专利名称：基板处理装置及处理方法
技术领域：
本发明涉及一种将基板一边以规定角度倾斜输送、一边进行处理的基板处理装置及处理方法。
背景技术：
在使用于液晶显示装置的玻璃制基板上形成有电路图案。为了在基板上形成电路图案，采用了石印(lithographie)工序。如公知地，石印工序是在上述基板上涂敷保护膜，经形成有电路图案的掩膜向该保护膜照射光。
接着，通过多次重复以下工序，即将保护膜的未照射光的部分或被光照射后的部分除去，对基板的除去了保护膜的部分进行蚀刻，在蚀刻后除去保护膜等一连串，由此，在上述基板上形成电路图案。
在如此的石印工序中，具有在上述基板上利用显影液、蚀刻液或在蚀刻后除去保护膜的剥离液等处理液对基板进行处理的工序，以及利用漂洗液进行清洗的工序等，在清洗后需要将附着残留在基板上的漂洗液除去的干燥工序。
以往，在对基板进行上述的一连串处理的情况下，上述基板通过将轴线水平设置的输送辊，以水平状态依次输送到各自的处理处理室，并在此利用处理液进行处理，在处理后，喷射压缩气体进行干燥处理。
但是，使用于液晶显示装置的玻璃制基板，最近有大型化及薄型化的倾向。为此，当水平输送基板时，输送辊之间的基板的挠曲变大，会产生在各处理处理室中的处理难以在基板的整个板面上均匀进行的问题。
此外，当基板变大时，设置了输送该基板的输送辊的输送轴会变长。并且，由于基板变大，向基板上供给的处理液增加，施加在上述输送轴上的载荷对应基板上的处理液量而变大，由此，输送轴的挠曲增大。为此，输送轴的挠曲使基板也会产生挠曲，不能进行均匀处理。
在此，为了防止在利用处理液处理基板时，上述基板因处理液的重量而挠曲，考虑将基板以规定倾斜角度、例如75度的角度倾斜输送。如果倾斜地输送基板，则处理液不会驻留在基板的板面上，而是从上方向下方圆滑地流动，从而能够防止因处理液的重量而产生的基板挠曲。
可是，在对基板连续地进行药液处理、漂洗液处理及干燥处理等多种处理的情况下，处理装置具有将对基板依次进行多种处理的多个处理室成一列地分隔形成的结构。
多个处理室成一列设置的处理装置的长度较大。在此情况下，基板从处理装置的长度方向一端供给，在该装置内输送并处理后，从长度方向另一端排出。从处理装置的长度方向另一端排出的基板被交接给下一个工序。因此，必须在处理装置的长度方向一端与另一端分别进行对述处理装置的基板的供给与排出，因此操作性较差。
因此，为了提高操作性，考虑将基板的输送机与处理装置相平行地配置，将从处理装置的一端供给并处理、从长度方向另一端排出的基板转载于上述输送机上，由该输送机送回到处理装置的长度方向一端，交接给下一个工序。
如果使将从处理装置的长度方向一端供给、在该处理装置处理后从长度方向另一端排出的基板返回到处理装置的长度方向一端，则能够在相同位置进行对处理装置的基板供给和处理后基板向下一个工序的交接，因此能够提高操作性。
但是，由于必须与处理装置相平行地配置输送机，因此，必须确保用于设置输送机的专用空间。为此，无尘室内的空间需要保留与上述输送机相当的余量，降低了空间利用效率。
发明内容
本发明提供一种基板处理装置以及处理方法，在将基板以规定的倾斜角度输送并处理的情况下，不需要多余的空间，能够在相同位置进行对装置主体的基板的供给与排出。
本发明的一种基板处理装置，一边将基板以规定角度倾斜地输送，一边进行处理，其包括装置主体；倾斜输送机构，设置在该装置主体上，将上述基板以规定角度倾斜地输送；处理机构，对由该倾斜输送机构输送的基板进行处理；上部输送机构，设置于上述装置主体的上部，将上述基板以水平状态向与上述倾斜输送机构的输送方向相反的方向输送；第一倾斜交接机构，设置在上述装置主体的至少一端，当接受到由上述上部输送机构水平地输送的上述基板时，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给上述倾斜输送机构。
