一种陶瓷喷涂式均匀上釉装置的制作方法

本发明涉及陶瓷加工技术领域，尤其涉及一种陶瓷喷涂式均匀上釉装置。

背景技术：

陶瓷材料是用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料。具有高熔点、高硬度、高耐磨性和耐氧化等优点。可用作结构材料、刀具材料和模具材料。对陶瓷进行上釉加工主要是为了增强陶瓷的观赏性和艺术性，同时也可对陶瓷起到保护的作用。传统人工手动上釉的方式是用专业的刷子将釉液刷到陶瓷上，工序较为复杂，导致陶瓷上釉效率较低；现有陶瓷上釉设备虽然在一定程度上提高了陶瓷上釉的效率，降低了工人的劳动强度，但是存在上釉不均匀的问题，容易对陶瓷的质量和品质造成较大的不利影响；且现有的设备无法对不同大小和不同高度的陶瓷进行上釉操作，功能性较差，无法满足多种规格陶瓷上釉的需求。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种能对陶瓷进行快速、全面和均匀上釉操作，有效提高了陶瓷上釉质量，且能满足不同大小和不同高度的陶瓷上釉需求的陶瓷喷涂式均匀上釉装置，以解决上述背景技术中存在的问题。

技术方案是：一种陶瓷喷涂式均匀上釉装置，包括有基座、基板、安装板、伺服电机、安装架、放置板、升降组件、卡紧组件、旋转组件、调节组件和定位组件，所述基板固定设于基座的一端，所述安装板固定设于基板一端的上侧面，所述伺服电机固定设于安装板的一侧面，所述安装架固定设于基板的一侧面，所述升降组件设于安装板上，所述旋转组件设于安装架上，所述放置板设于旋转组件上，所述调节组件设于安装板上且与升降组件连接，所述卡紧组件和定位组件都设于调节组件上。

作为更进一步的优选方案，所述升降组件包括第一小齿轮、长齿条和导向块，所述第一小齿轮通过转轴设于伺服电机的输出轴上，所述导向块固定设于安装板的一侧面且导向块上开设有导向孔，所述长齿条滑动式设于导向块上的导向孔内且与第一小齿轮啮合，所述基板上开设有一滑孔且长齿条能进入到滑孔内。

作为更进一步的优选方案，所述旋转组件包括第一转动轴、第一锥齿轮、第二锥齿轮、第二小齿轮和第二转动轴，所述第一转动轴通过轴承设于安装架上且第一转动轴的一端与放置板的一侧面固接，所述第一锥齿轮固定设于第一转动轴的另一端，所述第二转动轴通过轴承设于安装架上且位于基板的上方，所述第二锥齿轮固定设于第二转动轴的一端且与第一锥齿轮啮合，所述第二小齿轮固定设于第二转动轴的另一端且与长齿条啮合。

作为更进一步的优选方案，所述调节组件包括滑槽板、调节板、螺栓和导向板，所述安装板上开设有第一导向槽，所述导向板滑动式设于第一导向槽内，所述滑槽板固定设于导向板上且长齿条的一端与滑槽板的一侧面固接，所述滑槽板上开设有一螺栓孔，所述螺栓转动式设于螺栓孔内，所述导向板上开设有第二导向槽，所述调节板滑动式设于第二导向槽内且调节板的下端与螺栓的一端转动式连接，所述调节板的材质为铁质。

作为更进一步的优选方案，所述卡紧组件设于调节板上，所述卡紧组件包括连接块、移动杆、第一弹性件、卡块和固定块，所述连接块固定设于调节板的一侧面且连接块上开设一圆孔，所述连接块的材质为铁质，所述移动杆滑动式设于连接块上的圆孔内，所述卡块固定设于移动杆的一端且与连接块滑动式接触，所述卡块的一侧面与连接块之间设有第一弹性件且移动杆穿过第一弹性件，所述固定块固定设于连接块的一侧面且卡块能与固定块接触。

