6mm与约3.64mm之间变化。在一个实施例中，密封槽101的深度530为约3.60mmο
[0043]沿着内周260，底表面102凹进在由外表面225形成的平面之下。因此，当盖组件110处于关闭位置时，外表面225比底表面102更靠近侧壁112的顶部122，以防止盖组件110接触密封件的真空侧上的腔室主体105，藉此最小化颗粒生成的可能性。在一个实施例中，从底表面102的平面到外表面225的平面的差值411可为约0.25_。
[0044]底部半径430存在于密封槽底部426的两端处。底部半径430可具有约0.79mm的半径。然而，应理解，由于壁425及底部426的尺寸可变化，底部半径430也可以是不同的。密封槽底部426可与底表面102及外表面225两者基本上平行。底部420可具有约0.4mm的圆形表面粗糙度。从外表面225测量的底部426的深度410可在约4.12mm与约4.22mm之间变化。在一个实施例中，密封槽101的深度410为约4.17mm。
[0045]应理解，密封槽101的燕尾轮廓400关于中心轴401可以是基本上对称的。燕尾轮廓400具有由中心轴401平分的开口 470及底部426。然而，对于开放部分202情况不是这样的。图5为沿图3的剖面线B-B获取的密封槽101的横截面轮廓，该横截面轮廓并未切割穿过突出部201。图5图示了在开放部分202中密封槽101具有的半燕尾轮廓500。
[0046]半燕尾轮廓500具有开口 570，该开口 570大于图4中所示的燕尾轮廓400的开口470。半燕尾轮廓500具有与底部401基本上相同的底部501。底部426、501也是超出平面(ex-planar)。剖面线 511 基本上垂直于且平分开口 570。然而， 剖面线 511 不与中心轴 401 对准。剖面线511延伸穿过开口 570的中间并延伸至底部501，从而将底部501分为X部分590及y部分595。
[0047]半燕尾轮廓500具有外部分505及内部分506，外部分505及内部分506由通过剖面线511对半燕尾轮廓500的分割进行限定。内部分506基本上类似于如图4中所示的燕尾轮廓400的对应部分的内部分，然而外部分505是显著不相似的。因此，不同于燕尾轮廓400，半燕尾轮廓500的外部分505不与内部分506对称。
[0048]半燕尾轮廓500具有壁525，壁525以半径510与底部501相交。半径510基本上类似于底部半径430。在一个实施例中，半径510为约0.79mm。然而，代替壁425、525两者均具有角440，壁525基本上垂直于底表面102及密封槽101的底部501。因此，半燕尾轮廓500具有X部分490，该X部分490大于燕尾轮廓400的X部分490。半燕尾轮廓500中的较大的X部分490允许密封槽101中的附加的空间，以用于密封件106在处于升高的热条件下时膨胀。开口570的宽度可取决于密封槽101的尺寸而在约5mm与约12mm之间变化。在一个实施例中，开口 570可以是约5.71mm宽。
[0049]壁525具有圆形边缘540，该圆形边缘540开始于开口 570处，并在盖组件110的外表面225部分处结束。圆形边缘540基本上类似于圆形边缘420。在一个实施例中，圆形边缘540可具有约0.38mm的半径。
[0050]参见图3、图4及图5，半燕尾轮廓500(被示为剖面B_B)及燕尾轮廓400 (被示为剖面A-A)的非连续轮廓生成一系列的突出部201及开放部分202。这些突出部具有基本上类似的X部分490及y部分495，而开放部分202具有显著不相似的X部分490及y部分495。应理解，半燕尾轮廓500为开放部分202，但决定突出部201在内周260、外周265或在一些实施例中在内周及外周260、265两者一起上的位置。在一个实施例中，X部分490大于y部分495，且引起突出部201形成于密封槽101的内周260上。在替代实施例中，X部分490小于y部分495，且引起突出部201形成于密封槽101的外周265上。
[0051 ] 返回参见图2，现可理解突出部201及开放部分202容纳密封件106的膨胀，同时一起构成密封槽101的连续的轮廓。突出部201在较低温度下保持密封件106，同时开放部分202允许在被加热时密封件106的膨胀。替代地，当密封件膨胀可能较大时，突出部201及开放部分202可能不构成连续的表面。开放部分202可具有比突出部201甚至更大的直径。以此方式，遍及宽的温度范围密封件106被保持在密封槽101中而没有损坏，同时允许真空处理腔室的稳健的密封。
[0052]尽管以上内容针对本发明的实施例，但在不背离本发明的基本范围的情况下，可设计本发明的其他及另外实施例。
【主权项】
1.一种具有密封槽的表面，包括: 表面，其中形成有密封槽，所述密封槽被配置成接受弹性体密封件，所述密封槽包括: 第一部分，所述第一部分具有完整的燕尾轮廓；以及至少第二部分，所述第二部分具有半燕尾非连续轮廓。2.如权利要求1所述的表面，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓形成从所述密封槽的外壁向内径向延伸的突出部。3.如权利要求1所述的表面，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓形成从所述密封槽的内壁向外径向延伸的突出部。4.如权利要求1所述的表面，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓形成从所述密封槽的内壁向外径向延伸以及从所述密封槽的外壁向内径向延伸的突出部。5.如权利要求1所述的表面，其特征在于，所述燕尾的壁与所述鸠尾的底表面成60度角。6.如权利要求1所述的表面，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓的窄部分具有4.58mm的开口，并且所述半燕尾轮廓的窄部分具有5.71mm的开口。7.如权利要求2所述的表面，其特征在于，所述突出部沿所述密封槽的外壁，位于12个等间隔的位置处。8.如权利要求2所述的表面，其特征在于，在所述外壁中到所述突出部以及从所述突出部的过渡具有1mm的半径。9.一种真空处理腔室，包括: 腔室主体，所述腔室主体包括底部以及侧壁;盖组件，所述盖组件可在打开与关闭位置之间移动；以及 密封槽，所述密封槽形成在所述盖组件和所述腔室主体中的一者中的表面上，所述密封槽被配置成接受弹性体密封件，其中所述密封槽包括: 第一部分，所述第一部分具有完整的燕尾轮廓，以及至少第二部分，所述第二部分具有半燕尾轮廓。10.如权利要求9所述的真空处理腔室，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓形成从所述密封槽的外壁向内径向延伸的突出部。11.如权利要求9所述的真空处理腔室，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓形成从所述密封槽的内壁向外径向延伸的突出部。12.如权利要求9所述的真空处理腔室，其特征在于，所述燕尾的壁与所述燕尾的底表面成60度角。13.如权利要求12所述的真空处理腔室，其特征在于，所述燕尾的底表面形成在其中形成有所述密封槽的表面之下4.17_。14.如权利要求9所述的真空处理腔室，其特征在于，所述完整的燕尾轮廓的窄部分具有4.58mm的开口，且所述半燕尾轮廓的窄部分具有5.71mm的开口。15.如权利要求10所述的真空处理腔室，其特征在于，所述突出部沿所述密封槽的外壁，位于12个等间隔的位置处。
【专利摘要】在一个实施例中，一种其中形成有密封槽的表面。该密封槽被配置成接受弹性体密封件。该密封槽包括第一部分，该第一部分具有完整的燕尾轮廓，以及至少第二部分，该第二部分具有半燕尾轮廓。
【IPC分类】H01L21/02, H01L21/56
【公开号】CN105474373
【申请号】CN201480044379
【发明人】D·卢博米尔斯基, Q·梁
【申请人】应用材料公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2014年8月6日
【公告号】US20150047786, WO2015023493A1