树脂掩模20的与金属掩模10不相接的侧的面(在图示的方式中为树脂掩模的下面)构成的角度(Θ)优选在5°?85°的范围内，更优选在15°?80°的范围内，进一步优选在25°?65°的范围内。尤其是，在该范围内，还优选为小于所使用的蒸镀机的蒸镀角度的角度。另外，在图2、图6中，形成开口部25的端面呈直线形状，但不限于此，也可以形成为凸向外的弯曲形状，即开口部25的整体形状形成为木碗形状。具有这种剖面形状的开口部25例如可通过适当调整形成开口部25时激光的照射位置、或激光的照射能量、或者进行使照射位置阶段性改变的多阶段激光照射来形成。此外，图2、图6是表示图1所示的方式的蒸镀掩模100的一例的局部放大剖面图。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同，只要将图2、图6分别改为图12、图16即可。
[0073]树脂掩模20使用树脂材料，因此，不采用以往金属加工时所采用的加工法、例如蚀刻加工法或切削等加工方法，即可形成开口部25。S卩，对于开口部25的形成方法，没有特别限定，可使用各种加工方法，例如可形成高精细的开口部25的激光加工法、或精密冲压加工、光刻加工等来形成开口部25。关于通过激光加工法等来形成开口部25的方法如后所述。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0074]作为蚀刻加工法，可使用例如将蚀刻材料从喷射喷嘴以规定的喷雾压力进行喷雾的喷射蚀刻法、浸渍在填充有蚀刻材料的蚀刻液中的浸渍蚀刻法、滴加蚀刻材料的旋转蚀刻法等湿式蚀刻法、或利用气体、等离子等干式蚀刻法。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0075]另外，在实施方式(A)的蒸镀掩模中，使用树脂掩模20作为蒸镀掩模100的构成，因此，在使用该蒸镀掩模100进行蒸镀时，在树脂掩模20的开口部25施加非常高的热，从树脂掩模20的形成开口部25的端面25a(参照图6)产生气体，可能会使蒸镀装置内的真空度降低等。因此，若考虑这一点，如图6所示，优选在树脂掩模20的形成开口部25的端面25a设置阻挡层26。通过形成阻挡层26，可以防止由树脂掩模20的形成开口部25的端面25a产生气体。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同，只要将图6改为图16即可。
[0076]阻挡层26可以使用无机氧化物或无机氮化物、金属的薄膜层或蒸镀层。作为无机氧化物，可使用铝或硅、铟、锡、镁的氧化物，作为金属，可使用铝等。阻挡层26的厚度更优选为0.05 μπι?I μπι左右。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0077]另外，阻挡层26优选覆盖树脂掩模20的蒸镀源侧表面(未图示)。通过用阻挡层26覆盖树脂掩模20的蒸镀源侧表面，阻挡性进一步提高。阻挡层在为无机氧化物、及无机氮化物的情况下，优选通过各种PVD (physical vapor deposit1n)法、CVD (chemicalvapor deposit1n)法来形成。在金属的情况下，优选通过派射法、离子镀敷法、真空蒸镀法等各种PVD法，尤其是真空蒸镀法来形成。此外，在此所说的树脂掩模20的蒸镀源侧表面可以为树脂掩模20的蒸镀源侧的表面整体，也可以仅为在树脂掩模20的蒸镀源侧的表面从金属掩模露出的部分。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0078]另外，在使用实施方式(A)的蒸镀掩模对蒸镀对象物进行蒸镀时，在蒸镀对象物后方配置磁铁等，通过磁力来吸引蒸镀对象物前方的蒸镀掩模100，由此使实施方式(A)的蒸镀掩模和蒸镀对象物密合的情况下，优选在树脂掩模20的与金属掩模10未相接的侧的面设置由磁性材料构成的磁性层(末图示)。通过设置磁性层，通过磁力来吸引该磁性层和蒸镀对象物，可使实施方式(A)的蒸镀掩模和蒸镀对象物无间隙地充分密合，可防止因实施方式(A)的蒸镀掩模和蒸镀对象物的间隙所产生的蒸镀图案增大。具体而言，在实施方式(A)的蒸镀掩模中，由于在构成I个画面的开口部25之间不存在金属部分，所以在与I个画面相对应的区域，不能使实施方式(A)的蒸镀掩模100和蒸镀对象物密合。另一方面，在设置磁性层的情况下，在设有该磁性层的区域，也可以使实施方式(A)的蒸镀掩模100和蒸镀对象物密合，因此，通过在树脂掩模20的与I个画面相对应的区域设置磁性层，可以使实施方式(A)的蒸镀掩模100和蒸镀对象物的密合性更为良好。蒸镀图案增大是指形成比作为目的的蒸镀图案更大的形状的蒸镀图案的现象。需要说明的是，在使用通过磁力来吸引实施方式(A)的蒸镀掩模100和蒸镀对象物的以外的方法使其密合的情况下，不特别需要设置磁性层。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0079]作为磁性层的材料，可举出例如铁、镍、或钴、或者包含这些金属的合金等。磁性层的厚度没有特别限定，但优选为0.05 μπι以上且I μπι以下。对于实施方式⑶的蒸镀掩模也相同。
