蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备。
【背景技术】
[0002]使用蒸镀方法制作OLED产品是目前比较主流的制作方法。蒸镀一般采用的是真空腔室加蒸发源，通过材料在真空腔室内弥散，实现成膜。采用这种制作方法，在成膜的过程中材料也会沉积在真空腔室的腔壁上，造成对腔壁的污染，造成产品良率下降。目前主流的解决办法是在真空腔体内增加材料遮挡装置。现在主流的遮挡装置就是用具有涂层的板子进行遮挡，由于板子面是平的，能锁住的材料有限，所以要经常的进行更换。
【发明内容】
[0003]为了解决上述技术问题，本发明提供一种蒸镀用遮挡装置以及蒸镀设备，增加了遮挡装置的使用时间，减少了蒸发物质对腔体的污染。
[0004]为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是:一种蒸镀用遮挡装置，用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染，包括:
[0005]—遮挡基板；
[0006]用于增加所述遮挡基板的表面的不平整度的遮挡结构，所述遮挡结构设置于所述遮挡基板上。
[0007]进一步的，所述遮挡基板的表面设置凹凸结构以形成所述遮挡结构。
[0008]进一步的，所述遮挡结构为多个中空柱体结构连接形成的网格状结构。
[0009]进一步的，所述中空柱体结构的截面形状为圆形、四边形或六边形。
[0010]进一步的，所述网格状结构可拆卸的连接于所述遮挡基板上。
[0011 ]进一步的，所述网格状结构磁性吸附于所述遮挡基板上。
[0012]进一步的，所述遮挡基板采用铁制作，所述网格状结构采用磁性材料或可磁化材料制作。
[0013]进一步的，所述网格状结构包括多个子网格状结构。
[0014]进一步的，所述遮挡基板用于连接所述遮挡结构的一面设置有用于吸附蒸镀出的材料的吸附涂层。
[0015]本发明实施例还提供一种蒸镀设备，包括蒸镀源、真空腔体以及设置于所述真空腔体内的上述的蒸镀用遮挡装置。
[0016]本发明的有益效果是:增加遮挡装置的使用寿命，防止真空腔体的污染。
【附图说明】
[0017]图1表示本发明遮挡装置结构示意图；
[0018]图2表示本发明遮挡装置局部结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]以下结合附图对本发明的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。
[0020]如图1所示，本实施例提供一种蒸镀用遮挡装置，用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染，包括:
[0021 ] 一遮挡基板I ；
[0022]用于增加所述遮挡基板I的表面的不平整度的遮挡结构2，所述遮挡结构2设置于所述遮挡基板I上。
[0023]所述遮挡结构2的设置增加了所述遮挡基板I的表面的平整度，所述遮挡结构2与所述遮挡基板I相配合使用，增加了蒸镀源挥发的材料的附着力，增加了遮挡装置的使用寿命，相对于现有技术中仅设置板子的遮挡装置，本实施例中的遮挡装置不必频繁的更换，节省人力物力，且遮挡装置更加有效的承载蒸镀源挥发的材料，防止了真空腔体的污染。
[0024]本实施例中，所述遮挡结构2可以与所述遮挡基板I为一整体结构，所述遮挡结构2的具体形式可以有多种，只要实现增加所述遮挡基板I的不平整度、与所述遮挡基板I配合可以有效的承载蒸镀源挥发的材料即可，本发明一实施例中，所述遮挡基板I的表面设置凹凸结构以形成所述遮挡结构2，该凹凸结构可与所述遮挡基板I 一体成型。
[0025]所述凹凸结构可以是规律的、一致性的结构，也可以是不规律的结构。
[0026]为了可以承载较多的材料所述遮挡结构2要有一定的深度，本实施例中，所述遮挡结构2为多个中空柱体结构连接形成的网格状结构。蒸镀源挥发的材料有效的固定在网格状结构中且不易掉落，所述中空柱体结构的深度不宜太深、深度太大会影响蒸镀源挥发的材料的进入，优选的，本实施例中的中空柱体结构的深度为:lmm-3mm。
[0027]蒸镀材料在网格状结构上沉积后情况如图2中所示，图2表示的是一个中空柱体结构的示意图，落在遮挡I上的材料较少，落在遮挡基板I和柱体结构交界处的材料较多，由于网格状结构的存在，材料被很好的固定在了遮挡装置里，不易发生掉落，此外，由于中空柱体结构存在一定的深度，因此，能够容纳更多的蒸镀物质。