本发明的一种基板处理方法，一边将基板以规定角度倾斜地输送，一边进行处理，其包括在水平状态下沿水平方向输送上述基板的工序；使以水平状态输送的基板下降的同时，倾斜成上述规定角度的工序；一边将倾斜成规定角度的基板向与水平状态输送的方向相反的方向输送，一边进行处理的工序；将被处理的基板从规定的倾斜角度返回到水平的工序。
最好是，上述基板处理方法包括使被处理后从规定的倾斜角度返回到水平的基板，上升到在上述水平方向输送的高度的工序；将上升的基板在上述水平方向上输送，并在该输送的途中排出的工序。
发明效果根据本发明，由于使水平输送的基板在下降的同时倾斜，向与水平输送方向相反的方向输送并进行处理，因此不需要在装置主体的侧方设置输送机，能够在同一位置进行基板的供给和运出。为此，不需要多余的空间，就能高效率地进行基板的处理。
图1是本发明的一实施方式的处理装置的概略结构的立体图。
图2是上述处理装置的主视图。
图3是上述处理装置的俯视图。
图4是处理单元的分解立体图。
图5是水平交接单元的侧视图。
图6是水平交接单元的主视图。
图7是倾斜交接单元的侧视图。
图8是倾斜交接单元的主视图。
图9是表示处理单元的处理部内部结构的图。
图10是表示本发明的另一实施方式的处理装置的俯视图。
具体实施例方式
以下，参照
本发明的实施方式。
图1至图9示出本发明的第一实施方式，图1是表示本发明的处理装置的概略结构的立体图，图2是主视图，图3是俯视图。上述处理装置具有装置主体1，该装置主体1是将被分割的多个处理单元，在本实施方式中是第一至第五处理单元1A～1E可分解地连接成一列而构成。
如图4所示，各处理单元1A～1E具有支架2。在该支架2的前面，以规定的角度倾斜地保持着箱形的处理部3。在上述支架2和处理部3的上面设有上部输送部4。在上述支架2下端的宽度方向两端，可分解地设有板状的一对支脚5。通过该支脚5，在上述支架2的下面侧形成空间部6。
在上述空间部6收纳有设备部9，该设备部9中将供给处理液的容器、泵或用于控制供给的控制装置等设备7载置在构架8上，该处理液是用于在上述处理部3如后所述地进行的基板W的处理中的药液、漂洗液等。即，各处理单元1A～1E通过用支脚5支承支架2而在处理部3的下方形成空间部6，被分割成位于上下方向的处理部3、上部输送部4及设备部9这三个部分。
上述结构的处理装置不仅能分割为多个处理单元1A～1E，而且各处理单元可分割成处理部3、上部输送部4及设备部9。因此，即使在处理装置大型化的情况下，在搬运时等情况下，不仅可分解为多个处理单元1A～1E，还可以将各处理单元1A～1E分割为处理部3、上部输送部4及设备部9进行处理。
即，不仅是处理装置的装置主体1的长度尺寸、而且高度尺寸也变小地处置，因此，在装载于卡车的载货台时，不会超出限制高度，可以运送。
上述处理部3如图4所示地具有在前面可开闭地设置了盖体11的箱体12。该箱体12以规定的角度、例如相对于垂直线以75度的角度倾斜地保持在上述支架2上，在宽度方向的两侧面形成有使以75度的角度倾斜地输送的基板W通过的隙缝13(只在一个侧面图示)。
在上述箱体12的内部，如图9所示，在箱体12的宽度方向以规定间隔设置了构成倾斜输送机构的多个输送轴15(只图示了一个)。在该输送轴15上，在轴方向以规定间隔设置有多个可旋转的输送辊14。上述输送轴15的上下端通过轴承16可旋转地被支承，轴线按与上述隙缝13相同的倾斜角度倾斜着。
