除草化合物的制作方法
【专利摘要】本发明涉及具有化学式（I)的化合物或所述化合物的农学上可接受的盐，其中如在此所定义。本发明进一步涉及包括具有化学式（I)的化合物的除草组合物，并且涉及其用于特别是在有用植物作物中控制杂草的用途。
【专利说明】除草化合物
[0001] 本发明涉及新颖除草化合物、涉及用于制备它们的方法、涉及包括这些新颖衍生 物的除草组合物、并且涉及其用于特别是在有用植物作物中控制杂草或用于抑制植物生长 的用途。
[0002] 除草的N-(四唑-5-基）和N-(三唑-5-基）芳基甲酰胺是从TO 2012/028579 已知的。除草的氧代吡嗪衍生物是从例如WO 2009/016841已知的。除草的氧代吡啶化合 物是从例如WO 2010/089993、WO 2010/116122和WO 2012/045721已知的。本发明涉及另 外的此类化合物的供应。因此，根据本发明，提供了一种具有化学式（I)的化合物：
[0003]
【权利要求】
1. 一种具有化学式（I)的化合物：
或其农学上可接受的盐， 其中：_ X是O或S ; A1是CH或N ; A2 是 N 或 CR3 ; A3 是 N 或 CR4 ; A4 是 N 或 CR5 ; A5是N或CH ; 其中 R1选自下组，该组由以下各项组成：C1-C6烧基、C1-C 6齒代烧基以及C1-C6烧氧基-C1-C3 烧基； R2选自下组，该组由以下各项组成：氢、C1-C6烧基、C1-C 6齒代烧基、C1-C3烧氧基-C1-C3 烧基、C1-C3齒代烧氧基-C1-C3烧基、C 1-C3烧氧基-C1-C3烧氧基-C1-C 3-烧基、C1-C3烧氧 基-C1-C 3-齒代烧基X1-C3-烧氧基-C1-C3-烧氧基-C 1-C3-齒代烧基、C4_C6-氧杂取代的环烧 氧基-C 1-C3-烧基、C4-C6-氧杂取代的环烧基-C 1-C3-烧氧基-C1-C3-烧基、C4-C 6-氧杂取代 的环烧氧基-C1-C3-齒代烧基、C4-C 6-氧杂取代的环烧基-C1-C3-烧氧基-C1-C 3-齒代烧基、 (C1-C3链烷磺酰基-C1-C 3烷氨基）-C1-C3烷基、（C1-C3链烷磺酰基-C 3-C4环烷氨基）-C1-C3烷 基、C 1-C6烧基撰基-C1-C3烧基、C3-C 6环烧基-C2-C6稀基、C2-C6块基、C 2-C6-稀基、C2-C6 -齒 代烯基、氰基-C1-C6-烷基、芳基羰基-C1-C 3-烷基（其中该芳基可以任选地被一个或多个 选自下组的取代基取代，该组由以下各项组成：齒素、C1-C 3-烧氧基、C1-C3-烧基、C1-C3齒 代烷基）、芳基-C 1-C6烷基、芳氧基-C1-C6烷基（其中两种情况下，该芳基可以任选地被一 个或多个来自下组的取代基取代，该组由以下各项组成：卤素、C 1-C3-烷氧基、C1-C3-烷基、 C1-C3卤代烷基）、以及一个三至十元单环的或二环的环系统，该环系统可以是芳香族的、饱 和的或部分饱和的并且可以包含从1至4个各自独立地选自下组的杂原子，该组由以下各 项组成：氮、氧以及硫，该环系统可以任选地被一个或多个选自下组的取代基取代，该组由 以下各项组成=C 1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C2-C 3烯基、C2-C3炔基、C1-C3烷氧基、C 1-C3卤代 烷氧基、C1-C6烷基-S (O) P-、C1-C6卤代烷基-S (O) P-、芳基、芳基-S (O) P、杂芳基-S (O) P、芳 氧基、杂芳氧基、C1-C3烷氧基羰基、C1-C 3烷氨基-S (o)p-、C1-C3烷氨基-S(O)P-C1-C3烷基、 C1-C3二烧氨基-S (0) p-、C1-C3二烧氨基-S (0) P-C1-C3烧基、C1-C3烧氨基羰基-、C 1-C3烧氨 基羰基-C1-C3烷基、C 1-C3二烷氨基羰基X1-C3二烷氨基羰基-C1-C 3烷基、C1-C3烷基羰基氨 