加热源5和加热源6的设置进一步地避免了待镀膜载体3内的应力分布不均导致的薄膜表面的平整度较差、待镀膜载体3局部出现碎片等问题。
[0031]如图4所示的镀膜设备中，溅射装置2可对放置在预加热源5上的待镀膜载体3喷射溅射清洗粒子。预加热源5是位于镀膜腔体I外部的。本实施例中，在对待镀膜载体3进行溅射清洗时，就可以进行预加热，一定程度上可以节约对待镀膜载体3的加热时间，提高生产效率；同时，由于预加热使待镀膜载体3的温度升高，一定程度上降低了吸附在其表面的水分子和油污分子的清洗难度，相较于在室温条件下对待镀膜载体3进行溅射清洗，温度升高后的溅射清洗效果更好。
[0032]较佳地实施例中，所述预加热源上设有匀热层，所述匀热层的上表面与放置在所述支撑台上的所述待镀膜载体的下表面贴合。一般加热源上也设有匀热层。具体得，预加热源和加热源可以通过匀热层对待镀膜载体进行加热。通常匀热层的形状可以是待镀膜载体的下表面的形状。匀热层的设置，可以使待镀膜载体受热均匀。使用实施例的镀膜设备给待镀膜载体进行加热时，匀热层可以使待镀膜载体的受热均匀，进而在镀膜时可以使薄膜的晶化均匀，最终使得薄膜厚度和密度都均匀。
[0033]匀热层通常是由金属材料构成的金属导热层。优选的是，匀热层的材料包括镍层和/或铬层。因为镍、铬的导热性好，且耐高温。
[0034]通常，所述加热源和/或预加热源包括电源和电阻丝，所述电阻丝的形状为同心圆环状、回字状或网格状。具体为，加热源和/或预加热源是通过电源对电阻丝通电，使电阻丝达到一定的温度，以便于电阻丝对待镀膜载体进行加热。用电源和电阻丝对待镀膜载体进行加热，可以方便控制待镀膜载体的加热温度。电阻丝通常是钨丝或钼丝，钨丝和钼丝的导热性好、熔点也较高。其中，所述同心圆环状为至少两个半径不同的同心圆构成的圆环状，如图3、4所示的电阻丝7 ;所述网格状是由至少两个方格构成的网格状，如图5所示的电阻丝；所述回字状是由至少两个矩形构成的回字状，如图6所示的电阻丝。设置成这些形状，可以使电阻丝较为均匀的分散热量，进而使被加热物体的受热均匀。
[0035]较佳地实施例中，所述预加热源功率为所述加热源功率的40%-60%。所述预加热源功率是指预加热源的电源功率，所述加热源功率是指加热源的电源功率。通过控制预加热源功率和加热源功率，可以分别控制被加热物体的预加热温度和加热温度，以便于更好地控制被加热物体的分级加热。
[0036]为了方便在镀膜过程中，将待镀膜载体运送到镀膜腔体中进行镀膜，如图7所示的镀膜设备中，支撑台4为一端伸入镀膜腔体I内的平板，在所述平板上设有一对伸入镀膜腔体I内的平行导轨8，且在两个平行导轨8朝向对方的一侧各设有数个导向轮9。
[0037]如图7所示的镀膜设备具体的操作包括:将待镀膜载体3安装在导轨8的一端，进行初步清洗(一般是依次经过去离子水、丙酮、去离子水、乙醇、去离子水的反复清洗)，初步清洗后在保护气体下对待镀膜载体3做烘干处理，然后通过导向轮9将待镀膜载体3运送到通过溅射装置2可以将溅射清洗粒子喷射到待镀膜载体3上的位置，并通过溅射装置2喷射溅射清洗粒子对待镀膜载体3进行溅射清洗，同时通过预加热源5对待镀膜载体3进行预加热(当待镀膜载体位于预加热源上，且由于待镀膜载体与所述溅射装置的相对位置，而使得溅射装置不能对待镀膜载体喷射溅射清洗粒子时，对待镀膜载体也可以先进行溅射清洗，再进行预加热；或先进行预加热，再进行溅射清洗)至一定的温度(可以是130-140°C )，预加热后通过导向轮9将待镀膜载体3运送到加热源6上(若通过预加热待镀膜载体3的温度为130-140°C，通过控制待镀膜载体3到达加热源6的时间，从而控制待镀膜载体3到达加热源时的温度，一般待镀膜载体3到达加热源5时的温度可以是90-110C )，在镀膜腔体I内对待镀膜载体3进行加热及镀膜。本实施例中溅射清洗，是在镀膜腔体外进行的。待镀膜载体3—般是玻璃基板。
[0038]另一实施例中，提供一种镀膜方法，包括:在镀膜腔体外部将镀膜载体进行溅射清洗。
[0039]镀膜载体一般是玻璃基板。本实施例的镀膜方法可以使用如图1所示的镀膜设备进行镀膜，具体过程包括:将待镀膜载体3放置在镀膜腔体I外部的相应位置上，调整溅射装置2的喷射角度，并通过溅射装置2向待镀膜载体3上喷射溅射清洗粒子，进而将待镀膜载体3进行溅射清洗。溅射清洗的原理，是指溅射清洗粒子以一定的能量轰击待镀膜载体的表面，使待镀膜载体近表面的水分子、油污分子等污染物分子获得足够大的能量而最终逸出待镀膜载体表面，进而能够溅射清洗待镀膜载体。所述溅射清洗粒子可以是离子、中性原子等，通常是带正电荷的惰性气体离子，用的最多的是氩离子。具体实施中通常为:氩电离后，氩离子在电场加速下获得动能轰击镀膜载体，当氩离子能量低于5电子伏时，仅对镀膜载体最外表层产生作用，主要使镀膜载体表面吸附的杂质脱附。通常溅射清洗是在真空状态下进行的。