[0080]图7是树脂掩模的其它方式的正面图。如图7所示，优选在树脂掩模20上形成向树脂掩模20的纵向、或横向(图7的情况下为纵向)延伸的槽28。在蒸镀时加热的情况下，树脂掩模20热膨胀，由此，开口部25的尺寸或位置可能发生变化，但是，通过形成该槽28，可吸收树脂掩模的膨胀，可防止因在树脂掩模的各处产生的热膨胀累积而使树脂掩模20整体朝规定方向膨胀导致的开口部25的尺寸或位置改变。槽28的形成位置没有限定，可设在构成I个画面的开口部25之间、或与开口部25重叠的位置，但优选设在各画面间。另外，槽可仅设在树脂掩模的一面，例如与金属掩模相接的一侧的面，也可以仅设在与金属掩模未相接的侧的面。或者，也可以设在树脂掩模20的两面。
[0081]图7中，在邻接的画面间形成有朝纵向延伸的槽28，但不限定于此，也可以在邻接的画面间形成向横向延伸的槽。此外，也可以以将它们组合的方式形成槽。
[0082]槽28的深度或其宽度没有特别限定，在槽28的深度过深的情况、或宽度过宽的情况下，有树脂掩模20的刚性降低的倾向，因此，需要考虑到这一点来进行设定。另外，关于槽的剖面形状，也没有特别限定，只要为U字形状或V字形状等考虑到加工方法等来任意选择即可。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同。
[0083](形成实施方式(A)的蒸镀掩模的金属掩模)
[0084]形成实施方式(A)的蒸镀掩模的金属掩模10由金属构成，设有多个缝隙15。在实施方式(A)的蒸镀掩模中，如上述说明，各缝隙15被设于与至少I个画面整体相重叠的位置。换言之，构成I个画面的开口部25被设于与I个缝隙15重叠的位置。
[0085]接着，使用图8(a)?图8(c)，对阴影的产生、和因金属掩模10的厚度而可能引起的阴影的产生、或在与至少I个画面整体相重叠的位置设有缝隙的实施方式(A)的蒸镀掩模100的优势进行说明。需要说明的是，图8(a)是构成I个画面内的开口部25a由多个缝隙15a分割的蒸镀掩模的局部放大剖面图，图8(b)是在图8(a)所示的蒸镀掩模中，表示加厚金属掩模的厚度的状态的局部放大剖面图。图8(c)是表示I个缝隙15设在与I个画面整体相重叠的位置的实施方式(A)的蒸镀掩模100的一例的局部放大剖面图，图8(d)是表示在图8 (c)中的蒸镀掩模100中加厚金属掩模10的厚度的状态的局部放大剖面图。另外，在图示的方式中，将沿横向设有5个开口部(纵向为任意)的开口部25的集合体设为I个画面。
[0086]如图8(a)所示，在构成I个画面的开口部25a以多个缝隙15a分割的情况下，在相邻接的开口部25a的一部分存在形成缝隙15a的壁面的金属部分。在为了进行高精细的蒸镀图案的形成，而将开口部25a的间距、或开口部25a的形状微细化的情况下，在构成I个画面的开口部25a间存在金属部分时，该金属部分妨碍由蒸镀源放出的蒸镀材料通过至开口部25a内，难以进行高精细的蒸镀图案的制作。另外，在使金属掩模1a的厚度变薄的情况下，蒸镀掩模整体的耐久性也会降低。为了使蒸镀掩模整体的耐久性提高，而如图8 (b)所示加厚金属掩模1a的厚度的情况下，由蒸镀源放出的蒸镀材料更容易冲撞该金属部分的内壁面。冲撞内壁面的蒸镀材料的量越多，不能到达至蒸镀对象物的蒸镀材料的量越多，阴影的产生更为显著。另外，在使开口部25a间的间距变窄的情况下，需要使存在于该开口部25a间的金属部分细线化，金属部分的断线风险变高。此外，在金属部分断线的情况下，蒸镀掩模整体的耐久性会降低。
[0087]另一方面，在实施方式(A)的蒸镀掩模中，如图8(c)所示，I个画面整体、即设于I个画面内的全部开口部25被设于与I个缝隙15重叠的位置。因此，如图8(c)所示，可以不浪费地使蒸镀材料通过开口部25内，可防止阴影发生。另外，如图8(d)所示，即使在以一定程度加厚金属掩模10的厚度的情况下，也可以形成阴影的影响小且高精细的蒸镀图案。尤其是，在实施方式(A)的蒸镀掩模中，即使在使金属掩模10的厚度形成为100 μπι左右的情况下，也可以防止阴影发生。通过加厚金属掩模10的厚度，蒸镀掩模100整体的耐久性提高，因此，在实施方式(A)的蒸镀掩模中，可一边形成高精细的蒸镀图案，一边通过适当设定该厚度来使耐久性提高。
[0088]金属掩模10的厚度没有特别限定，但为了更有效地防止位于缝隙15的内壁面附近的开口部25中的阴影发生，优选为100 μ m以下，更优选为50 μ m以下，特别优选为35 μ m以下。对于实施方式(B)的蒸镀掩模也相同，只要将缝隙15改为贯通孔即可。
[0089]另外，在实施方式(A)的蒸镀掩模100中，另外，为了充分防止阴影发生，如图2、图6所示，优选将缝隙15的剖面形状形成具有朝向蒸镀源变宽的形状。通过形成为这样的剖面形状，即使出于防止蒸镀掩模100上可能产生的变形、或提高耐久性的目的而加厚蒸镀掩模整体厚度的情况下，从蒸镀源放出的蒸镀材料也不会冲撞缝隙15的该表面、或缝隙15的内壁面等，而能够使蒸镀材料到达蒸镀对象物。具体而言，在将金属掩模10的缝隙15中的下底前端和相同的金属掩模10的缝隙15中的上底前端连结的直线与金属掩模10的底面所成的角度，换言之，在金属掩模10的构成缝隙15的内壁面的厚度方向剖面，缝隙15的内壁面和金属掩模10的与树脂掩模20相接的一侧的面(在图不的方式中为金属掩模的下面)所成的角度优选在5°?85°的范围内，更优选为在15°?80°的范围内，进一步优选为在25°?65°的范围内。尤其是，在该范围内时，也优