基、C1-C3烷基-S(O)P-氨基、卤素、氰基以及硝基；这些杂芳基取代基包含一至三个各自独 立地选自下组的杂原子，该组由以下各项组成：氧、氮以及硫，并且其中该芳基或杂芳基组 分可以任选地被一个或多个选自下组的取代基取代，该组由以下各项组成：卤素、C 1-C3烷 基、C1-C3卤代烷基、C 1-C3烷氧基W1-C3卤代烷氧基、苯基、氰基以及硝基； R3选自下组，该组由以下各项组成：氢、卤素、C1-C6烷基、C 1-C6卤代烷基、C1-C6烷基羰 基-C1-C3烧基、C3-C6环烧基-C 2-C6稀基-、C3-C6块基、C 2-C6-稀基、C1-C6烧氧基C 1-C6烧基、 氰基-C1-C6-烷基、芳基羰基-C 1-C3-烷基（其中该芳基可以任选地被一个或多个选自下组 的取代基取代，该组由以下各项组成：齒素、C 1-C3-烧氧基、C1-C3-烧基、C1-C 3齒代烧基）、 芳基-C1-C6烷基（其中该芳基可以任选地被一个或多个来自下组的取代基取代，该组由以 下各项组成：齒素、C 1-C3-烧氧基、C1-C3-烧基、C1-C 3齒代烧基）、C1-C6烧氧基C1-C6烧氧 基C 1-C6烷基、芳基、一个5元或6元杂芳基、一个5元或6元杂芳基-C1-C 3-烷基以及杂环 基-C1-C3-烷基，该杂芳基或杂环基包含一至三个各自独立地选自下组的杂原子，该组由以 下各项组成：氧、氮以及硫，并且其中该芳基、杂环基或杂芳基组分可以任选地被一个或多 个来自下组的取代基取代，该组由以下各项组成：卤素、C 1-C3烷基、C1-C3卤代烷基和C1-C 3 烧氧基、氛基以及硝基； R4选自下组，该组由以下各项组成：氢、氰基、硝基、卤素、羟基、巯基、C1-C6烷基、C 3-C6 环烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C 2-C6烯基、芳基-C2-C6烯基、C2-C 6炔基、C1-C6烷 氧基、C4-C7环烧氧基、C 1-C6 1?代烧氧基、C1-C6烧基-S (0)p、C3-C6环烧基-S(0)p C1-C6齒 代烷基-S (0) p、C3-C6卤代环烷基-S (0) p、C1-C6烷基羰基氨基、（C1-C6烷基羰基）C 1-C3烷 氨基、（C3-C6环烷基羰基）氨基、（C 3-C6环烷基羰基）C1-C3烷氨基、芳基羰基氨基、（芳基 羰基）-Cf 3烷氨基、（杂芳基羰基）氨基、（杂芳基羰基）C1-C3烷氨基、氨基、C 1-C6烷氨 基、C2-C6二烧氨基、C 2-C6烯基氨基、C1-C6烧氧基-C2-C 6-烧氨基、（C1-C6烧氧基-C2-C4-烧 基）-C 1-C6-烧氨基、C3-C6环烧氨基、C3-C 6环代烧氨基、C1-C3烧氧基-C3-C6环烧氨基、C 3-C6 炔基氨基、二烷氨基（其中这些取代基连接以形成一个任选地包含氧任选地被C1-C3-烷氧 基和/或卤素取代的4-6元环）、C 2-C6二烷氨基磺酰基、C1-C6烷氨基磺酰基、C 1-C6烷氧 基-C1-C6烧基、C1-C 6烧氧基-C2-C6烧氧基、C1-C6烧氧基-C 2-C6烧氧基-C1-C6-烧基、C3-C 6 烯基-C2-C6烷氧基、C3-C6炔基-C 1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C 6烷基羰基、C1-C4亚 烷基-S(O)P-R' C1-C4亚烷基-CO2-R' C1-C4亚烷基- (CO) N-R7R'芳基、芳基C1-C3烷基、芳 基-s(0)p、杂芳基-s(0)p、芳氧基、一个5元或6元杂芳基、杂芳基C 1-C3烷基以及杂芳氧 基，该杂芳基包含一至三个各自独立地选自下组的杂原子，该组由以下各项组成：氧、氮以 及硫，其中该芳基或杂芳基组分可以任选地被一个或多个选自下组的取代基取代，该组由 以下各项组成=C 1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C 3烷氧基A1-C3卤代烷氧基、卤基、氰基以及 硝基； R5选自下组，该组由以下各项组成：氢、氟、氯、羟基J1-C3卤代烷基以及甲基； R6选自下组，该组由以下各项组成：氢、氯、氟以及甲基； R7独立地选自下组，该组由以下各项组成：氢和C1-C6烷基；并且 P = 0、1 或 2。