在上述箱体12内，从上述隙缝13如下所述地导入基板W。通过设置于上述输送轴15上的输送辊14，被导入到箱体12内的基板W的非器件设计面、即背面被支承。该基板W的下端被驱动辊17支承。该驱动辊17设置于驱动轴18的一端。该驱动轴18通过轴承19a可旋转地被支承，并且由驱动源19进行旋转驱动。
由此，背面被输送辊14支承、下端被驱动辊17支承的基板W，通过该驱动辊17如下所述地从上述第一处理单元1A向第五处理单元1E以75度的角度倾斜输送。
另外，可以将上述输送辊14固定在输送轴15上，并且对该输送轴15进行旋转驱动，从而将基板W与上述驱动辊17一起输送，或者，也可以是不驱动驱动辊17，只驱动输送辊14来输送基板W。
在各处理单元1A～1E的箱体12内，与以75度的角度倾斜输送的基板W的前表面相对置地设有处理机构20。一边以75度的角度倾斜输送基板W，一边由上述处理机构20处理前表面。
在第一、第二处理单元1A、1B设置的处理机构20是向基板W依次喷射例如剥离液、蚀刻液等药液的第一、第二药液处理机构，在第三、第四处理单元1C、1D设置的处理机构20是向经药液处理的基板W分别喷射漂洗液的漂洗处理机构。在第五处理单元1E设置的处理机构20是向经漂洗处理的基板W喷射气体进行干燥的干燥处理机构。
因此，基板W被供给第一处理单元1A后被输送到第五处理单元1E，由此，可依次进行药液处理、漂洗处理和干燥处理。
如图4所示，上述上部输送部4具有平板状的基部21，在该基部21以规定间隔设有轴线为水平的、且具有输送辊22的多个输送轴23，可通过未图示的驱动源被旋转驱动。基部21由可拆装的罩24覆盖着。
第一处理单元至第五处理单元1A～1E的上部输送部4在装置主体1的上部配置成一列，构成将基板W以水平状态向水平方向输送的上部输送机构。另外，从第五处理单元1E向第一处理单元1A输送基板W。即，朝着与通过设在上述处理部3上的倾斜输送机构即输送辊17输送的方向相反的方向输送基板W。
在上述装置主体1的长度方向一端、即第五处理单元1E侧，设有作为水平交接机构的水平交接单元31。该水平交接单元31具有如图5和图6所示的框体32。在该框体32的上部形成了上部输送部33。在该上部输送部33设置着具有输送辊34的多个输送轴35，该输送轴35的轴线与装置主体1的长度方向正交且可旋转，并且由未图示的驱动源进行旋转驱动。如图6所示，上部输送部33的一端成为以水平状态供给基板W的供给部36，另一端成为送出由上述输送辊34输送的基板W的运出部37。
由未图示的机器人等从上述供给部36供给、并以水平状态从上述运出部37送出的基板W，被送入第五处理单元1E的上部输送部4。被送入第五处理单元1E的上部输送部4的基板W，如上所述地通过各处理单元的上部输送部4以水平状态向处理单元1依次被输送。
在上述框体32内部设有支架41。如图6所示地，在该支架41上通过一对第一轴承42可旋转地支承着枢轴43。在该枢轴43的两端部，设有第二轴承44。一对第二轴承44被安装在平板状的姿势转换部件45下面的规定方向中途部的两端部。
在上述姿势转换部件45的上面可旋转地设置着具有支承辊46的多个支承轴47，该支承轴47的轴线沿与上述枢轴43的轴线正交的方向，并且由未图示的驱动源进行旋转驱动。在上述姿势转换部件45上面的长度方向的一端部，如图5所示地设有端部支承辊48，该端部支承辊48的旋转轴线与上述姿势转换部件45的板面正交。
在上述姿势转换部件45的比上述第二轴承44靠外侧的另一端部，枢轴连接着构成姿势转换机构50的连杆51的一端。该连杆51的另一端枢轴连接在可动体52上。该可动体52可移动地被支承在一对线性导向件53上。该线性导向件53沿上下方向被设置在上述支架41上。
上述可动体52与螺杆53螺纹连接。由驱动源55对该螺杆54进行旋转驱动。如果螺杆54被旋转驱动，则根据其旋转方向，上述可动体52沿线性导向件53上下运动。
