一种制备功能薄膜的装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及制备功能薄膜技术领域，尤其是涉及一种制备功能薄膜的装置。
【背景技术】
[0002]各种类型的功能薄膜一般具有高硬度、低摩擦系数、红外光区透明、良好的化学惰性和生物相容性等，它不仅可作为各类保护层，还可作为生物材料涂层，因此能够广泛应用在机械、光学、微电子以及生物医学等多个领域。目前制备功能薄膜的方法主要有电化学法、物理气相沉积法和化学气相沉积法三大类，这些方法都是比较成熟的技术，但是它们也存在一定的缺陷:要么设备昂贵、要么结构复杂、要么操作程序烦琐、要么成膜速率低等。
【实用新型内容】
[0003]为克服上述问题，本实用新型采用如下技术方案:
[0004]—种制备功能薄膜的装置，包括圆筒外壳、封盖和底座，所述圆筒外壳、封盖和底座分别用螺丝连接在一起构成上气室和下气室，圆筒外壳的两个侧面安装有观察窗口，带有微放电孔的钼片电极、小陶瓷片和钼片电极自上而下依次叠接，通过大陶瓷片固定在圆筒外壳上，钼片电极通过导线接在射频电源上，所述底座的上部设有底板阳极上，底板阳极下部设有底板支撑架，上部设有基片，底板阳极通过导线与设置在圆筒外壳上的陶瓷管与高频电源连接，底座上安装有真空栗接口和排气口，封盖上开有进气口。
[0005]所述大陶瓷片与基片的间距为15mm。
[0006]所述底板阳极为不锈钢板。
[0007]本实用新型的优点是:它结构简单、操作方便、成膜速率高。
【附图说明】
[0008]图1是本实用新型的俯视结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]如图1所示，一种制备功能薄膜的装置，包括圆筒外壳1、封盖6和底座10，所述圆筒外壳1、封盖6和底座10分别用螺丝连接在一起构成上气室11和下气室12，圆筒外壳I的两个侧面安装有观察窗口 7，带有微放电孔15的钼片电极2、小陶瓷片3和钼片电极4自上而下依次叠接，通过大陶瓷片5固定在圆筒外壳I上，钼片电极2通过导线接在射频电源17上，所述底座10的上部设有底板阳极9上，底板阳极9下部设有底板支撑架13，上部设有基片8，底板阳极9通过导线与设置在圆筒外壳I上的陶瓷管16与高频电源18连接，底座10上安装有真空栗接口 19和排气口 20，封盖6上开有进气口 14。
[0010]所述大陶瓷片5与基片8的间距为15mm。
[0011]所述底板阳极9为不锈钢板。。
[0012]工作原理如下:
[0013]首先利用真空栗把气室抽为真空，然后从进气口 14输入混合气体，气体流速为150sCCm，气体经过辉光放电等离子体发生化学反应，反应产物在样品基片8上沉积出薄膜，废气从排气口 20抽出，在沉积薄膜过程中，始终保持上气室11和下气室12中的气压恒定。由于该装置采用了微空心阴极放电阵列，放电在高气压下工作，提高了薄膜沉积速率和放电的稳定性。
【主权项】
1.一种制备功能薄膜的装置，包括圆筒外壳(I)、封盖(6)和底座(10)，其特征在于:所述圆筒外壳(I)、封盖(6)和底座(10)分别用螺丝连接在一起构成上气室(11)和下气室(12)，圆筒外壳(I)的两个侧面安装有观察窗口(7)，带有微放电孔(15)的钼片电极(2)、小陶瓷片(3)和钼片电极(4)自上而下依次叠接，通过大陶瓷片(5)固定在圆筒外壳(I)上，钼片电极(2)通过导线接在射频电源(17)上，所述底座(10)的上部设有底板阳极(9)上，底板阳极(9)下部设有底板支撑架(13)，上部设有基片(8)，底板阳极(9)通过导线与设置在圆筒外壳(I)上的陶瓷管(16)与高频电源(18)连接，底座(10)上安装有真空栗接口( 19)和排气口(20)，封盖(6)上开有进气口(14)。2.根据权利要求1所述的一种制备功能薄膜的装置，其特征在于:所述大陶瓷片(5)与基片(8)的间距为15mm。3.根据权利要求1所述的一种制备功能薄膜的装置，其特征在于:所述底板阳极(9)为不锈钢板。
【专利摘要】一种制备功能薄膜的装置，包括圆筒外壳、封盖和底座，所述圆筒外壳、封盖和底座分别用螺丝连接在一起构成上气室和下气室，圆筒外壳的两个侧面安装有观察窗口，带有微放电孔的钼片电极、小陶瓷片和钼片电极自上而下依次叠接，通过大陶瓷片固定在圆筒外壳上，钼片电极通过导线接在射频电源上，所述底座的上部设有底板阳极上，底板阳极下部设有底板支撑架，上部设有基片，底板阳极通过导线与设置在圆筒外壳上的陶瓷管与高频电源连接，底座上安装有真空泵接口和排气口，封盖上开有进气口；本实用新型的优点是：它结构简单、操作方便、成膜速率高。
【IPC分类】C23C16/513
【公开号】CN204779802
【申请号】CN201520335883
【发明人】周卫
【申请人】周卫
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年5月22日