同样为边长为I的正方形框。
[0038]规定横向为X方向，纵向为Y方向，假设当掩膜板与基板对准时，图1(b)中的第二矩形框与图1(a)中坐标为(0，0)的第一矩形框相对应:则在进行有机材料蒸镀后，若第二矩形框在基板上转移的对位图案与第一 TEG的(0，0)位置处的第一矩形框相对应，说明不存在蒸镀偏位，掩膜板与基板的对位精准，如图2中(a)所示；在进行有机材料蒸镀后，若第二矩形框在基板上转移的对位图案与第一 TEG的(1，I)位置处的间隙相对应，说明存在蒸镀偏位，掩膜板与基板在横向和纵向分别偏移了一个单位的距离，如图2中(b)所示。
[0039]参见图3，为本实用新型的调整蒸镀偏位的装置中第一 TEG和第二 TEG另一实施例的结构示意图。如图3(a)所示，该第一 TEG包括9个第一矩形框，9个第一矩形框构成的3*3矩阵结构，且9个第一矩形框均为边长为I ( 一个单位的长度，下同)的正方形框，相邻两个第一矩形框之间的距离均为I ;如图3(b)所示，第二 TEG只包括一个第二矩形框，且该第二矩形框为边长为2 (两个单位的长度)的正方形框。
[0040]假设当掩膜板与基板对准时，图3(b)中的第二矩形框与图3(a)中位于左上角的第一矩形框及其周边的三个间隙相对应:则在进行有机材料蒸镀后，若第二矩形框在基板上转移的对位图案与第一 TEG的位置关系为图4(a)所示，则说明不存在蒸镀偏位，掩膜板与基板的对位精准；若第二矩形框在基板上转移的对位图案与第一 TEG的位置关系为图4(b)所示，则说明存在蒸镀偏位，掩膜板与基板之间在横向偏移了一个单位的距离。
[0041]本实用新型中，第一 TEG和第二 TEG的数量不限，根据不同的工艺需求而设定。
[0042]作为一种可实施方式，第一 TEG为一个，第二 TEG为多个；掩膜板与基板对准后，不同的第二 TEG分别对应第一 TEG的不同位置，即每个第二 TEG的第二矩形框均对应第一 TEG的不同的预设区域。在OLED的制备过程中，通常会在基板上沉积多层有机材料层，如果所有材料层均使用相同的对位标记，则容易使得对位发生混淆，不利于蒸镀偏位的调整。而本实施例中，可将不同的材料层对应不同的第二 TEG，而不同的第二 TEG所对应的第一 TEG的不同位置，进而将不同有机材料层的对位标记进行了区分，便于偏移量的观察；并且，第一TEG和第二 TEG的对应关系为一对多，因而大大减少了第一 TEG的设置数量，节约了工序。
[0043]作为另一种可实施方式，第一 TEG为多个，第二TEG为多个；掩膜板与基板对准后，多个第一 TEG与多个第二 TEG —一对应。该方式中将不同的有机材料层分别对应不同的第一 TEG和不同的第二 TEG，从而使得各个有机材料层的对位标记相互独立，不存在共用关系，进一步提高了蒸镀偏差的调整效率。
[0044]具体地，参见图5，为本实用新型的基板一实施例的结构不意图。如图5所不，基板包括有机材料蒸镀区域I1以及第一对位区域120，第一对位区域120设置在有机材料蒸镀区域110的外围。其中，有机材料蒸镀区域110用于承载蒸镀的有机材料，属于基板的显示区域，通常位于基板的中部位置；第一对位区域120主要用于基板的对位及后续安装，通常位于基板的边界位置。较佳地，作为一种可实施方式，第一 TEG设置在第一对位区域120中。
[0045]在OLED的制备过程中，通常要在基板上蒸镀HIL (hole inject1n layer，空穴注入层)的有机材料，而HIL的有机材料分为R/G/B三种有机材料，在做像素R或像素G的HIL时，如果基板上已经存在像素B的HIL，则会导致像素R或像素G的HIL的位置看不清楚，而一般的像素B的HIL使用Open Mask (开放式掩膜板)来进行掩膜，因此将第一 TEG设置在有机材料蒸镀区域110以外的第一对位区域120中，可以使得像素R和像素G的HIL边界更明显，有利于蒸镀过程中掩膜板与基板的对位。
[0046]此外，在进行OLED的制作时，除了蒸镀HIL材料之外，还需要进行EML (emittingmaterial layer，发光材料层)材料的蒸镀。当进行EML材料蒸镀时，所使用的掩膜板通常包括有效区域210和设置在有效区域210外围的第二对位区域220，如图6所示，有效区域210和第二对位区域220中均设置有多个矩形构图孔230。其中，有效区域210是指图6中虚线框中的区域，主要用于构成显示区域的图案，通常位于掩膜板的中部位置；第二对位区域是指图6中虚线框以外的区域，主要用于进行掩膜板的对位，通常位于掩膜板的边界位置。较佳地，可在第二对位区域220中选定一个或多个矩形构图孔230作为第二 TEG。该方式中，无需在掩膜板上进行第二 TEG的制作，只需要在基板上制作与选定的矩形构图孔230相对应的第一 TEG即可，减少了工序，提高了掩膜板的强度和使用寿命。