在上述可动体52处于下降位置时，上述姿势转换部件45如图5中实线所示，成为水平状态。当从该状态旋转上述螺杆54，将上述可动体52向上升方向驱动时，上述姿势转换部件45从水平状态倾斜成为如图5中点划线所示的规定角度、即75度。
上述姿势转换部件45利用设置在其上面的支承辊46、以75度的倾斜角度接受从第五处理单元1E的处理部3送出的基板W的背面。此时，基板W的下端由端部支承辊48接受。
接受了基板W的姿势转换部件45被旋转驱动至水平状态。即，水平交接单元31接受通过各处理单元1A～1E一边以75度的角度输送一边进行处理后、从第五处理单元1E送出的基板W，将其角度从75度的倾斜角度转换为水平。
在上述装置主体1的长度方向另一端、即第一处理单元1A侧，设有作为倾斜交接机构的倾斜交接单元61。该倾斜交接单元61接受在上述输送部4中被水平地输送来的基板W，在使该基板W下降的同时，倾斜成75度的角度，交接给上述第一处理单元1A的处理部3。
即，上述倾斜交接单元61如图7与图8所示地具有框体62。在该框体62内设有上下可动体63。通过上下驱动机构64在上下方向对上下可动体63进行驱动。
上述上下驱动机构64具有设置于上述上下可支体63的一个侧面上的支承部件65。该支承部件65与沿上下方向设置的线性导向件66可滑动地结合。
在上述框体62的一个侧面上设有螺母67。该螺母67与轴线沿上下方向的螺杆68螺纹连接。螺杆68通过设置于螺杆68下端的驱动源69对该螺杆68进行旋转驱动。由此，上述上下可动体63在上述框体62内沿上下方向被驱动。
如图8所示，在上述上下可动体63上通过一对第一轴承75可旋转地支承着枢轴76。在该枢轴76的两端部设有第二轴承77。一对第二轴承77被安装在作为支承部的姿势转换部件78下面的规定方向中途部。
在上述姿势转换部件78的上面可旋转地设置了具有支承辊79的多个支承轴81，该支承轴81的轴线沿着与上述枢轴76的轴线正交的方向，并且由未图示的驱动源进行旋转驱动。如图7所示，在上述姿势转换部件78上面的长度方向的一端部，设有旋转轴线与上述姿势转换部件78的板面正交的支承辊82。
在上述姿势转换部件78的比上述第二轴承77靠外侧的另一端部侧，枢轴连接着构成姿势转换机构85的连杆84的一端。该连杆84的另一端枢轴连接在支承部件86上。该支承部件86可移动地被支承在线性导向件87上。该线性导向件87沿上下方向被设置在上述上下可动体63上。
上述支承部件86与螺杆88螺纹连接。该螺杆88由驱动源89进行旋转驱动。如果螺杆88被旋转驱动，则根据其旋转方向，上述支承部件86沿上述线性导向件87上下移动。
当上述支承部件86处于下降位置时，上述姿势转换部件78如图7中实线所示地成为水平状态。当从该状态旋转上述螺杆88将上述支承部件86向上升方向驱动时，上述姿势转换部件78从水平状态倾斜成为如图7中点划线所示的规定角度、即75度。
姿势转换部件78如图7中实线所示地通过姿势变换机构85维持水平状态，并通过上下驱动机构64被驱动至该图中点划线所示的上升位置。被驱动至上升位置的姿势转换部件78定位在与第一处理单元1A的上部输送部4相同的高度。
由此，从第五处理单元1E的上部输送部4以水平状态被输送至第一处理单元1A的上部输送部4的基板W，被交接给设在上述姿势转换部件78上的支承辊79。
当在姿势转换部件78接受到基板W时，上下驱动机构64工作，使该姿势转换部件78开始下降，并且与其下降相联动，姿势转换机构85工作，将姿势转换部件78从水平状态倾斜到75度的角度。
