。
[0057]涂敷末端区域Z是指，如在上述【背景技术】所说明的那样，为了防止因停止从喷嘴7喷出涂液D而产生的涂膜厚度的不均，而调节喷嘴7的行走速度Vl并且使该喷嘴7向上方缓慢移动时，从增大喷嘴7与基板2之间的间隙间隔起停止喷出涂液D的区域。
[0058]图3表示为了增大与基板2之间的间隙间隔，而“使喷嘴7上升并行走”的一个方式、即使喷嘴7向斜上方移动的方式。
[0059]在涂敷处理步骤中，如图3(a)所示，使喷嘴用支承柱6从位于行走方向前方的基板2的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过从喷嘴7喷出的涂液D而对基板2进行涂敷处理，并且使固化机构用支承柱8从喷嘴用支承柱6的行走方向后方追随于喷嘴用支承柱6，从基板2的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过固化机构9而对涂敷在基板2上的涂液D进行固化处理。
[0060]此时，喷嘴7独立于以固化处理条件设定的固化机构9的行走，而以调节后的间隙间隔gl及行走速度Vl等单独地行走。同样，固化机构9也独立于以涂敷处理条件设定的喷嘴7的行走，以调节后的间隙间隔g2及行走速度v2等单独地行走。
[0061]之后，当喷嘴7及固化机构9到达基板2的涂敷末端区域Z时，执行涂敷末端处理步骤。在涂敷末端处理步骤中，如图3(b)所示，喷嘴用支承柱6使喷嘴7缓慢上升并行走，另一方面，固化机构用支承柱8将固化机构9的高度位置维持固定并行走，如图3 (c)所示，与以上升移动状态从基板2的涂敷末端脱离的喷嘴7无关地，固化机构9相对于基板2水平地进行平行移动，之后，与喷嘴7同样从基板2的涂敷末端向基板2外侧脱离。
[0062]以上所说明的本实施方式所涉及的基板的涂敷装置I具备固化机构用支承柱8，所述固化机构用支承柱8独立于喷嘴用支承柱6的行走，而单独地行走于行走轨道5具体而言为第二轨道构件5b上，并且独立于喷嘴7的升降动作，而单独地将固化机构9支承为升降自如，而且，本实施方式所涉及的基板的涂敷方法具备涂敷末端处理步骤，在涂敷末端处理步骤中，在到达基板2的涂敷末端区域Z时，喷嘴用支承柱6使喷嘴7上升并行走，另一方面，固化机构用支承柱8将固化机构9的高度位置维持固定并行走。
[0063]由此，即使为了防止涂膜厚度的不均，而从使行走的喷嘴7向上方移动从而增大喷嘴7与基板2之间的间隙间隔起停止喷出涂液D，也能够使用于使固化机构9进行升降动作(x2)的固化机构用支承柱8，与用于使喷嘴7进行升降动作(xl)的喷嘴用支承柱6分离而独立地单独行走，并将固化机构9与基板2之间的间隙间隔g2保持固定，从而能够使涂敷在基板2上的涂液D均质地固化。
[0064]其结果为，能够使通过喷嘴7而被涂敷在基板2整个平面上的涂膜厚度均匀化，并且还能够使对于被涂敷在基板2整个平面上的涂液D的由固化机构9实施的固化处理均质化。即，通过上述结构，不仅能够遍及基板2整个平面地确保涂膜厚度的均匀化及固化处理的均质化，就连在基板2的涂敷末端区域Z使喷嘴7向上方移动的情况下，也能够将追随于喷嘴7的固化机构9的高度位置维持固定，从而使涂敷末端区域Z的固化处理均质化。
[0065]另外，即使在一系列的从涂敷处理步骤到涂敷末端处理步骤的过程中，实施喷嘴7的行走速度调节的情况下，也能够在不与喷嘴7干涉的范围内，自由地设定固化机构9的行走速度v2，因此即使在涂敷末端区域Z等内变更喷嘴7的行走速度Vl的情况下，也能够使固化机构9以设定好的固定的行走速度v2行走，从而能够使固化处理均质化。
[0066]并且，由于具备固化机构用支承柱8，所述固化机构用支承柱8独立于喷嘴用支承柱6的行走而单独地行走于行走轨道5、具体而言为第二行走轨道构件5b上，因此与将喷嘴7和固化机构9连结在一起的结构不同，能够将喷嘴7及固化机构9的行走速度vl、v2自由地设定为适于涂敷处理及固化处理的行走速度，执行将速度设为参数的涂敷控制，从而能够提高处理控制的通用性。
[0067]虽然在上述说明中，将喷嘴7及固化机构9的行走速度vl、v2不同的情况作为示例，但显然这些行走速度vl、v2也可以相同(vl = v2)。如果采用这种方式，由于能够以将喷嘴7与固化机构9之间的距离y设为固定的方式而行走，因此能够将从涂敷涂液D到开始进行固化处理为止的时间设为固定，从而能够使涂液D的固化均匀。
[0068]在使行走速度vl、v2相同的情况下，在变更从涂敷涂液D到开始进行固化处理为止的时间时，只需变更从开始喷嘴7的行走到开始固化机构9的行走为止的时间间隔即可。
[0069]另一方面，在喷嘴到达涂敷末端的同时，停止从喷嘴喷出涂液，并使喷嘴向正上方上升的情况下，如图4所示，也能够执行涂敷处理步骤及涂敷末端处理步骤。
