一种蒸镀设备的定位装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备的定位装置。
【背景技术】
[0002]目前，在采用蒸镀设备在基片上蒸镀薄膜时，有时需要采用不同的蒸镀腔室，目的是防止在蒸镀不同材料时，由于材料之间的相互污染造成制备的薄膜产品的性能低下。
[0003]例如，在制备有机发光器件(0LED)时，一般的器件结构由很多层构成，假设蒸镀其中一层薄膜是在A腔室，蒸镀完该薄膜后，需要将该基片传输到B腔室进行下一层薄膜的蒸镀，通常将基片转移的方式是:首先，需要对蒸镀设备器中机械手的行动路线进行设定，然后由机械手将基片从爪状基片承载装置中将基片取出，最后机械手根据设定的路线将基片传送到将要进行蒸镀的腔室中进行蒸镀。另外，当机械手从爪状基片承载装置中取基片时，首先会将该爪状基片承载装置旋转到预设的位置，即对爪状基片承载装置进行定位，这里对爪状基片承载装置进行定位，实际上是对爪状基片承载装置中的基片进行定位;完成爪状基片承载装置的定位后，机械手才能根据预设的路线从该爪状基片承载装置中取到基片，其中，将爪状基片承载装置旋转到设定位置需要依靠旋转马达，即通过旋转马达的旋转带动爪状基片承载装置进行旋转。
[0004]上述蒸镀设备中的机械手取基片的具体步骤是:在完成上一层薄膜的蒸镀后，需要对爪状基片承载装置进行归位，即使得该爪状基片承载装置回归到初始位置，这时通过旋转马达带动该爪状基片承载旋转到初始位置，然后再由旋转马达带动该爪状基片承载装置旋转到预设的位置，在该爪状基片承载装置旋转到预设的位置后，机械手才能根据设定的路线将基底取出，并对基底进行传输。
[0005]通常蒸镀设备中的旋转马达旋转到预设位置时，由于一般的蒸镀仪器不可能每次定位都十分精确，因此旋转马达在旋转到设定的位置时，可能会出现偏差，这样使得机械手在取基片时可能与基片发生碰撞，又因为基片通常是由易碎材料制成的，例如，玻璃基片或硅基片等，因此在发生碰撞时，基片很容易发生破碎。基片破碎后，用户必须及时的打开蒸镀设备，对腔体中的基底碎片进行清理，并重新装载基片并进行蒸镀，耗费了用户大量的时间和精力。
【发明内容】
[0006]鉴于上述问题，本发明实施例提供一种蒸镀设备的定位装置，解决由于蒸镀设备中机械手在传输基片时由于定位不准确导致机械手与基片发生碰撞的问题。
[0007]—种蒸镀设备定位装置，所述装置包括:旋转马达、旋转马达传感器挡片、旋转马达初始位置传感器和旋转马达定位传感器;其中，所述旋转马达，用于将基片和掩膜板旋转到指定位置，且所述旋转马达为环形结构;所述旋转马达传感器挡片位于所述旋转马达上，用于引导所述旋转马达初始位置传感器或所述旋转马达定位传感器对所述旋转马达的旋转位置进行定位;所述旋转马达初始位置传感器独立于所述旋转马达，用于根据所述旋转马达传感器挡片的运动位置使所述旋转马达旋转到初始位置;所述旋转马达定位传感器独立于所述旋转马达，用于根据所述旋转马达传感器挡片的运动位置对所述旋转马达的旋转位置进行定位，使所述旋转马达旋转到指定位置。
[0008]优选地，所述装置还包括基础轴，所述基础轴位于所述环形旋转马达的内环中，所述基础轴是由基础竖直轴、基础轴传感器挡片、基础轴上极限传感器、基础轴初始位置传感器、基础轴基片定位传感器、基础轴掩膜板定位传感器和基础轴下极限传感器构成;其中，
[0009]所述基础竖直轴，用于带动基片向上或向下运动到指定的位置；
[0010]所述基础轴传感器挡片位于所述基础竖直轴上，用于引导所述基础轴初始位置传感器或所述基础轴基片定位传感器或基础轴掩膜板定位传感器对基片进行向上或向下定位；
[0011 ]所述基础轴上极限传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置限制基片向上运动的最大距离；
[0012]所述基础轴初始位置传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到初始位置；
[0013]所述基础轴基片定位传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到指定位置，当基片运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得基片；