[0028]所述中空柱体的截面的形状可以是几何形状或者不规则的非几何形状，本实施例中，所述中空柱体结构的截面形状为圆形、四边形或六边形。
[0029]优选的，所述网格状结构与所述遮挡基板I分体式设置，即所述网格状结构可拆卸的连接于所述遮挡基板I上，便于清洗维护。
[0030]所述网格状结构与所述遮挡基板I的连接方式可以有多种，只要实现所述遮挡结构2与所述遮挡基板I两部分的分体式设置即可，本实施例中，所述网格状结构磁性吸附于所述遮挡基板I上。磁性吸附的连接方式使得所述遮挡结构2和所述遮挡基板I有效的进行连接，消除了遮挡结构2和遮挡基板I之间的空隙。
[0031]优选的，所述遮挡基板I采用铁制作，所述网格状结构采用磁性材料或可磁化材料制作，利于所述遮挡结构2和所述遮挡基板I之间的分离。
[0032]进一步的，如图1所示，所述网格状结构包括多个子网格状结构21。将网格状结构划分为多个子网格状结构21的形式方便了所述遮挡结构2与所述遮挡极板之间的组装。
[0033]进一步的，所述遮挡基板I用于连接所述遮挡结构2的一面设置有用于吸附蒸镀出的材料的吸附涂层。吸附涂层的设置提高了遮挡装置对蒸镀源挥发的材料的吸附力。
[0034]本发明实施例还提供一种蒸镀设备，包括蒸镀源、真空腔体以及设置于所述真空腔体内的上述的蒸镀用遮挡装置。
[0035]以上所述为本使用新型较佳实施例，应当说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以做出如下修改和润饰，这些修改和润饰也应视为本发明保护范围。
【主权项】
1.一种蒸镀用遮挡装置，用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染，其特征在于，包括: 一遮挡基板； 用于增加所述遮挡基板的表面的不平整度的遮挡结构，所述遮挡结构设置于所述遮挡基板上。2.根据权利要求1所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述遮挡基板的表面设置凹凸结构以形成所述遮挡结构。3.根据权利要求1所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述遮挡结构为多个中空柱体结构连接形成的网格状结构。4.根据权利要求3所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述中空柱体结构的截面形状为圆形、四边形或六边形。5.根据权利要求3所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述网格状结构可拆卸的连接于所述遮挡基板上。6.根据权利要求4所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述网格状结构磁性吸附于所述遮挡基板上。7.根据权利要求6所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述遮挡基板采用铁制作，所述网格状结构采用磁性材料或可磁化材料制作。8.根据权利要求3所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述网格状结构包括多个子网格状结构。9.根据权利要求1所述的蒸镀用遮挡装置，其特征在于，所述遮挡基板用于连接所述遮挡结构的一面设置有用于吸附蒸镀出的材料的吸附涂层。10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括蒸镀源、真空腔体以及设置于所述真空腔体内的权利要求1-9任一项所述的蒸镀用遮挡装置。
【专利摘要】本发明涉及一种蒸镀用遮挡装置，用于防止蒸镀时材料对蒸镀设备的污染，包括：一遮挡基板；用于增加所述遮挡基板的表面的不平整度的遮挡结构，所述遮挡结构设置于所述遮挡基板上。本发明的有益效果是：增加遮挡装置的使用寿命，防止真空腔体的污染。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN105568224
【申请号】CN201610059917
【发明人】赵德江
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2016年1月28日