本发明涉及一种冬枣园无公害杂草抑制剂的制备及应用，属于林业技术领域。
背景技术：
冬枣产量比较可观，但是农药残留问题存在严重，冬枣树病虫害易受杂草影响，产量容易受到限制；怎样适度控制杂草，保障冬枣园的持续稳产高产，是不可回避的问题；面对冬枣市场价格的持续波动，也迫切需要提高冬枣品质和营养价值来增加经济效益，满足市场对高品质苹冬枣的要求；随着经济发展和社会进步，当人们把接受自然、认识自然、爱自然作为一种时尚的时候，自然地被和自然景观必将成为一个重要的角色和载体；杂草在农业生态系统中具有防止土壤侵蚀、促进养分循环、消除环境污染等生态功能，保持一定的杂草生物多样性对维持生态系统功能正常发挥和保持生态平衡有着不可忽视的作用；因此，发明一种冬枣园无公害杂草抑制剂，并制定出合理的施用方法，有利于提高冬枣种植经济效益。
技术实现要素：
本发明是以缩二脲，青鲜素为活性成分，以硫酸锌为增效成分加工而成的冬枣园无公害杂草抑制剂，能够提高冬枣产量和品质，改善活化土壤和提高地力；适用于冬枣无公害种植。
本发明冬枣园无公害杂草抑制剂的效果可以有效抑制杂草生长，属于苗后除草剂，能够提高冬枣产量和品质；本发明从使用成本上看较经济，具有如下作用：促进硒元素循环增加；适度控制杂草生长，延迟杂草花期，补充地力；利于无公害农业的发展，减少农药残留。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是：前期喷洒冬枣园无公害杂草抑制剂控制杂草生长，通过适度控制杂草发育，抑制杂草生长速度；中期限制杂草吸收光热气，减少杂草生殖发育；后期冬枣收获，结合杂草还田加速沤治发酵。
一种冬枣园无公害杂草抑制剂的制备及应用，其特征是，其组成成分及其重量百分比为：包括以下重量百分比的物质：藻酸钠5％-10％，缩二脲5%-30%，亚硒酸钠1%-5%，矿物油1％-10％，硫酸锌2％-25％，乳化剂1％-10％，青鲜素1%-5%，羧甲基纤维素5％-30%，有机硅渗透剂3％-15％，黑色水溶性腐植酸3％-10％，红色着色剂0.3％-1％，余量为植物油补充；适用于杂草苗后及生长期前后杂草的生长调控；选择晴朗天，杂草苗后10-15天进行第一次喷施液喷施；间隔15-20天后进行第二次喷施；每次每公顷苹果园地喷施液配制剂为：每公顷450kg水加入冬枣园无公害杂草抑制剂0.3-1l；进行第一次喷施液喷施，每公顷450kg水加入冬枣园无公害杂草抑制剂0.3-0.5l；间隔5-15天后进行第二次喷施，每公顷450kg水加入冬枣园无公害杂草抑制剂0.5-1l。
具体实施方式
本发明优选实施例1.其组成成分及其重量百分比为藻酸钠3％，缩二脲20%，亚硒酸钠5%，矿物油5％，硫酸锌20％，乳化剂10％，青鲜素5%，羧甲基纤维素15%，有机硅渗透剂10％，黑色水溶性腐植酸10％，红色着色剂1％，余量为植物油补充；用于杂草苗后及生长期杂草生长的调控。
该无公害杂草抑制剂的施用方法是：每公顷450kg水加入本发明除草剂0.3l，制成喷施液进行喷施；选择晴朗天，杂草苗后10天，进行第一次喷施液喷施；间隔15天后进行第二次喷施；要求喷施均匀，保证杂草每一叶片都均匀粘附药液；每次每公顷冬枣园喷施喷施液约450kg水+冬枣园无公害杂草抑制剂0.5l；本发明能够前期控制杂草生长，通过适度控制杂草发育，控制杂草生长速度；中期限制杂草吸收光热气，减少生殖发育；后期结合杂草还田加速沤治发酵杂草。
优选配比实施例2：藻酸钠8％，缩二脲5%，亚硒酸钠3%，矿物油8％，硫酸锌10％，乳化剂10％，青鲜素3%，羧甲基纤维素10％，有机硅渗透剂15％，黑色水溶性腐植酸3％，红色着色剂0.3％，余量为植物油补充；用于杂草苗后及生长期杂草生长的调控；该冬枣园无公害杂草抑制剂的施用方法是：每公顷450kg水加入本发明无公害除草悬浮剂制成喷施液进行喷施；选择晴朗天，杂草苗后15天，进行第一次喷施液喷施；间隔20天后进行第二次喷施；要求喷施均匀，保证每一叶片都均匀粘附药液；每次每公顷冬枣园喷450kg水+无公害杂草抑制剂液0.6l；本发明能够前期控制杂草生长，通过适度控制杂草发育，控制杂草生长速度；中期限制杂草吸收光热气，减少生殖发育；后期结合杂草还田加速沤治发酵杂草。
从除草控草效果来看，优选配比实施例1优于优选配比实施例2；本发明能够适度控制杂草生长和繁殖，从增产效果来看本发明冬枣园除草剂增产效果明显，并能明显改善冬枣品质增加产量；本发明增产的原因主要在于控制杂草生长速度和强度，间接加强了冬枣园的持水性和地力，提高冬枣品质减少病虫害发生；综上，本发明冬枣园除草剂具有很好的无公害增产效果，并且具有提高冬枣品级等优点，可有效提高农民收入；该药剂可在冬枣园种植过程中大力推广应用。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围。