专利名称：一种镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜机，特别涉及一种可以精确控制镀膜厚度的镀膜机。
背景技术：
现有的镀膜机是采用光控的膜厚控制仪来控制膜层的厚度，它的原理是利用光的干涉来监测膜厚，当光亮最小的时候，膜厚达到设定波长的1/4的光学厚度。这种技术不能控制非规整的膜厚，这是由于非规整的膜厚用光控的方法控制时，还没有走到极值就必须要判停，不能达到所需要的膜厚；而且光控不能控制很薄的膜厚；同时，光控的操作重复性较差，不能精确地保证每次镀膜的厚度一致
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种镀膜机，以达到可以精确控制镀膜的厚度的目的。为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下一种镀膜机，包括真空腔室和设于所述真空腔室上部并由电机驱动旋转的镀膜伞，所述镀膜伞中心到边缘的不同半径的位置上设有工件放置孔，所述镀膜伞一侧中心到边缘的中间位置处下方设置有蒸发源，所述镀膜伞中心位置处设有传感器，所述传感器与精密膜厚控制仪相连。优选地，所述传感器内部横向设有一水晶片。通过上述技术方案，本实用新型提供的镀膜机在镀膜伞的中心位置处设有传感器，且该传感器与精密膜厚控制仪相连，能够实现膜厚的高精度控制，确保膜厚的控制性能
可靠稳定。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。图I为本实用新型实施例所公开的一种镀膜机的示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。本实用新型提供了一种镀膜机，如图I所示的结构示意图，该镀膜机可以精确控制镀膜的厚度，性能稳定可靠。所述镀膜机，包括真空腔室I、电机2、镀膜伞3和蒸发源4。镀膜伞3设于真空腔室I的上部，其中心处通过转轴5连接有电机2，可由电机2驱动其旋转；镀膜伞3中心到边缘的不同半径的位置上环形阵列有数个工件放置孔31，用以放置工件；镀膜伞3 —侧中心到边缘的中间位置处下方设置有蒸发源4，于此，即为镀膜伞3弧形伞面一侧的二分之一位置处下方设置有蒸发源4 ;本实施例中，由蒸发物质41置于坩埚内作为蒸发源4。镀膜伞3中心位置处还设有传感器6，传感器6与精密膜厚控制仪7相连，本实施例中的传感器6内部横向设有一水晶片(图中未显示)，通过水晶片的振动，在精密膜厚控制仪7上可以显示出振荡频率变化曲线，频率与膜层的质量成反比例关系，由于蒸发物质的密度是一定的，通过膜层增加的质量可以算出膜层增加的体积，水晶片的面积也是一定的，进而可以算出增加的膜层厚度。本实用新型提供的镀膜机在镀膜伞的中心位置处设有传感器，且该传感器与精密膜厚控制仪相连，能够实现膜厚的高精度控制，确保膜厚的控制性能可靠稳定，而且能够控制很薄的膜层，适用范围广。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
权利要求1.一种镀膜机，包括真空腔室和设于所述真空腔室上部并由电机驱动旋转的镀膜伞，所述镀膜伞中心到边缘的不同半径的位置上设有工件放置孔，所述镀膜伞一侧中心到边缘的中间位置处下方设置有蒸发源，其特征在于，所述镀膜伞中心位置处设有传感器，所述传感器与精密膜厚控制仪相连。
2.根据权利要求I所述的一种镀膜机，其特征在于，所述传感器内部横向设有一水晶片。
专利摘要本实用新型公开了一种镀膜机，包括真空腔室和设于所述真空腔室上部并由电机驱动旋转的镀膜伞，所述镀膜伞中心到边缘的不同半径的位置上设有工件放置孔，所述镀膜伞一侧中心到边缘的中间位置处下方设置有蒸发源，所述镀膜伞中心位置处设有传感器，所述传感器与精密膜厚控制仪相连，本实用新型所公开的镀膜机能够实现膜厚的高精度控制，确保膜厚的控制性能可靠稳定，而且能够控制很薄的膜层，适用范围广。
文档编号C23C14/54GK202766612SQ20122038857
公开日2013年3月6日 申请日期2012年8月7日 优先权日2012年8月7日
发明者许峰 申请人:苏州市博飞光学有限公司