专利名称：一种清洗硅片用清洗筐的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及电子信息材料中硅材料的加工领域，特别涉及一种清洗硅片用清洗筐，清洗筐应用于硅片前道清洗工序。
背景技术：
近年来，由于电子信息产业的飞速发展、产品需求的不断提高，对电子产品的主要原材料一硅晶圆片在质量方面提出了更高的要求。顺从大的趋势，对晶圆片的表面质量要求越来越高。同时随着信息产业对硅片需求量的不断提高，要求生产出更多的硅晶圆片，对清洗工序的产量也提出新的要求。但是传统清洗工序中的清洗筐设计比较落后，并且迟迟没有改进，严重制约了清洗环节的发展。传统清洗筐的不足主要体现在三个方面1.对硅圆片的质量方面清洗机内的清洗槽底部装有超声震板，超声从振板里从下往上发出，作用在硅片中。传统清洗筐底部托盘采用“田”字形杆结构，“田”字形杆遮挡了向上的超声，造成硅片表面受超声作用不均勻，导致局部清洗不干净，影响清洗质量。2.清洗筐坚固方面传统清洗筐采用正四边型固定，容易造成形变、扭曲，在使用时对硅片产生应力，对硅片质量造成潜在危险，严重时导致筐内硅片全部碎裂。3.产能方面因清洗机内槽体尺寸固定，清洗筐尺寸要小于清洗槽体尺寸， 这很大程度上限制了清洗筐尺寸传统清洗筐尺寸395*350mm，使清洗筐只能放3寸片架6 个、4寸片架4个、5寸片架4个、6寸片架2个。基于半导体产业对硅圆片表面清洗质量、产量的要求不断提高和现形势下清洗筐的诸多不足，迫使我们对现有清洗筐经行局部改造，提高清洗水平。需要研制一种能提高表面质量和清洗产能的清洗筐。而目前国内尚未有能达到上述要求的清洗硅片用清洗筐出现，也未见文献有此方面技术文章的报道。
发明内容本实用新型的目的就是为克服现有技术的不足，针对清洗工序的需求，提供一种硅片清洗筐的设计方案，通过改进现有硅片清洗筐的结构，使其在于清洗工序发挥效能，从而提高硅圆片清洗的表面质量、使清洗筐更加坚固和提高硅圆片的清洗产能。本实用新型是通过这样的技术方案实现的一种清洗硅片用清洗筐由主框架、筐架提拉部位和片架滑道组件三大部分组成，其特征在于，所述的主框架主要由四个水平放置的底部固定杆、四个水平放置的上部固定杆、四个垂直放置的竖直固定杆构成框架主体， 框架主体起主要支撑作用；其中，四个水平放置的上部固定杆分为两个横向和两个纵向的固定杆，两个横向和两个纵向的固定杆的固定位置不在一个水平线。筐架提拉部位主要包括两个梯形提拉横杆和两个衔接杆连接构成；片架滑道组件包括2个π形滑动套和2个片架轨道杆，π形滑动套的两端为滑动套管，两滑动套管之间为支撑管，片架滑道组件中由每两个η形滑动套和一个片架轨道杆连接为一组，两组η形滑动套分别套装在两个竖直固定杆上；片架轨道杆通过滑动套连接在竖直固定杆上，滑动套沿竖直固定杆上下可调节，片架滑道组件通过顶丝在竖直固定杆上固定位置；挡片卡在片架轨道杆相邻横杆上。四个竖直固定杆上部焊接四个定位挡片，用于清洗过程中清洗筐的定位。挡片是由一片方形带两个卡口的不锈钢板构成，两个卡口配合卡在与片架轨道杆相邻横杆上。清洗筐所用材质为直径IOmm的不锈钢杆。本实用新型的有益效果改进后的清洗筐主框架结构简单，不遮挡向上的超声波， 硅片表面受超声作用均勻，清洗硅圆片的表面洁净度，清洗筐的坚固，提高了清洗硅圆片产能。
图1 磨片清洗筐主视图；图2:磨片清洗筐俯视图；图3:磨片清洗筐侧视图；图4:挡片结构示意图。其中1.主框架，2.框架提拉部位，3.片架滑道，4.竖直固定杆，5.滑动套， 6.顶丝，7.底部固定杆，8.片架轨道杆，9.上部固定杆，10.挡片，11.定位挡片，12.提拉横杆，13.衔接杆；14.三角固定杆，51.滑动套管，52.支撑管。
具体实施方式
为了更清楚的理解本实用新型，结合附图和实例详细描述本实用新型如图1至图4所示，一种清洗硅片用清洗筐由主框架1、筐架提拉部位2和片架滑道组件3三大部分组成，所述的主框架1主要由四个水平放置的底部固定杆7、四个水平放置的上部固定杆9、四个垂直放置的竖直固定杆4组成构成框架主体，框架主体起主要支撑作用；其中，四个水平放置的上部固定杆9分为两个横向和两个纵向的固定杆，两个横向和两个纵向的固定杆的固定位置不在一个水平线。