倾斜到75度角度的基板W，其背面由上述姿势转换部件78的支承辊79支承，其下端由端部支承辊82支承。然后，设有上述支承辊79的支承轴81被旋转驱动，由此将上述基板W从上述倾斜交接单元61送入上述第一处理单元1A。
接着，说明通过上述结构的处理装置进行的基板W的处理工作。
未处理的基板W通过未图示的机器人等被供给到水平交接单元31的上部输送部33的供给部36。供给至上述输送部33的基板W通过设置在该上部输送部33的输送辊34从运出部37送出，送入到第五处理单元1E的上部输送部4。
被送入到第五处理单元1E的上部输送部4的基板W，以水平状态在各处理单元1D～1E的上部输送部4沿水平方向被输送，从第一处理单元1A的上部输送部4交接给倾斜交接单元61。
即，倾斜交接单元61中，其姿势转换部件78以水平状态上升，在与上述第一处理单元1A的上部输送部4相同的高度上等待。因而，被输送到第一处理单元1A的上部输送部4的基板W，从该上部输送部4交接给上述姿势转换部件78的支承辊79。
当姿势转换部件78接受到基板W时，上述倾斜交接单元61的上下驱动机构64动作，使上述姿势变换部件78下降，同时，姿势转换机构85动作，使上述姿势转换部件78从水平状态倾斜至75度的角度。
通过设置在姿势转换部件78上的支承辊79被旋转驱动，与上述姿势转换部件78一起倾斜75度角度的基板W被送入第一处理单元1A内，由设置在该处理部3内的输送轴15上的输送辊14支承其背面，其下端由驱动辊17支承。然后，通过驱动辊17被旋转驱动，将基板W倾斜75度角度地从第一处理单元1A向第五处理单元输送。
在通过倾斜交接单元61将基板W从第一处理单元1A的上部输送部4向该处理单元1A的处理部3交接时，能够利用上述姿势转换部件78同时进行基板W的下降与倾斜。因此，与分别地进行基板W的下降与倾斜时相比，能够缩短生产节拍时间。
从第一处理单元1A向第五处理单元1E输送被供给第一处理单元1A的基板W。在输送基板W的过程中，由各处理单元1A～1E的处理机构20依次进行规定的处理。
即，在第一、第二处理单元1A、1B进行药液处理，在第三、第四处理单元1C、1D进行漂洗药液的漂洗处理。然后，在第五处理单元1E进行除去附着在基板W上的漂洗液的干燥处理。
在第五处理单元1E进行了干燥处理的基板W被交接给水平交接单元31。即，水平交接单元31的姿势变换部件45在倾斜75度角度的状态下等待。由此，从第五处理单元1E送出的基板W的背面，由上述姿势转换部件45的支承辊46支承。
当姿势转换部件45接受到基板W时，姿势转换机构50的驱动源55工作，将可动体52向下降方向驱动。由此，上述姿势转换部件45通过连杆51将姿势从倾斜状态转换为水平状态。然后，姿势转换为水平的基板W由未图示的机器人等取出，交接给下一个工序。
如此地，根据本实施方式的处理装置，未处理的基板W在设置于装置主体1上部的第五处理单元至第一处理单元1E～1A的上部输送部4水平地被输送，并交接给倾斜交接单元61的姿势转换部件78。然后，与该姿势转换部件78一起下降的同时，倾斜75度角度，供给第一处理单元1A的处理部3。
在倾斜的状态下，一边朝着与通过上部输送部4水平输送的方向相反的方向、即从第一处理单元1A向第五处理单元1E输送倾斜了75度的基板W，一边在各处理单元进行规定的处理。
即，为了对基板W进行规定的处理，将该基板W的输送路径设定为从图2中的箭头X所示的装置主体1的一端上方供给，在另一端一边下降一边倾斜之后，一边从另一端向着一端输送、一边进行处理，并且，如该图的箭头Y所示地，从另一端水平地排出。即，基板W的输送路径的侧面形状大致成“コ”字形。
因此，能够在装置主体1的一端利用例如一台交接用的机器人进行对装置主体1的基板W的供给与送出，因此，能够提高操作性并实现设备的有效利用。
