1处施压以将坩祸I固定在翻转支架22上。在本实施例中，翻转支架22上还设有多根坩祸支撑柱211，多根坩祸支撑柱211合围形成坩祸I固定区域，坩祸I落在坩祸支撑柱211上，旋转压紧气缸工作时正旋向下移动压紧，将坩祸I压紧固定在坩祸支撑柱211上；当完成清洁后，旋转压紧气缸反旋向上移动，以松开对坩祸I的压紧固定。通过采取向下压紧固定的方式，无需对坩祸I的锅体本身形成很大的压力即可将坩祸I固定在翻转支架22上，同时结合坩祸支撑柱211，固定效果好，且不会对坩祸I造成损坏。通过设置凸出部11，旋转压紧气缸施压在凸出部11上，使得坩祸I在翻转倾倒时，坩祸I内的样品不会掉落在旋转压紧气缸上，这样既不会对旋转压紧气缸造成污染，也不会造成待坩祸I翻转复位后位于旋转压紧气缸的样品回落至坩祸I内，确保坩祸I内无样品残留。
[0035]关于坩祸固定组件21，在本发明的另一个实施例中，坩祸固定组件21包括一个以上设置在翻转支架22上的通电磁铁，所述坩祸I上设有用于与通电磁铁相磁吸配合的磁性部。通电磁铁又名电磁铁，其不通电的时候是没有磁性的，通电的时候才有磁性，且磁吸效果好。在本实施例中，翻转支架22上同样设有多根坩祸支撑柱211，多根坩祸支撑柱211合围形成坩祸I固定区域，通电磁铁可以设置在坩祸支撑柱211上(在其他实施例中，通电磁铁也可以以其他方式布置，如直接布置在翻转支架22上承载坩祸I的地方，即与坩祸I的外底面接触处)，当坩祸I还未被送入的时候，坩祸支撑柱211上的通电磁铁不通电不产生磁性；当坩祸I被送入并落放于坩祸支撑柱211上时，坩祸支撑柱211上的通电磁铁通电以产生磁性，通电磁铁与坩祸I上的磁性部磁吸配合，坩祸I被牢牢的吸附固定；当整个清扫工作结束后，通电磁铁断电不产生磁性，以便于坩祸I的取走。在本实施例中，坩祸I整体由可磁吸的金属(如铁等)制成。在其他实施例中，坩祸I的磁性部还可以为带有磁性的磁石，该磁石与磁铁组件吸附配合。当然，坩祸I的磁性部还可以为不带磁性的可磁吸的金属，如铁等，只要其能够与带磁性的磁铁组件磁吸配合即可。
[0036]进一步，在较佳实施例中，翻转支架22远离清扫机构3的一侧的下方设有第一缓冲弹簧25。当清扫完成后，翻转机构2会带动坩祸I翻转回到原始工位，通过在底部设置第一缓冲弹簧25，能有效缓冲翻转机构2回落时的冲击力，对设备进行有效保护。
[0037]进一步，在较佳实施例中，翻转机构2上还设有用于清扫坩祸I外壁的第一气吹组件26，第一气吹组件26包括两个以上布置于坩祸I下方的气嘴，两个以上的气嘴均朝向坩祸I设置。气嘴外接高压气源，布置于坩祸I下方的气嘴能对坩祸I的底部和外壁进行高压气吹式的清扫，通过设置清扫机构3对坩祸I的内壁进行清洁和第一气吹组件26对坩祸I的外壁进行清洁的内外双重清洁的模式，使得坩祸I的内外部都被清洁干净，确保坩祸I上无样品残留。
[0038]进一步，在较佳实施例中，清扫机构3包括清扫刷31和清扫驱动组件32，清扫刷31的顶面与翻转后的坩祸I的内底面接触，清扫驱动组件32设于清扫刷31的下方用于驱动清扫刷31水平旋转以对坩祸I进行清扫。当翻转机构2带动坩祸I 一同朝向清扫机构3翻转180度，翻转后的坩祸I以倒扣的形态处于清扫机构3的上方时，清扫刷31的顶面正好与翻转后的坩祸I的内底面接触，清扫驱动组件32驱动清扫刷31水平旋转以进行清扫。在本实施例中，清扫驱动组件32包括清扫电机321、连接轴322和挡灰盖323，清扫刷31通过连接轴322与清扫电机321连接，挡灰盖323设置在清扫电机321上方用于遮挡掉落的样品，使得样品不会掉落在清扫电机321上造成污染。
[0039]进一步，在较佳实施例中，清扫刷31的横向宽度不小于坩祸I的内径长度，清扫刷31的横向两端侧面与翻转后的坩祸I的内侧壁接触以进行清扫。通过这样的设置，清扫刷31清扫时可以同步清扫坩祸I的底面和内测面，清扫更加干净。
[0040]进一步，在较佳实施例中，清扫机构3还包括用于对坩祸I的内壁进行气吹清扫的第二气吹组件33。在本实施例中，第二气吹组件33也包括与外接高压气源连通的气嘴，通过设置清扫刷31和第二气吹组件33进行双重清洁的模式，使得坩祸I的内部被清洁得更加干净，进一步确保坩祸I内无样品残留。
[0041]进一步，在较佳实施例中，清扫机构3远离翻转机构2的一侧设有第二缓冲弹簧34，翻转机构2翻转后压负于第二缓冲弹簧34上。通过设置第二缓冲弹簧34，能有效缓冲翻转机构2翻转时的冲击力，对设备进行有效保护。