[0040]本实施例中，在镀膜腔体外部将镀膜载体进行溅射清洗，避免了溅射清洗镀膜载体时清洗掉的水分子、油污分子等污染物污染镀膜腔体内环境，提高了镀膜腔体内环境的质量，避免了待镀膜载体在镀膜时受到再次污染；同时，通过溅射清洗可以清洗掉待镀膜载体表面的水分子、油污分子等污染物，进而可以提高待镀膜载体与薄膜之间的结合力。
[0041]较佳的实施例中，所述镀膜方法，还包括将镀膜载体先后进行预加热和加热的步骤。具体地，使用如图3所示的的镀膜设备，先用预加热源5对待镀膜载体3进行预加热，使其达到一定的温度，并将待镀膜载体3维持这一温度一段时间或者使待镀膜载体3稍微降温，之后再使用加热源6对已经预热后的待镀膜载体3进行加热至薄膜材料的晶化温度，这样就实现了对待镀膜载体3的分级加热。所述薄膜材料是指，需要在待镀膜载体上成膜的材料。
[0042]本实施例中的镀膜设备的预加热和加热，相对于只进行一步加热，其可以实现对待镀膜载体进行分级加热，且耗费较短的时间，这样可以避免使待镀膜载体由室温状态骤升到晶化温度进而影响到待镀膜载体内的应力分布的现象。应力分布不均会导致制备的薄膜表面的平整度较差，甚至由于应力分布不均会使待镀膜载体局部出现碎片等现象。因此，预加热源和加热源的设置进一步地避免了待镀膜载体内的应力分布不均导致的薄膜表面的平整度较差、镀膜载体局部出现碎片等问题。
[0043]优选的是，所述将待镀膜载体进行溅射清洗和将镀膜载体进行预加热同时进行。具体地，使用如图4、7所示的镀膜设备，将待镀膜载体3放置在预加热源5上时时，在对待镀膜载体3进行溅射清洗时，就可以通过预加热源5进行预加热。这在一定程度上可以节约对待镀膜载体的加热时间，提高生产效率；同时，由于预加热使待镀膜载体的温度升高，一定程度上降低了吸附在其表面的水分子和油污分子的清洗难度，相较于在室温条件下对待镀膜载体进行溅射清洗，温度升高后的溅射清洗效果更好。
[0044]通常，所述预加热是均匀加热。具体地，使用匀热层可以实现对待镀膜载体的均匀加热。待镀膜载体的受热均匀，在镀膜时可以使薄膜的晶化均匀，最终使得薄膜厚度和密度都均匀。另外，若在预加热时或预加热后进行溅射清洗，由于对镀膜载体是均匀加热，待镀膜载体使均匀受热，可以使待镀膜载体更为均匀地进行溅射清洗。
[0045]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括镀膜腔体和溅射装置，所述溅射装置可对放置在所述镀膜腔体外的待镀膜载体喷射溅射清洗粒子。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括位于所述镀膜腔体外的支撑台，所述待镀膜载体放置在所述支撑台上被溅射清洗。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑台上间隔设有对放置在所述支撑台上的所述待镀膜载体进行加热的预加热源和加热源，且所述加热源位于所述镀膜腔体内。
4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述预加热源上设有匀热层，所述匀热层的上表面与放置在所述支撑台上的所述待镀膜载体的下表面贴合。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，所述匀热层包括镍层和/或铬层。
6.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述预加热源包括电源和电阻丝，所述电阻丝的形状为同心圆环状、回字状或网格状。
7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述预加热源的功率为所述加热源的功率的40% -60%。
8.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述支撑台为一端伸入所述镀膜腔体内的平板，在所述平板上设有一对伸入所述镀膜腔体内的平行导轨，且在两个所述平行导轨朝向对方的一侧各设有数个导向轮。
【专利摘要】本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种镀膜设备。本实用新型提供的镀膜设备包括镀膜腔体和溅射装置，所述溅射装置可对放置在所述镀膜腔体外的待镀膜载体喷射溅射清洗粒子。本实用新型提供的镀膜设备解决了由于在镀膜腔体内部进行溅射清洗而导致镀膜腔体内环境受到污染的技术问题，该镀膜设备可应用于镀膜工艺中。
【IPC分类】C23C14-22, C23C14-02
【公开号】CN204570023
【申请号】CN201520244970
【发明人】张启平, 孙文波, 刘同敏, 夏继泰
【申请人】合肥京东方显示光源有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年4月21日