[0051]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述方法中，对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，具体包括:
[0052]对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜层薄膜进行激光烧灼工艺；
[0053]对碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，具体包括:
[0054]对碳纳米管膜层薄膜进行激光烧灼工艺。
[0055]本发明实施例还提供了一种电极结构，采用本发明实施例提供的上述方法制作。
[0056]本发明实施例还提供了一种显示基板，包括:本发明实施例提供的上述电极结构。
[0057]本发明实施例还提供了一种显示装置，包括:本发明实施例提供的上述显示基板。
[0058]本发明实施例提供的上述电极结构、其制作方法、显示基板及显示装置，该电极结构的制作方法包括:在衬底基板上形成碳纳米管膜层薄膜；采用改性材料对碳纳米管膜层薄膜进行掺杂工艺处理，对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，形成包括第一电极的图形，或者，对碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，形成包括碳纳米管电极的图形，采用改性材料对碳纳米管电极的图形进行掺杂工艺处理，形成包括第一电极的图形；这样，通过在碳纳米管材料中掺入改性材料可以保证形成的第一电极具有较低的方阻值，从而可以满足柔性显示对柔性电极的导电性的要求。
【附图说明】
[0059]图1-图3分别为本发明实例一至实例三中电极结构的制作方法的流程图。
【具体实施方式】
[0060]下面结合附图，对本发明实施例提供的电极结构、其制作方法、显示基板及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0061]下面以三个具体的实例对本发明实施例提供的电极结构的制作方法的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0062]实例一:本发明实施例提供的电极结构的制作方法，如图1所示，具体包括如下步骤:
[0063]SlOl、在衬底基板上形成碳纳米管膜层薄膜；
[0064]S102、采用改性材料对碳纳米管膜层薄膜进行掺杂工艺处理；
[0065]S103、对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，形成包括第一电极的图形。
[0066]本发明实例一提供的上述方法，通过在碳纳米管膜层薄膜中掺入改性材料可以保证构图工艺后形成的第一电极具有较低的方阻值，因此，采用本发明实例一提供的上述方法制作的第一电极可以满足柔性显示对柔性电极的导电性的要求。
[0067]在具体实施时，由于第一电极的材料为掺有改性材料的碳纳米管材料，其稳定性较差，因此，在执行本发明实例一中的步骤S103，形成包括第一电极的图形之后，如图1所示，还可以包括如下步骤:
[0068]S104、在形成有第一电极的图形的衬底基板上采用高导电性材料形成保护层薄膜；
[0069]S105、对保护层薄膜进行构图工艺，形成包括与第一电极的图形一一对应的第二电极的图形；其中，第二电极的图形至少覆盖对应的第一电极的图形的上表面；即第二电极可以仅覆盖对应的第一电极的上表面，或者，第二电极也可以覆盖对应的第一电极的上表面和侧面，在此不做限定；这样，第二电极可以保护第一电极，使第一电极具有良好的稳定性。
[0070]在具体实施时，在执行本发明实例一中的步骤S104，在形成有第一电极的图形的衬底基板上采用高导电性材料形成保护层薄膜，具体可以通过以下方式实现:在形成有第一电极的图形的衬底基板上涂布聚3，4-乙撑二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐材料(PEDOT/PSS)、聚对苯撑乙烯材料(PPV)、聚噻吩类材料、聚硅烷类材料、三苯甲烷类材料、三芳胺类材料和吡唑啉类材料中的一种或几种，并对其进行干燥处理。具体地，用于形成保护层薄膜的高导电性材料并非局限于上述材料，在此不做限定。具体地，可以采用风刀对经过上述材料进行干燥处理，当然，也可以采用其他类似的方式对上述材料进行干燥处理，在此不做限定。
[0071]在具体实施时，本发明实例一中的步骤S101，在衬底基板上形成碳纳米管膜层薄膜，具体可以包括如下步骤:
[0072]首先，在衬底基板上涂布碳纳米管分散液；
[0073]然后，对涂布的碳纳米管分散液进行干燥处理。具体地，可以采用清洗机干燥工艺对涂布的碳纳米管分散液进行干燥处理，当然，也可以采用其他类似的方式对涂布的碳纳米管分散液进行干燥处理，在此不做限定。
[0074]在具体实施时，本发明实例一中的步骤S101，在衬底基板上形成碳纳米管膜层薄膜，具体可以包括如下步骤:
[0075]首先，在衬底基板上涂布固化材料；具体地，固化材料可以为热固化材料，或者，也可以为紫外光固化材料，在此不做限定；
[0076]然后，采用拉膜工艺在固化材料上形成碳纳米管膜层薄膜；具体地，拉膜工艺的具体过程为:将生长在晶圆上的碳纳米管切割下来，放在涂布有固化材料的衬底基板上，沿平行于衬底基板的平面拉伸该碳纳米管，形成碳纳米管膜层薄膜；
[0077]最后，对形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板进行固化处理。具体地，根据涂布的固化材料的类型进行相应的固化处理:在涂布的固化材料为热固化材料时，对形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板进行加热处理；在涂布的固化材料为紫外光固化材料时，对形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板进行紫外光照射处理。
[0078]在具体实施时，本发明实例一中的步骤S102，采用改性材料对碳纳米管膜层薄膜进行掺杂工艺处理，具体可以包括如下步骤:
[0079]首先，将形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板置于改性溶液中，放置预设时长；
[0080]然后，从改性溶液中取出衬底基板，采用去离子水对衬底基板进行清洗；
[0081]最后，对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理。具体地，可以采用风刀对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理，当然，也可以采用其他类似的方式对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理，在此不做限定。
[0082]在具体实施时，在本发明实例一中，将形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板置于改性溶液中，放置预设时长，具体可以通过以下方式实现:将形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板置于二氧化氮(NO2)溶液、溴(Br2)溶液、硝酸(HNO3)溶液、亚硫酰氯(SOCl2)溶液、全氟化磺酸酯(Naf1n)溶液和四氟四氰基醌二甲烷(TCNQF4)溶液中的一种或几种溶液中，放置5min-30min为佳。
[0083]在具体实施时，本发明实例一中的步骤S102，采用改性材料对碳纳米管膜层薄膜进行掺杂工艺处理，具体可以包括如下步骤:
[0084]首先，在预设时间内，在形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板上喷淋改性溶液；
[0085]然后，采用去离子水对喷淋有改性溶液的衬底基板进行清洗；
[0086]最后，对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理。具体地，可以采用风刀对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理，当然，也可以采用其他类似的方式对经过清洗后的衬底基板进行干燥处理，在此不做限定。
[0087]在具体实施时，本发明实例一中，在预设时间内，在形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板上喷淋改性溶液，具体可以通过以下方式实现:在5min-30min范围内，在形成有碳纳米管膜层薄膜的衬底基板上喷淋二氧化氮(NO2)溶液、溴(Br2)溶液、硝酸(HNO3)溶液、亚硫酰氯(SOCl2)溶液、全氟化磺酸酯(Naf1n)溶液和四氟四氰基醌二甲烷(TCNQF4)溶液中的一种或几种。
[0088]在具体实施时，本发明实例一中的步骤S103，对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜层薄膜进行构图工艺，具体可以通过以下方式实现:对经过掺杂工艺处理的碳纳米管膜