[0047]具体地，利用本实用新型的装置进行蒸镀偏位的调整可包括以下步骤:
[0048]S100，将掩膜板覆盖在基板上，在基板上蒸镀有机材料层，蒸镀完毕后，掩膜板的图案转移到基板上，其中，掩膜板的第二 TEG所转移的图案为对位图案；
[0049]S200，将掩膜板从基板上移开，利用CXD镜头观察对位图案与基板上的第一 TEG的预设区域的位置偏差，将观察到的位置偏差输入蒸镀设备，完成该有机材料层蒸镀偏位的一次调整。
[0050]在需要调整多层有机材料层的蒸镀偏位时，可步骤S200之后，直接在原来的基板上进行下一层有机材料层的蒸镀，实现基板的重复利用。
[0051]本实用新型的调整蒸镀偏位的装置，能够在不把蒸镀后的基板拿出蒸镀腔室的情况下，直观得出蒸镀偏差，并可以快速的调整蒸镀偏位，提高了生产效率及产品的良率；且由于无需将蒸镀后的基板拿出蒸镀腔室，因而可实现基板的重复利用，大大降低了材料成本。
[0052]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，包括 基板，所述基板上设置有第一 TEG，所述第一 TEG包括多个结构相同的第一矩形框，所述多个第一矩形框沿横向和纵向间隔分布，形成矩阵结构； 掩膜板，所述掩膜板上设置有第二 TEG，所述第二 TEG包括至少一个第二矩形框，所述掩膜板与所述基板对准后，所述第二矩形框与所述第一 TEG中的预设区域相对应；以及 用于观察蒸镀偏位的CCD镜头，所述CCD镜头设置在蒸镀腔室中。2.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，横向方向上相邻的两个所述第一矩形框之间的距离与所述第一矩形框的长度相等，纵向方向上相邻的两个所述第一矩形框之间的距离与所述第一矩形框的宽度相等。3.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述第二矩形框的长度为所述第一矩形框长度的整数倍，所述第二矩形框的宽度为所述第一矩形框宽度的整数倍。4.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述第一矩形框和所述第二矩形框均为正方形。5.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述基板包括有机材料蒸镀区域以及设置在所述有机材料蒸镀区域外围的第一对位区域，所述第一 TEG设置在所述第一对位区域中。6.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述掩膜板包括有效区域以及设置在所述有效区域外围的第二对位区域，所述有效区域和所述第二对位区域中均设置有多个矩形构图孔，所述第二 TEG选自所述第二对位区域中多个矩形构图孔中的一个或多个。7.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述第一TEG的每一行和每一列上均设置有数字标识。8.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，每个所述第一矩形框内以及相邻两个所述第一矩形框的间隙中均设置有数字标识。9.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述第一TEG为一个，所述第二 TEG为多个，所述掩膜板与所述基板对准后，不同的所述第二 TEG分别对应所述第一TEG的不同位置。10.根据权利要求1所述的调整蒸镀偏位的装置，其特征在于，所述第一TEG为多个，所述第二 TEG为多个，所述掩膜板与所述基板对准后，所述多个第一 TEG与所述多个第二 TEG——对应。
【专利摘要】本实用新型公开了一种调整蒸镀偏位的装置，包括基板、掩膜板和CCD镜头，其中，所述基板上设置有第一TEG，所述第一TEG包括多个结构相同的第一矩形框，所述多个第一矩形框沿横向和纵向间隔分布，形成矩阵结构；所述掩膜板上设置有第二TEG，所述第二TEG包括至少一个第二矩形框，所述掩膜板与所述基板对准后，所述第二矩形框与所述第一TEG中的预设区域相对应；所述CCD镜头用于观察蒸镀偏位，并设置在蒸镀腔室中。本实用新型能够在不把蒸镀后的基板拿出蒸镀腔室的情况下，直观得出蒸镀偏差，并可以快速的调整蒸镀偏位，提高了生产效率及产品的良率；并可实现基板的重复利用，大大降低了材料成本。
【IPC分类】C23C14/24, C23C14/54
【公开号】CN204714884
【申请号】CN201520384974
【发明人】李伟丽, 朱修剑
【申请人】昆山国显光电有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月4日