作为更进一步的优选方案，所述定位组件设于调节板的一端，所述定位组件包括套筒、第二弹性件、竖向杆、螺母、螺杆、万向座、万向球和摆杆，所述套筒滑动式设于调节板的一端，所述导向板的一端开设有导向孔且套筒滑动式位于导向孔内，所述第二弹性件固定设于套筒内，所述竖向杆固定设于第二弹性件的一端，所述螺杆与竖向杆的一端固接，所述螺母螺接于螺杆上，所述竖向杆上转动式设有两摆杆且螺母与两摆杆接触，两所述摆杆的一端和螺杆的另一端都固定设有万向座，所述万向球固定设于万向座上。

作为更进一步的优选方案，还包括有第三弹性件和波纹摩擦块，所述放置板上开设有若干凹槽，所述第三弹性件固定设于凹槽内，所述波纹摩擦块固定设于第三弹性件的一端。

作为更进一步的优选方案，还包括有磁铁块，所述磁铁块滑动式设于调节板上且连接块的底侧面与磁铁块的上侧面固接。

本发明的有益效果是：1、本发明中通过升降组件和调节组件配合工作可以带动卡紧组件和定位组件上下移动，从而能对陶瓷的外壁进行全面地上釉操作；且定位组件能在放置板带动陶瓷转动的过程中对陶瓷进行居中定位，从而能使颜釉喷涂地更加均匀。

2、本发明中转动螺栓可以对喷管与陶瓷之间的距离进行调整，通过螺母可以使得两摆杆对不同直径大小的陶瓷起到居中定位的作用，因此可以将不同大小的陶瓷放置到放置板上进行上釉加工。

3、本发明中推动磁铁块上下移动可以对喷管的初始位置进行调节，使得喷管能对不同高度的陶瓷进行全面均匀地上釉操作，从而能够更好地满足不同规格陶瓷的上釉需求。

附图说明

图1为本发明的第一种主视结构示意图。

图2为本发明的第二种主视结构示意图。

图3为本发明的局部立体结构示意图。

图4为本发明调节组件的局部立体结构示意图。

图5为本发明第一种局部主视结构示意图。

图6为本发明第二种局部主视结构示意图。

图7为本发明第三种局部主视结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：1、基座，2、基板，3、安装板，4、伺服电机，5、安装架，6、放置板，7、升降组件，71、第一小齿轮，72、长齿条，74、导向块，8、卡紧组件，81、连接块，82、移动杆，83、第一弹性件，84、卡块，85、固定块，9、旋转组件，91、第一转动轴，92、第一锥齿轮，93、第二锥齿轮，94、第二小齿轮，95、第二转动轴，10、调节组件，101、滑槽板，102、调节板，103、螺栓，104、导向板，105、第一导向槽，106、第二导向槽，107、螺栓孔，11、定位组件，111、套筒，112、第二弹性件，113、竖向杆，114、螺母，115、螺杆，116、万向座，117、万向球，118、摆杆，12、第三弹性件，13、凹槽，14、波纹摩擦块，15、磁铁块。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

具体实施方式一：一种陶瓷喷涂式均匀上釉装置，如图1-7所示，包括有基座1、基板2、安装板3、伺服电机4、安装架5、放置板6、升降组件7、卡紧组件8、旋转组件9、调节组件10和定位组件11，所述基板2固定设于基座1的上端，所述安装板3固定设于基板2一端的上侧面，所述伺服电机4固定设于安装板3的一侧面且位于基板2的上方，所述安装架5固定设于基板2的上侧面且远离安装板3，所述升降组件7设于安装板3上，所述旋转组件9设于安装架5上，所述用于放置陶瓷的放置板6设于旋转组件9上，所述调节组件10设于安装板3上且与升降组件7连接，所述用于对喷管起卡紧作用的卡紧组件8和用于腿陶瓷起支撑定位作用的定位组件11都设于调节组件10上。

具体地，所述升降组件7包括第一小齿轮71、长齿条72和导向块74，所述第一小齿轮71通过转轴设于伺服电机4的输出轴上，所述导向块74固定设于安装板3的一侧面且导向块74上开设有导向孔，所述导向块74位于伺服电机4的下方，所述长齿条72滑动式设于导向块74上的导向孔内且与第一小齿轮71啮合，所述基板2上开设有一滑孔且长齿条72能进入到滑孔内。

