本发明涉及tft-lcd技术领域，具体涉及一种tft-lcd玻璃基板的制作方法。
背景技术：
在显示技术领域，液晶显示器(liquidcrystaldisplay，lcd)与有机发光二极管显示器(organiclightemittingdiode，oled)等平板显示技术已经逐步取代阴极射线管(cathoderaytube，crt)显示器。基于平面光源技术的平面显示器已经接近市场化量产水平。在这些平面显示器中，一般将玻璃基板作为衬底基板并在其表面形成各种膜层结构。随着显示技术的发展，显示装置的轻薄化是当今的发展趋势，其中一个方向就是使用超薄玻璃基板作为显示面板的衬底基板。因此，玻璃基板的薄型化是平面显示器产品实现薄型化的核心技术。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种tft-lcd玻璃基板的制作方法。
本发明提供如下技术方案：
一种tft-lcd玻璃基板的制作方法，包括以下步骤：
(1)提供玻璃基板，对所述玻璃基板进行抛光制程；
(2)将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时，热收缩率小于或等于30ppm，平均表面粗糙度ra小于或等于0.3nm；
(3)将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻处理。
所述玻璃基板由应变点大于或等于600℃的玻璃形成。
所述蚀刻液为氢氟酸和浓硫酸组成的混合物。
所述抛光制程是控制研磨平台使其与玻璃基板之间产生相对运动，从而通过抛光粉与玻璃基板之间的摩擦实现对所述玻璃基板表面的抛光。
所述玻璃基板由液相粘度大于或等于106dpa·s的玻璃形成。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过对玻璃基板进行薄化制程前先对玻璃基板进行抛光制程，减少玻璃基板表面的凹凸点、刮伤等不良，然后在对玻璃基板的薄化制程中采用向玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液的方法，对玻璃基板进行蚀刻，蚀刻的同时采用清洁工具对蚀刻过程中所述玻璃基板上聚集的玻璃砂进行清洁，以避免玻璃砂沉积而导致凸点的产生，从而在实现玻璃基板薄化的同时，有效避免了凹凸点、刮伤、碎亮点等不良的产生，提升了制程的良率。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一种tft-lcd玻璃基板的制作方法，包括以下步骤：
(1)提供玻璃基板，对所述玻璃基板进行抛光制程；
(2)将上述经抛光处理的玻璃基板从常温开始以12℃/分钟的速度进行升温、将保持温度设定为在450℃下保持10小时、然后以10℃/分钟的速度进行降温时，热收缩率小于或等于30ppm，平均表面粗糙度ra小于或等于0.3nm；
(3)将上述经热处理后的玻璃基板的两侧表面喷淋蚀刻液，对所述玻璃基板进行蚀刻处理。
所述玻璃基板由应变点大于或等于600℃的玻璃形成。
所述蚀刻液为氢氟酸和浓硫酸组成的混合物。
所述抛光制程是控制研磨平台使其与玻璃基板之间产生相对运动，从而通过抛光粉与玻璃基板之间的摩擦实现对所述玻璃基板表面的抛光。
所述玻璃基板由液相粘度大于或等于106dpa·s的玻璃形成。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。