1.一种镀膜设备，其特征在于，包括储料室、镀膜室和开关，所述储料室和镀膜室通过开关打开或关闭两者的连通，所述储料室内腔中存储待镀膜基材，所述储料室设有抽气口，所述抽气口处安装有真空泵，所述抽气口靠近储料室内腔一侧安装有导流罩，所述导流罩设有进气口，所述抽气口与所述进气口连通形成气流通道，所述导流罩用于减少真空泵工作时气流与待镀膜基材的接触几率。
2.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于，以与抽气口平行的平面为基准平面，所述抽气口、进气口、待镀膜基材分别正投影到基准平面上，所述进气口的投影面积与待镀膜基材的投影面积重叠的第一面积小于所述抽气口的投影面积与待镀膜基材的投影面积重叠的第二面积。
3.如权利要求1所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述抽气口朝向所述待镀膜基材设置，所述进气口至少部分位于所述导流罩的侧壁上，所述侧壁与导流罩面向所述待镀膜基材的底壁相异。
4.如权利要求3所述的一种镀膜设备，其特征在于，经过所述抽气口的气流的延长线与经过所述进气口的气流的延长线相交，且两个延长线的形成的角度为75°-105°。
5.如权利要求3所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述导流罩面向所述待镀膜基材的底壁朝向抽气口方向形成上拱的凸部。
6.如权利要求5所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述导流罩呈倒“凹”字型。
7.如权利要求3所述的一种镀膜设备，其特征在于是，所述进气口的数量为两个，且两所述进气口位于导流罩相对的两侧壁上。
8.如权利要求1-7之一所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述进气口设有导风百叶，所述导风百叶倾斜设置且导风百叶的内端朝向所述抽气口方向，且导风百叶的内端高度高于外端。
9.如权利要求1-7之一所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述真空泵为分子泵。
10.如权利要求1-7之一所述的一种镀膜设备，其特征在于，所述镀膜室采用物理气象沉积法对待镀膜基材进行镀膜。