而且，通过在装置主体1的上部设置上部输送部4，能够确保侧面形状为大致“コ”字形的基板W的输送路径。因此，除了设置装置主体1的空间以外，不需要更多的空间，从而能够有效地利用无尘室的空间。
由上部输送部4水平地被输送到装置主体1的另一端的基板W，通过倾斜交接单元51同时进行下降和倾斜，交接给第一处理单元1A。
因此，与分别进行基板W的下降和倾斜时相比，不仅能够缩短交接所需的时间，而且，仅利用倾斜交接单元61就能进行基板W的下降和倾斜，所以能够实现装置的小型化。
在上述的一实施方式中，在装置主体1的一端设置水平交接单元31，在另一端设置倾斜交接单元61，从装置主体1的一端供给基板，向另一端输送，在侧面形状呈“コ”字形的输送路径折转后，从装置主体1的一端送出。
除此之外，图10所示的处理装置是，在装置主体1的第一处理单元1A侧的端部设置第一倾斜交接单元61A，在第五处理单元1E侧的端部设置第二倾斜交接单元61B。这些第一交接单元61A、第二交接单元61B与上述一实施方式中示出的倾斜交接单元61具有相同结构。
另一方面，如该图中的箭头S所示地，利用机器人等从第三处理单元1C的上部输送部4供给未处理的基板W。供给第三处理单元1C的上部输送部4的基板W，水平地向第一处理单元1A输送，从该第一处理单元1A的上部输送部4交接给在第一倾斜交接单元61A的上升位置以水平状态等待的姿势转换部件78。
接受了基板W的姿势转换部件78一边下降一边倾斜，使基板W倾斜75度角度，交接给第一处理单元1A的处理部4。朝着第五处理单元1E输送被供给第一处理单元1A的处理部4的基板W，在该输送过程中进行规定的处理。
在第五处理单元1E进行了处理的基板W，被交接给在第二倾斜交接单元61B的倾斜75度角度的下降位置等待的姿势转换部件78。接受了基板W的姿势转换部件78，从倾斜状态向水平方向一边旋转一边上升。
被保持于在上升位置成为水平的姿势转换部件78上的基板W，从第五处理单元1E的上部输送部4输送到第三处理单元1C的上部输送部，在此，如该图中的箭头O所示地，由未图示的机器人等运出。
即，在本实施方式中，通过在装置主体1的一端与另一端分别设置倾斜交接单元61A、61B，能够用成一列地设置在装置主体1上部的上部输送部4中的、位于中途部的第三处理单元1C的上部输送部4进行基板W的供给和送出。
即，在装置主体1的长度方向的端部不能确保向该装置主体1供给基板W或从该装置主体1运出基板W的操作空间等情况下，能够在装置主体1的长度方向中途部的侧方的相同位置，对该装置主体1进行基板W的供给和运出。
此外，在图10所示的实施方式中，也可以是，从倾斜输送单元61B的上部供给未处理的基板W，在上述输送部4上输送，并以水平状态交接给第一倾斜输送单元61A，接着，将基板W倾斜75度后，在第一处理部至第五处理部3中依次输送并处理后，在第二倾斜输送单元61B将姿势转换为水平，当位于该位置或与转换为水平时，使其同时上升，并从该上升位置送出。
在上述一实施方式中，在装置主体的一端设置水平交接单元，将未处理的基板经由该水平交接单元的上部输送部交接给第五处理单元1E的上部输送部，但也可以是，将基板直接供给第五处理单元1E的上部输送部。
权利要求