具体地，所述旋转组件9包括第一转动轴91、第一锥齿轮92、第二锥齿轮93、第二小齿轮94和第二转动轴95，所述第一转动轴91通过轴承设于安装架5上且第一转动轴91的上端与放置板6的底侧面固接，所述第一锥齿轮92固定设于第一转动轴91的下端且位于安装架5内，所述第二转动轴95通过轴承设于安装架5上且位于基板2的上方，所述第二锥齿轮93固定设于第二转动轴95的一端且与第一锥齿轮92啮合，所述第二小齿轮94固定设于第二转动轴95的另一端且与长齿条72啮合。

具体地，所述用于对卡紧组件8进行调整的调节组件10包括滑槽板101、调节板102、螺栓103和导向板104，所述安装板3上开设有第一导向槽105，所述导向板104滑动式设于第一导向槽105内，所述滑槽板101固定设于导向板104上且长齿条72的上端与滑槽板101的底侧面固接，所述滑槽板101位于伺服电机4的上方，所述滑槽板101上开设有一螺栓103孔，所述螺栓103转动式设于螺栓103孔内，所述导向板104上开设有第二导向槽106，所述调节板102滑动式设于第二导向槽106内且调节板102的下端与螺栓103的一端转动式连接，所述调节板102的材质为铁质，所述螺栓103用于对调节板102的位置进行调节。

具体地，所述卡紧组件8设于调节板102上，所述卡紧组件8包括连接块81、移动杆82、第一弹性件83、卡块84和固定块85，所述连接块81固定设于调节板102的一侧面且连接块81上开设一圆孔，所述连接块81位于滑槽板101的上方，所述连接块81的材质为铁质，所述移动杆82滑动式设于连接块81上的圆孔内，所述卡块84固定设于移动杆82的一端且与连接块81滑动式接触，所述卡块84的一侧面与连接块81之间设有第一弹性件83且移动杆82穿过第一弹性件83，本发明中的弹性件均为弹簧，所述固定块85固定设于连接块81的上侧面且卡块84能与固定块85接触，所述卡块84与固定块85配合工作能将用于对陶瓷进行上釉的喷管夹紧固定。

具体地，所述定位组件11设于调节板102的一端，所述定位组件11包括套筒111、第二弹性件112、竖向杆113、螺母114、螺杆115、万向座116、万向球117和摆杆118，所述套筒111滑动式设于调节板102的一端，所述导向板104的一端开设有导向孔且套筒111滑动式位于导向孔内，所述第二弹性件112固定设于套筒111内，所述竖向杆113固定设于第二弹性件112的下端，所述螺杆115与竖向杆113的下端固接，所述螺母114螺接于螺杆115上，所述竖向杆113上转动式设有两摆杆118且螺母114与两摆杆118接触，所述螺母114用于对两摆杆118的位置进行调节，两所述摆杆118的下端和螺杆115的下端都固定设有万向座116，所述万向球117固定设于万向座116上，所述摆杆118与万向球117配合工作能够在陶瓷转动的过程中对其起到支撑定位的作用。

需要对陶瓷进行喷涂上釉加工时，工作人员将陶瓷放置到放置板6上，然后拉动移动杆82使得卡块84与固定块85分离，将进行喷釉的喷管放置到卡块84与固定块85之间，放好之后工作人员松开移动杆82，第一弹性件83会带动移动杆82和卡块84复位，此时，卡块84与固定块85能将喷管卡紧固定。一切准备工作做好之后，工作人员启动伺服电机4顺时针转动，并且启动喷管，伺服电机4通过第一小齿轮71会带动长齿条72向下移动，长齿条72会带动滑槽板101和调节板102向下移动，调节板102会带动整个卡紧组件8和整个定位组件11向下移动。

定位组件11先向下移动对陶瓷进行定位，然后伺服电机4继续转动，会使得长齿条72向下移动与第二小齿轮94啮合，由于套筒111能够带动竖向杆113、螺母114、螺杆115、摆杆118、万向座116和万向球117向下移动，当摆杆118带动万向座116和万向球117进入到陶瓷内部且万向球117与陶瓷的底部接触时，摆杆118能对陶瓷起到支撑定位的作用，防止放置板6在带动陶瓷转动的过程中陶瓷被甩下来。