[0042]需要说明的是，在本实施例的上述结构的启发下，本领域的普通技术人员可以在清扫机构3的下方设置用于收集废弃样品的样品收集机构(图中未示出)，样品收集机构可以为一个收集桶或者收集腔室等等，可直接装设在清扫机构3的下方。当装载有样品的坩祸I完成分析实验后，坩祸I直接被转送至翻转机构2上，翻转机构2带动坩祸I 一同朝向清扫机构3翻转180度并倒扣于清扫机构3的上方，将坩祸I内的废弃样品倾倒进样品收集机构里。
[0043]以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种坩祸卸料清扫装置，其特征在于，包括用于承载坩祸(I)的翻转机构(2)和用于对翻转卸料后的坩祸(I)进行清扫的清扫机构(3)，所述翻转机构(2)上设有用于固定坩祸(I)的坩祸固定组件(21)，所述清扫机构(3 )设置于翻转机构(2 )的一侧，所述翻转机构(2 )带动坩祸(I) 一同翻转卸料后倒扣于清扫机构(3)的上方以使清扫机构(3)对坩祸(I)进行清扫。2.根据权利要求1所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述翻转机构(2)包括翻转支架(22)、旋转轴组件(23)和翻转驱动组件(24)，所述坩祸(I)固定于翻转支架(22)上，所述翻转支架(22 )靠近清扫机构(3 )的一侧设有旋转轴组件(23 )，所述翻转驱动组件(24)与翻转支架(22)连接用于驱动翻转支架(22)沿旋转轴组件(23)进行翻转。3.根据权利要求2所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述坩祸(I)的开口外沿处设有凸出部(11)，所述坩祸固定组件(21)包括一个以上设置于翻转支架(22)上的旋转压紧气缸，所述旋转压紧气缸对坩祸(I)的凸出部(11)施压以将坩祸(I)固定在翻转支架(22)上。4.根据权利要求2所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述坩祸固定组件(21)包括一个以上设置在翻转支架(22)上的通电磁铁，所述坩祸(I)上设有用于与通电磁铁相磁吸配合的磁性部。5.根据权利要求2所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述翻转支架(22)远离清扫机构(3)的一侧的下方设有第一缓冲弹簧(25)。6.根据权利要求1?5中任意一项所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述翻转机构(2)上还设有用于清扫坩祸(I)外壁的第一气吹组件(26)，所述第一气吹组件(26)包括两个以上布置于坩祸(I)下方的气嘴，两个以上的所述气嘴均朝向坩祸(I)设置。7.根据权利要求1?5中任意一项所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述清扫机构(3 )包括清扫刷(31)和清扫驱动组件(32 )，所述清扫刷(31)的顶面与翻转后的坩祸(I)的内底面接触，所述清扫驱动组件(32)设于清扫刷(31)的下方用于驱动清扫刷(31)旋转以对樹祸(I)进行清扫。8.根据权利要求7所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述清扫刷(31)的横向宽度不小于坩祸(I)的内径长度，所述清扫刷(31)的横向两端侧面与翻转后的坩祸(I)的内侧壁接触以进行清扫。9.根据权利要求8所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述清扫机构(3)还包括用于对坩祸(I)的内壁进行气吹清扫的第二气吹组件(33)。10.根据权利要求8所述的坩祸卸料清扫装置，其特征在于，所述清扫机构(3)远离翻转机构(2)的一侧设有第二缓冲弹簧(34)，所述翻转机构(2)翻转后压负于第二缓冲弹簧(34)上。
【专利摘要】本发明公开了一种坩埚卸料清扫装置，包括用于承载坩埚的翻转机构和用于对翻转卸料后的坩埚进行清扫的清扫机构，翻转机构上设有用于固定坩埚的坩埚固定组件，清扫机构设置于翻转机构的一侧，翻转机构带动坩埚一同翻转卸料后倒扣于清扫机构的上方以使清扫机构对坩埚进行清扫。本发明既能完成卸料又能及时对卸料后坩埚进行有效清洁，坩埚清扫干净，无样品残留，不会对后续分析实验的精准度造成影响，工作效率高。
【IPC分类】B65G65/40, B65G65/00
【公开号】CN105151828
【申请号】CN201510637938
【发明人】李冬军, 肖兵球, 吴成乞
【申请人】湖南三德科技股份有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年9月30日