一种用于硅片清洗的清洗装置的制作方法

文档序号:11307814阅读:355来源:国知局
一种用于硅片清洗的清洗装置的制造方法

本实用新型涉及半导体单晶硅片生产技术领域,具体涉及一种用于硅片清洗的清洗装置。



背景技术:

在生产半导体单晶硅片的过程中,为了去除磨片加工过程中产生的损伤层,需要将承载硅片的片盒架放入酸腐蚀机中对硅片进行腐蚀处理。经过酸腐蚀处理的硅片需要再放入清洗装置内进行清洗,目前的清洗装置工序复杂,耗费大量人力,且清洗效果不佳,返洗率高,严重影响生产效率和产品质量。



技术实现要素:

为了解决硅片清洗复杂、清洗效果不佳以及返洗率高的技术问题,本实用新型的目的是提供一种用于硅片清洗的清洗装置,使经酸腐蚀后的硅片不用从片盒架中移出清洗,节省人工,且在清洗过程中承载硅片的片盒架通过联动插杆固定在摆动底座上,并由摆动底座带动其摆动,使清洗水透过硅片与硅片之间的狭缝对硅片进行清洗,清洗效果更好,并降低返洗率。

本实用新型所采用的技术方案是:一种用于硅片清洗的清洗装置,包括清洗水槽、设置在清洗水槽内的摆动底座和用于放置待清洗硅片的片盒架,片盒架通过联动插杆可拆卸的设置在摆动底座上,所述摆动底座包括用于承载片盒架的承物板,承物板底壁中部设置有带动承物板往复定格摆动的摆动轴,摆动轴由摆动气缸带动其摆动,所述片盒架由片台和固定安装在片台上且其上承载有待清洗硅片的片盒构成,片台上开设有插杆孔a,承物板上开设有插杆孔b,插杆孔a和插杆孔b在竖直方向上的投影相重合,联动插杆穿设在插杆孔a和插杆孔b内从而将片台和承物板连接在一起,进而使摆动底座带动片盒架往复摆动,以使硅片在清洗水槽内得到彻底清洗,所述联动插杆由J形握杆和与J形握杆螺纹连接的销钉头构成,J形握杆直杆体的一端具有沿轴向的螺纹通孔,销钉头上设置有与螺纹通孔相配合的外螺纹。

所述J形握杆为实心聚丙烯握杆。

所述片盒通过连接架与片台连接。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

一、本实用新型所述的一种用于硅片清洗的清洗装置,将经过酸腐蚀处理后的硅片连同片盒架通过联动插杆安装在摆动底座上,使硅片在清洗水槽中实现往复摆动,使清洗水有力冲击硅片表面,清洗更彻底,提高了清洗效率,并降低返洗率;

二、通过联动插杆将片盒和摆动底座连接,不再需要将硅片拿出来清洗,大大节省人工,提高生产效率,且联动插杆具有J形握杆,J形握杆为实心聚丙烯握杆,使得操作人员更容易抓取、安装和拆卸,提高操作人员的工作效率,J形握杆与销钉头通过螺纹连接,强度更高,销钉头不易从J形握杆上脱落,延长联动插杆的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型用于硅片清洗的清洗装置的结构示意图;

图2是本实用新型中的J形握杆的结构示意图;

图3是本实用新型中的销钉头的结构示意图;

图中标记:1、清洗水槽,2、摆动底座,201、摆动气缸,202、承物板,203、摆动轴,3、片盒架,301、片台,302、片盒,303、连接架,4、联动插杆,401、J形握杆,402、销钉头,403、螺纹通孔,404、外螺纹。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作详细说明,本实施例以本实用新型技术方案为前提,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本实用新型的保护范围不限于下述的实施例。

如图所示,一种用于硅片清洗的清洗装置,包括清洗水槽1、设置在清洗水槽1内的摆动底座2和用于放置待清洗硅片的片盒架3,片盒架3通过联动插杆4可拆卸的设置在摆动底座2上,所述摆动底座2包括用于承载片盒架3的承物板202,承物板202底壁中部设置有带动承物板202往复定格摆动的摆动轴203,摆动轴203由摆动气缸201带动其摆动,摆动轴203的两端均延伸至清洗水槽1外部,摆动轴203的一端与摆动气缸201的往复滑块连接,另一端穿设在限位支架上,且限位支架不影响摆动轴203摆动。

所述片盒架3由片台301和固定安装在片台301上且其上承载有待清洗硅片的片盒302构成,片台301上开设有插杆孔a,承物板202上开设有插杆孔b,插杆孔a和插杆孔b在竖直方向上的投影相重合,联动插杆4穿设在插杆孔a和插杆孔b内从而将片台301和承物板202连接在一起,进而使摆动底座2带动片盒架3往复摆动,以使硅片在清洗水槽1内得到彻底清洗,所述联动插杆4由J形握杆401和与J形握杆401螺纹连接的销钉头402构成,J形握杆401直杆体的一端具有沿轴向的螺纹通孔403,销钉头402上设置有与螺纹通孔403相配合的外螺纹404。

以上为本实用新型的基本实施方式,可在以上基础上做进一步的改进、优化和限定:

如,所述J形握杆401为实心聚丙烯握杆。

又如,所述片盒302通过连接架303与片台301连接。

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