2. 根据权利要求1所述的化合物，其中A1是N并且R1是甲基或乙基。
3. 根据权利要求1所述的化合物，选自下组，该组由以下各项组成：⑴其中A2是CR3， A3 是 CR4, A4 是 CR5 并且 A5 是 CH，（ii)其中 A2 是 CR3, A3 是 N，A4 是 CR5 并且 A5 是 CH，（iii) 其中A2是N，A3是CR4, A4是CR5并且A5是CH，（iv)其中A2是CR 3, A3是CR4, A4是N并且A5 是CH，A2是CR3,（V)其中A2是CR3, A3是CR4, A4是CR5并且A5是N以及（vi)其中A2是N， A3是CR4, A4是CR5并且A5是N。
4. 根据权利要求3所述的化合物，（i)其中A2是CR3, A3是CR4, A4是CR5并且A5是N 或（ii)其中A2是N，A3是CR4, A4是CR5并且A5是CH。
5. 根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R2选自下组，该组由以下各项组成： C1-C6烧基、芳基以及一个包含一至三个各自独立地选自下组的杂原子的5兀或6兀杂芳基， 该组由以下各项组成：氧、氮以及硫，并且其中该芳基或杂芳基可以任选地被一个或多个选 自下组的取代基取代，该组由以下各项组成：卤素、C 1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C 3烷氧 基、C1-C3齒代烷氧基、C1-C 6烷基-S (O)P-J1-C6齒代烷基-S (O)p-、氰基以及硝基。
6. 根据权利要求5所述的化合物，其中R2是任选地被一个或多个选自下组的取代基取 代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、C 1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C2-C 3烯基、C1-C3烷氧基、 C1-C3卤代烷氧基、甲硫基-、氰基以及硝基。
7. 根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R3选自下组，该组由以下各项组成： 氢、卤素以及C1-C 6烧基。
8. 根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R4选自下组，该组由以下各项组成： 氢、卤素、C1-C 6烷基以及C1-C6卤代烷基。
9. 根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R5是氢或卤素。
10. 根据以上权利要求中任一项所述的化合物，其中R6选自下组，该组由以下各项组 成：氢、卤素以及甲基。
11. 一种除草组合物，包括根据以上权利要求中任一项所述的一种除草化合物和一种 农业上可接受的配制佐剂。
12. 根据权利要求11所述的除草组合物，进一步包括至少一种另外的杀有害生物剂。
13. 根据权利要求12所述的除草组合物，其中该另外的杀有害生物剂是一种除草剂或 除草剂安全剂。
14. 一种在一个场所控制杂草的方法，该方法包括向该场所施用杂草控制量的根据权 利要求11至13中任一项所述的组合物。
15. 如在权利要求1中所定义的具有化学式（I)的化合物作为一种除草剂的用途。
【文档编号】C07D401/12GK104220436SQ201380017850
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2013年3月27日 优先权日:2012年3月29日
【发明者】G·米歇尔, 0·A·萨若 申请人:先正达有限公司