1.一种基板处理装置，一边将基板以规定角度倾斜地输送，一边进行处理，其特征在于，包括装置主体；倾斜输送机构，设置在该装置主体上，将上述基板以规定角度倾斜地输送；处理机构，对由该倾斜输送机构输送的基板进行处理；上部输送机构，设置于上述装置主体的上部，当供给上述基板时，以水平状态输送该基板；第一倾斜交接机构，设置在上述装置主体的一端，接受由上述上部输送机构水平地输送来的上述基板，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给上述倾斜输送机构。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在上述装置主体的另一端设有水平交接机构，该水平交接机构在接受了由上述第一倾斜交接机构以规定的倾斜角度交接给上述倾斜输送机构、并且由上述处理机构进行了处理的基板后，将该基板从规定的倾斜角度转换为水平。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在上述装置主体的另一端设有第二倾斜交接机构，该第二倾斜交接机构在接受了由上述第一倾斜交接机构以规定的倾斜角度交接给上述倾斜输送机构、并且由上述处理机构进行了处理的基板后，在使该基板从规定的倾斜角度转换为水平的同时，使该基板上升至可交接给上述上部输送机构的位置。
4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述上部输送机构设置在上述装置主体的长度方向的全长上；从上述上部输送机构的长度方向中途部供给上述基板，将上述基板输送到上述第一倾斜交接机构后交接给上述倾斜输送机构、且由上述处理部进行处理之后，从上述第二倾斜交接机构交接给上述上部输送机构，并且从该上部输送机构的长度方向中途部排出。
5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述第一倾斜交接机构及第二倾斜交接机构包括支承部，具有接受上述基板的支承辊；上下可动体，可旋转地支承该支承部，并且通过上下驱动机构在上下方向上被驱动；旋转驱动机构，设置在该上下可动体上，使上述支承部向水平的状态和倾斜规定角度的状态旋转。
6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述装置主体被分割为多个处理单元，各处理单元可以被分割成处理部，具有上述处理机构和上述倾斜输送机构的一部分；上部输送部，具有设置在该处理部的上部的上述上部输送机构的一部分；以及设备部，设置在上述处理部的下部。
7.一种基板处理方法，一边将基板以规定角度倾斜地输送，一边进行处理，其特征在于，具有在水平状态下沿水平方向输送上述基板的工序；使以水平状态输送的基板下降的同时，倾斜成上述规定角度的工序；一边将倾斜成规定角度的基板在倾斜状态下输送，一边进行处理的工序；将被处理的基板从规定的倾斜角度返回到水平的工序。
8.如权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，具有使被处理后从规定的倾斜角度返回到水平的基板，上升到在上述水平方向输送的高度的工序；将上升的基板以水平状态在上述水平方向输送，并在该输送的途中排出的工序。
全文摘要
提供一种基板处理装置，不仅减小设置空间，而且能够在相同场所进行基板的供给和送出。该基板处理装置具有装置主体(1)；输送辊，设置在装置主体上，将基板以规定角度倾斜地输送；处理部(3)，对由输送辊输送的基板进行处理；上部输送部(4)，设置于装置主体的上部，将基板在水平状态下向与倾斜输送的输送方向相反的方向输送；倾斜交接单元(61)，设置在装置主体的至少一端，接受由上部输送部水平地输送的基板，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给输送辊。
文档编号G02F1/1333GK1903683SQ20061010746
公开日2007年1月31日 申请日期2006年7月25日 优先权日2005年7月25日
发明者广濑治道, 末吉秀树 申请人:芝浦机械电子株式会社