[0014]所述基础轴掩膜板定位传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置使基片向上或向下运动到指定位置，当基片运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得掩膜板；
[0015]所述基础轴下极限传感器独立于所述基础竖直轴，用于根据所述基础轴传感器挡片的运动位置限制基片向下运动的最大距离。
[0016]优选地，所述装置还包括磁铁板轴，所述磁铁板轴位于所述环形旋转马达的外环中，所述磁铁板轴是由磁铁板竖直轴、磁铁板轴传感器挡片、磁铁板轴上极限传感器、磁铁板轴初始位置传感器、磁铁板轴基片定位传感器、磁铁板轴掩膜板定位传感器和磁铁板轴下极限传感器构成;其中，
[0017]所述磁铁板竖直轴，用于带动掩膜板向上或向下运动到指定的位置；
[0018]所述磁铁板轴传感器挡片位于所述磁铁板竖直轴上，用于引导所述磁铁板轴初始位置传感器或所述磁铁板轴基片定位传感器或所述磁铁板轴掩膜板定位传感器对掩膜板进行向上或向下定位；
[0019]所述磁铁板轴上极限传感器独立于所述磁铁板竖直轴，用于根据所述磁铁板轴传感器挡片的运动位置限制掩膜板向上运动的最大距离；
[0020]所述磁铁板轴初始位置传感器独立于所述磁铁板竖直轴，用于根据所述磁铁板轴传感器挡片的运动位置使掩膜板向上或向下运动到初始位置；
[0021 ]所述磁铁板轴基片定位传感器独立于所述磁铁板竖直轴，用于根据所述磁铁板轴传感器挡片的运动位置使掩膜板向上或向下运动到指定位置，当掩膜板运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得基片；
[0022]所述磁铁板轴掩膜板定位传感器独立于所述磁铁板竖直轴，用于根据所述磁铁板轴传感器挡片的运动位置使掩膜板向上或向下运动到指定位置，当掩膜板运动到所述指定位置时，所述蒸镀设备中的机械手取得掩膜板；
[0023]所述磁铁板轴下极限传感器独立于所述竖直轴，用于根据所述磁铁板轴传感器挡片的运动位置限制掩膜板向下运动的最大距离。
[0024]优选地，所述旋转马达带动基片和掩膜板同时转动。
[0025]优选地，所述基础轴还包括爪状基片承载装置，所述爪状基片承载装置位于所述基础竖直轴下方，且与所述基础竖直轴相连，所述爪状基片承载装置为承载基片的装置。
[0026]优选地，所述基础轴还包括磁铁支架，所述磁铁支架位于所述爪状基片承载装置上方，所述磁铁支架用于将基片向上提拉。
[0027]优选地，所述磁铁板轴还包括金属框架，所述金属框架位于所述磁铁板竖直轴下方，且与所述磁铁板竖直轴相连，所述金属框架为承载掩膜板的装置。
[0028]应用本发明实施例，在蒸镀设备中加入定位装置，当蒸镀设备中的旋转马达旋转到预设的位置时，旋转马达上的传感器挡板就会将该定位装置发射的光挡住，使得传感器获得旋转马达相应的位置信息，从而精确的将旋转马达定位，即对基片完成精确的定位，减少在传输基片的过程中机械手与基片发生碰撞的几率。
【附图说明】
[0029]此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0030]图1为现有的蒸镀设备的具体结构示意图；
[0031 ]图2为现有的蒸镀设备的俯视图；
[0032]图3为现有蒸镀设备中机械手取基片的示意图；
[0033]图4为现有蒸镀设备中旋转马达及附属部件的具体结构示意图；
[0034]图5为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的定位装置的具体结构示意图；
[0035]图6为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的定位装置的具体工作流程示意图；
[0036]图7为本发明实施例提供的定位装置对旋转马达进行定位的原理图；
[0037]图8为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的具体结构示意图。
【具体实施方式】
[0038]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0039]以下结合附图，详细说明本发明各实施例提供的技术方案。
[0040]为了