筐架提拉部位2主要包括两个梯形提拉横杆12和两个衔接杆13连接构成；片架滑道组件3包括两个π形滑动套5和两个片架轨道杆8，π形滑动套5 的两端为滑动套管51，两滑动套管之间为支撑管52，片架滑道组件3中由每两个π形滑动套5和一个片架轨道杆8连接为一组，两组π形滑动套5分别套装在两个竖直固定杆4上；片架轨道杆8通过滑动套5连接在竖直固定杆4上，滑动套5可以上下调节，片架滑道组件3通过顶丝6在竖直固定杆4上固定位置；四个竖直固定杆4上部焊接四个定位挡片11，用于清洗过程中清洗筐的定位；挡片10是由一片方形带两个卡口不锈钢板构成，使用时两个卡口配合卡在与片架轨道杆8另一边的相邻横杆上，保证清洗过程中，片架不会滑出；本实施例中，清洗筐所用材质为直径IOmm的不锈钢杆；耐酸碱、耐腐蚀；主框架1直径为10mm，包括四个底部固定杆和四个上部固定杆，长度分别为 395mm和350mm，4个竖直固定杆上部焊接4个定位挡片10 11材质为316不锈钢，尺寸分别是60mm*16mm，用于清洗过程中清洗筐的定位；[0025]筐架提拉部位2高为430mm，其中梯形提拉横杆12为240mm，相隔71mm ；片架滑道3长度为似6mm，主要包括2组片架轨道杆8长度为420mm，直径为 7mm ；上部固定杆9长度为350mm ；挡片10尺寸为M0*42mm ；片架滑道3 —边用挡片10固定，另一边固定焊死，保证了滑道长度不受固定影响，可以盛放更多片架。所述挡片10由一片方形带两个卡口不锈钢板构成，使用时两个卡口配合卡在片架轨道另一边的相邻横杆上，保证清洗过程中，片架不会滑出；改进后的清洗筐在生产3、4、5和6寸硅圆片时可通过调节滑动套到最低高度后用顶丝固定，这样做确保硅片片架最低点距离清洗槽底部的超声振板高度最小，保证各规格硅片受到的超声作用最大，增加了超声波撞击对硅片的清洗效果，最终提高硅片表面质量；改进后的清洗筐把传统的“田”字固定改为三角形固定，从简单几何学知识得出三角形比四边形更加固定不易变形；并且“田”字固定在清洗筐底部，严重遮挡超声，而三角固定杆14都在接触角附近，避开了清洗槽向上的超声，使硅片受超声作用更均勻，最终达到提高清洗硅圆片表面质量的目的；改进后的清洗筐在片架滑道一边用挡片10固定，另一边固定焊死，最大可能保证了滑道有效使用长度，可以盛放更多片架；改进后清洗筐能放3寸片架8篮、4寸片架6篮、 5寸片架6篮、6寸片架4篮，这就使改进后的清洗筐比传统清洗筐在3寸片架生产时提高了 2篮/次、4寸片架生产时提高了 2篮/次、5寸片架生产时提高了 2篮/次、6寸片架生产时提高了 2篮/次；整体清洗产能提高了 25%左右。根据上述说明，结合本领域技术可实现本实用新型的方案。
权利要求1.一种清洗硅片用清洗筐由主框架(1)、筐架提拉部位(2)和片架滑道组件(3)三大部分组成，其特征在于，所述的主框架(1)主要由四个水平放置的底部固定杆(7)、四个水平放置的上部固定杆(9)、四个垂直放置的竖直固定杆(4)构成框架主体，框架主体起主要支撑作用；其中，四个水平放置的上部固定杆(9)分为两个横向和两个纵向的固定杆，两个横向和两个纵向的固定杆的固定位置不在一个水平线，筐架提拉部位(2 )主要包括两个梯形提拉横杆(12)和两个衔接杆(13)连接构成；片架滑道组件(3)包括2个π形滑动套( 和2个片架轨道杆(8)，π形滑动套(5) 的两端为滑动套管(51)，两滑动套管(51)之间为支撑管(52)，片架滑道组件(3)中由每两个η形滑动套( 和一个片架轨道杆(8)连接为一组，两组π形滑动套( 分别套装在两个竖直固定杆(4)上；片架轨道杆(8)通过滑动套(5)连接在竖直固定杆(4)上，滑动套 (5)沿竖直固定杆(4)上下可调节，片架滑道组件(3)通过顶丝(6)在竖直固定杆(4)上固定位置；挡片(10)卡在与片架轨道杆(8)相邻横杆上，四个竖直固定杆(4)上部焊接四个定位挡片(11)，用于清洗过程中清洗筐的定位。
2.如权利要求1所述清洗硅片用清洗筐，其特征在于，挡片(10)是由一片方形带两个卡口的不锈钢板构成，两个卡口配合卡在与片架轨道杆(8)相邻横杆上。
3.如权利要求1所述清洗硅片用清洗筐，其特征在于，清洗筐所用材质为直径IOmm的不锈钢杆。
专利摘要本实用新型涉及一种清洗硅片用清洗筐，由主框架、筐架提拉部位和片架滑道组件三大部分组成，片架滑道组件包括2个π形滑动套和2个片架轨道杆，π形滑动套的两端为滑动套管，两滑动套管之间为支撑管，片架滑道组件中由每一个π形滑动套和一个片架轨道杆连接为一组，两组π形滑动套分别套装在两个竖直固定杆上；片架轨道杆通过滑动套连接在竖直固定杆上，滑动套沿竖直固定杆上下可调节，清洗筐的主框架结构简单，不遮挡向上的超声波，硅片表面受超声作用均匀，清洗硅圆片的表面洁净度，清洗筐的坚固，提高了清洗硅圆片产能。
文档编号H01L21/673GK202268336SQ20112038461
公开日2012年6月6日 申请日期2011年10月11日 优先权日2011年10月11日
发明者刘涛, 李海龙, 王刚, 王岩, 王彦君, 王生远, 菅瑞娟, 高婷 申请人:天津市环欧半导体材料技术有限公司