。