[0070]图4是对本发明所涉及的基板的涂敷方法的其他实施方式进行说明的说明图，表示为了增大与基板2之间的间隙间隔，“使喷嘴7上升并行走”以外的方式，即使喷嘴7以如下方式移动的方式，所述方式为，暂时停止喷嘴7的水平行走并上升，在上升结束后，重新进行水平行走。图4(a)表示涂敷处理步骤，图4(b)表示涂敷末端处理步骤的第一阶段，图4(c)表示涂敷末端处理步骤的第二阶段，图4(d)表示涂敷末端处理步骤的第三阶段。
[0071]在涂敷处理步骤中，如图4(a)所示，喷嘴7和固化机构9隔开固定的距离yl，以相同的速度(vl =v2)行走，如图4(b)所示，到喷嘴7在涂敷末端停止(vl = 0)为止，保持相同的距离yl。而且，如图4(c)所示，在喷嘴7向正上方上升的期间内，固化机构9也保持行走速度v2固定继续行走。由此，喷嘴7与固化机构9之间的距离变小(yl — y2)。当喷嘴7的上升结束时，如图4(d)所示，再次以行走速度vl开始喷嘴7的行走，在保持距离y2的状态下，固化机构9行走直至涂敷末端。即使在这种方式下，也能够获得与上述实施方式大致相同的作用效果。
[0072]在本实施方式中，虽然由第一行走轨道构件5a及第二行走轨道构件5b构成行走轨道5，使喷嘴用支承柱6沿着第一行走轨道构件5a行走，使固化机构用支承柱8沿着第二行走轨道构件5b行走，但是即使在使这些支承柱6、8在相同的行走轨道构件上行走的情况下，也能够实现相同的作用效果。
[0073]另外，即使使喷嘴用支承柱6沿着第二行走轨道构件5b行走，使固化机构用支承柱8沿着第一行走轨道构件5a行走，也能够实现相同的作用效果。
[0074]图5中示出了本发明所涉及的基板的涂敷方法的变形例。图5是对本变形例所涉及的涂敷方法进行说明的说明图。图5(a)表示位置交换步骤的前半部分，图5(b)表示位置交换步骤的后半部分，图5(c)表示位置交换步骤后的涂敷处理步骤。
[0075]在上述实施方式中，供喷嘴用支承柱6行走的第一行走轨道构件5a被配置在供固化机构用支承柱8行走的第二行走轨道构件5b和基板2之间。在该变形例中，固化机构用支承柱8以到达喷嘴7的上方的升降行程量H(参照图1)将固化机构9支承为升降自如，以使成为门型形态的横架构件的固化机构9越过同样成为门型形态的横架构件的喷嘴7。
[0076]由于喷嘴7沿着喷嘴用支承柱6的高度方向被支承为升降自如，因此升降行程量H最大限度地被延伸设定至比喷嘴7的上升极限高的位置处。但是，如果将使喷嘴7下降至下降极限的位置设为基准，则可以将到达喷嘴7的上方的升降行程量H设定得较短。
[0077]本变形例所涉及的涂敷方法适用于使喷嘴7及固化机构9往返行走而对基板2进行涂敷的情况。由往返行走实施的涂敷既可以适用于在基板2上重叠涂敷的情况，也可以适用于在往路和回路对更换了的其他基板2进行涂敷的情况。
[0078]在该变形例的情况下，如图1?图4所示，往路及回路的由喷嘴7及固化机构9实施的处理为，依次执行涂敷准备步骤、涂敷处理步骤、以及涂敷末端处理步骤。与上述实施方式的不同点为，包含位置交换步骤这一点。位置交换步骤为，为了往返行走，而交换喷嘴7和固化机构9的位置的步骤。
[0079]图5表示喷嘴用支承柱6行走于第一行走轨道构件5a上、固化机构用支承柱8行走于第二行走轨道构件5b上的情况。
[0080]这种情况下的位置交换步骤至少在结束从喷嘴7喷出涂液D，喷嘴用支承柱6及固化机构用支承柱8在基板2的外侧停止之后的待机状态下，如图5(a)所示，执行固化机构9的向喷嘴7上方的上升(在图中，用箭头标记si表TK )，如图5 (a)?图5 (b)所不，执行固化机构用支承柱8的向固化机构9跨越喷嘴7的位置的行走(在图中，用箭头标记s2表示)，以及如图5 (b)所示，执行固化机构9的下降(在图中，用箭头标记s3表示)，从而相对于成为回路的相反方向的行走方向对喷嘴7和固化机构9进行交换排序。
[0081]“至少结束从喷嘴7喷出涂液D”是指，固化机构9可以继续进行工作，即可以发出UV光L、或发热。
[0082]在本变形例中，如上所述，具备对喷嘴7和固化机构9进行交换排序的位置交换步骤，由于反复实施从涂敷处理步骤到位置交换步骤的过程，因此能够在往返方向上使喷嘴7及固化机构9行走。
[0083]在图1?4所示的实施方式中，只能在一个方向上进行涂敷，从而必定需要使支承柱6、8等返回至初始的位置后才能再次实施涂敷，但是在本变形例中，由于能够往返行走，因此能够通过一次往返对两个基板2进行处理、或进行重复涂敷，从而能够提高生产效率。
[0084]另外，由于在将喷嘴7和固化机构9连结在一起的结构中，无法交换它们的位置，因此为了能够进行往返行走，需要在喷嘴7的往返方向两侧设置固化机构9，会导致成本提高，但是在本变形例中，通过分别仅设置一个喷嘴7及一个固化机构9，便能够往返行走并进行涂敷/固化处理。
[0085]另外，由于能够自由地交换喷嘴