当长齿条72向下移动至与第二小齿轮94啮合时会带动第二小齿轮94转动，第二小齿轮94通过第二转动轴95会带动第二锥齿轮93转动，第二锥齿轮93通过第一锥齿轮92会带动第一转动轴91和放置板6转动，放置板6会带动陶瓷转动。长齿条72会一直向下移动进入到基板2上的滑孔内，当喷管向下移动至陶瓷的右侧时能将颜釉喷涂到陶瓷的外壁上进行上釉操作，由于喷管是从上向上移动，放置板6又会带动陶瓷转动，所以喷管可以对陶瓷的外壁进行全面的上釉操作，且能使颜釉均匀地喷涂到陶瓷外壁上。

对一个陶瓷完成外壁上釉操作后，工作人员关闭伺服电机4和喷管，并利用专业的工具将陶瓷从放置板6上取下，将下一个需要进行上釉的陶瓷放置到放置板6上，然后工作人员启动伺服电机4逆时针转动，并且再次启动喷管，伺服电机4通过第一小齿轮71会带动长齿条72向上移动复位，长齿条72会带动滑槽板101和调节板102向上移动复位，调节板102会带动整个卡紧组件8和整个定位组件11向上移动复位，在向上复位的过程中喷管能将颜釉均匀地喷涂到下一个陶瓷的外壁上，由此可以提高陶瓷上釉加工的效率。完成复位后，工作人员将伺服电机4和喷管关闭，并且将下一个陶瓷从放置板6上取下，然后重复上述操作，就可完成对剩余陶瓷的上釉操作。

当将一些直径较大的陶瓷放置到放置板6上进行上釉加工时，工作人员需要先对喷管和螺母114的位置进行调节。工作人员转动螺栓103使得调节板102能够带动整个卡紧组件8向右移动，进而能对喷管与陶瓷之间的距离作出调整，使得喷管在向下移动的过程中能够更好地对直径更大的陶瓷进行均匀地上釉加工；由于套筒111是滑动式设于调节板102上的，所以当调节板102向右移动时整个定位组件11一直是居中位于放置板6的上方，工作人员转动螺母114向上移动，螺母114会将推动两摆杆118向两侧移动，两摆杆118会带动两侧的万向座116和万向球117向两侧移动，进而能够对直径更大的陶瓷起到支撑定位的作用。

具体实施方式二：在具体实施方式二的基础上，如图6所示，还包括有第三弹性件12和波纹摩擦块14，所述放置板6上开设有五个凹槽13，所述第三弹性件12固定设于凹槽13内，所述波纹摩擦块14固定设于第三弹性件12的一端。

波纹摩擦块14的作用就在于增大陶瓷与放置板6之间的摩擦力，从而能防止在对陶瓷进行上釉操作时陶瓷出现左右滑动的情况，便于喷管将颜釉均匀地喷涂到陶瓷的外壁上。

如图7所示，还包括有用于对连接块81的位置进行调整的磁铁块15，所述磁铁块15滑动式设于调节板102上且连接块81的底侧面与磁铁块15的上侧面固接。

磁铁块15的作用就在于对连接块81的初始位置进行调整，进而能够对喷管的初始位置进行调整。当需要对一些高度较高的陶瓷进行上釉加工时，为了使陶瓷的外壁全面均匀地喷涂上.颜釉，工作人员需要推动磁铁块15向上移动，磁铁块15会带动连接块81向上移动，从而使得喷管能处于一个较高的初始位置，方便喷管至上而下地对较高的陶瓷进行上釉；同理，需要对一些高度较矮的陶瓷进行上釉时，工作人员需要推动磁铁块15向下移动，磁铁块15会带动连接块81向下移动，从而使得喷管能处于一个较低的初始位置，由此能对一些高度较矮的陶瓷外壁进行全面上釉。

以上所述实施例仅表达了本发明的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。